专利名称：一种双列角接触轴承的制作方法
技术领域：
:本实用新型涉及一种轴承，尤其是一种双列角接触轴承。
技术背景:轴承是机械传动机构中的支承件，用于确定旋转轴与其它零件相对运动位置，它的质量直接影响机械整机的工作性能，通过轴承的运转带动相关机构的运动。轴承内部的润滑作用非常重要，在工作过程中承受压力和疲劳冲击摩擦等复杂受力，特别是在与轴承相连的机构产生摩擦时,对相摩擦的各个部件会产生一定的损耗,对轴承造成损坏
实用新型内容
:本实用新型的目的是针对上述现有技术的不足提供一种双列角接触轴承，能够增强轴承内部的润滑剂吸附，提高润滑效果，减小内圈与保持架及滚动体之间的摩擦损耗，实现更高效的运转为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案为:一种双列角接触轴承，包括两个内圈、外圈、保持架、滚动体和第一密封圈，内圈的外侧面和外圈的内侧面上开设有可以容纳滚动体的弧槽，滚动体嵌装于保持架内，保持架位于内圈与外圈之间，所述的内圈在外侧面底部开设有凹槽，凹槽与弧槽之间设有磨砂层，所述的磨砂层直接在内圈上打磨形成；在内圈及外圈之间还设有固定圈，所述的固定圈嵌入凹槽中，固定圈与保持架将滚动体固定，两个内圈之间还设有第二密封圈。本实用新型的有益效果是:本实用新型与现有技术相比，轴承内部的对于润滑剂的吸附效果更强，轴承运转更加高效。
:图1为本实用新型立体图；图2为图1的A-A剖视图；图3为内圈主视图；图4为图3的C-C剖视图；图5为保持架结构示意图；图6为图4的B-B剖视图。图中:1.内圈，2.外圈，3.保持架，4.滚动体，5.第一密封圈，6.弧槽，7.凹槽，8.磨砂层,9.固定圈，10.第二密封圈。
具体实施方式
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以下结合附图，并结合实施例，对本实用新型做进一步说明。如图所示,本实用新型包括两个内圈1、外圈2、保持架3、滚动体4和第一密封圈5，内圈I的外侧面和外圈2的内侧面上开设有可以容纳滚动体4的弧槽6，滚动体4嵌装于保持架3内，保持架3位于内圈I与外圈2之间，所述的，凹槽7与弧槽6之间设有磨砂层
8,所述的磨砂层8直接在内圈I上打磨形成；在内圈I及外圈2之间还设有固定圈9,所述的固定圈9嵌入凹槽7中，固定圈9与保持架3将滚动体4固定，两个内圈I之间还设有第二密封圈10本实用新型的工作原理是:凹槽7与弧槽6之间设有磨砂层8，磨砂结构有利于储存润滑剂，同时，内圈I在外侧面底部开设有凹槽7，可防止润滑剂溢出。
权利要求1.一种双列角接触轴承，包括两个内圈(I)、外圈(2 )、保持架(3 )、滚动体(4)和第一密封圈(5)，内圈(I)的外侧面和外圈(2)的内侧面上开设有可以容纳滚动体(4)的弧槽(6)，滚动体(4)嵌装于保持架(3)内，保持架(3)位于内圈(I)与外圈(2)之间，其特征在于:所述的内圈(I)在外侧面底部开设有凹槽(7)，凹槽(7)与弧槽(6)之间设有磨砂层(8)，所述的磨砂层(8)直接在内圈(I)上打磨形成；在内圈(I)及外圈(2)之间还设有固定圈(9),所述的固定圈(9)嵌入凹槽(7)中，固定圈(9)与保持架(3)将滚动体(4)固定，两个内圈(I)之间还设有第二密封圈(10)。
专利摘要本实用新型涉及一种双列角接触轴承，包括两个内圈、外圈、保持架、滚动体和第一密封圈，内圈的外侧面和外圈的内侧面上开设有可以容纳滚动体的弧槽，滚动体嵌装于保持架内，保持架位于内圈与外圈之间，所述的内圈在外侧面底部开设有凹槽，凹槽与弧槽之间设有磨砂层，所述的磨砂层直接在内圈上打磨形成；在内圈及外圈之间还设有固定圈，所述的固定圈嵌入凹槽中，固定圈与保持架将滚动体固定， 两个内圈之间还设有第二密封圈。本实用新型与现有技术相比，轴承内部的对于润滑剂的吸附效果更强，轴承运转更加高效。
文档编号F16C33/58GK202937625SQ20122065359
公开日2013年5月15日 申请日期2012年11月29日 优先权日2012年11月29日
发明者邢剑杰, 周建东 申请人:周建东