一种用于蓄热式氧化炉的密闭阀的制作方法

本实用新型涉及环保技术领域，具体地说是一种能够使得底座与阀板紧密贴合以提高RTO设备废气净化率的用于蓄热式氧化炉的密闭阀。

背景技术：

现有的蓄热式氧化炉（RTO）一般包括燃烧室、燃烧器和陶瓷蓄热床，燃烧室的进气口和排气口上分别安装有蓄热式氧化炉(RTO)专用阀门。采用现有的蓄热式氧化炉RTO净化有机废气时，首先，通过燃烧器加热陶瓷蓄热床，使燃烧室内加热至设定的高温环境；然后，将常温的有机废气从燃烧室进气口上的蓄热式氧化炉RTO专用阀门进入到燃烧室内，这样，有机废气经过入口端的高温陶瓷蓄热床的加热后，在燃烧室内的高温环境中，与空气中的氧气发生氧化反应，生成二氧化碳和水，二氧化碳和水经过出口端的陶瓷蓄热床的热量吸收，再排放到大气中，从而实现净化有机废气，并回收有机废气氧化时所释放出来的热量。在设备运行过程中，现有的蓄热式氧化炉RTO对进出口高温废气所进行控制的阀门经常出现废气泄漏现象。

蓄热式氧化炉RTO的燃烧室内要求处于高温环境中，所以RTO阀门需要由耐高温材料制作而成。由于蓄热式氧化炉RTO净化的是有机废气，而有机废气中含有挥发性有机物，如果蓄热式氧化炉RTO发生泄漏，就会对环境造成严重的污染，因此，蓄热式氧化炉RTO对其专用阀门的密封性能的要求非常高，而现有的密闭阀仍有废气泄露风险，导致进出气管短路问题。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对现有技术存在的问题，提供一种能够使得底座与阀板紧密贴合以提高RTO设备废气净化率的用于蓄热式氧化炉的密闭阀。

本实用新型的目的是通过以下技术方案解决的：

一种用于蓄热式氧化炉的密闭阀，包括阀门轴、底座和阀板，其特征在于：所述底座的外侧壁上固定有定位件，定位件与底座的外侧壁构成一个环状凹槽，在该环状凹槽内嵌置固定有能够与阀板相配合的密封圈。

所述的密封圈朝向阀板的部分凸出于底座的平面设置。

所述密封圈的外缘位于阀板的外缘内侧。

所述的密封圈采用硅橡胶制成。

所述阀板的两侧皆设置阀板压板且阀板的外侧凸出于阀板压板，阀板和阀板压板采用螺栓螺母固定且相配合的阀板和阀板压板通过螺栓螺母固定在加强板上，该加强板固定在阀门轴上。

所述的阀板采用不锈钢制成。

所述的螺栓螺母上配置有平垫弹垫。

本实用新型相比现有技术有如下优点：

本实用新型通过在底座的外侧壁上设置能够与阀板相配合的密封圈，使得底座与阀板能够通过密封圈紧密贴合，对改善进出口管道短路问题有极大作用，并能够提高RTO设备的废气净化率。

附图说明

附图1是本实用新型的用于蓄热式氧化炉的密闭阀的结构示意图。

其中：1—阀门轴；2—底座；3—阀板压板；4—阀板；5—加强板；6—螺栓螺母；7—密封圈；8—定位件；9—炉壁；10—气缸。

具体实施方式

下面结合附图与实施例对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示：一种用于蓄热式氧化炉的密闭阀，包括阀门轴1、底座2和阀板4，采用304不锈钢制成的阀板4的两侧皆设置阀板压板3且阀板4的外侧凸出于阀板压板3，阀板4和阀板压板3采用螺栓螺母6固定且相配合的阀板4和阀板压板3通过螺栓螺母6固定在加强板5上，该加强板5固定在阀门轴1上；上述的螺栓螺母6上配置有平垫弹垫。在底座2的外侧壁上固定有定位件8，定位件8与底座2的外侧壁构成一个环状凹槽，在该环状凹槽内嵌置固定有能够与阀板4相配合的密封圈7，该密封圈7朝向阀板4的部分凸出于底座2的平面设置且密封圈7的外缘位于阀板4的外缘内侧。

上述的密封圈7采用耐高温、抗老化的硅橡胶制成。硅橡胶密封圈7与其他密封材料相比更有以下优点：1、耐热性：硅橡胶比普通橡胶具有好的耐热性，可在150度下几乎永远无性能变化，可在200度以下连续使用10000小时，在350度下可使用一段时间；2、耐寒性：普通橡胶燃点为-20-30度，而硅橡胶则在-60-70度时才具有较好的弹性，某些特殊配方的硅橡胶还可承受极低的温度；3、绝缘性：硅橡胶条具有很高的电阻率，且在很宽的温度和频率范围内其阻止保持稳定，同时硅橡胶对高压电晕放点和电弧电具有很好的抵抗性；4、导电性：当加入导电材料时，硅橡胶便具有很好的导电性；5、阻燃性：硅橡胶本身可燃，但加入少量阻燃剂时，它便有阻燃和自息性，且因硅橡胶含有机化合物，因而燃烧时不冒烟。RTO进口气体废气经高温燃烧后温度较高，密封条需有耐高温特性，硅橡胶材质的密封条对改善进出口管道短路问题有极大作用。

本实用新型的密闭阀使用时，电动密闭阀启动时，气缸将阀板4推向底座2，由于密封圈7的有效作用，底座2与阀板4通过密封圈7紧密贴合。

本实用新型通过在底座2的外侧壁上设置能够与阀板4相配合的密封圈7，使得底座2与阀板4能够通过密封圈7紧密贴合，对改善进出口管道短路问题有极大作用，并能够提高RTO设备的废气净化率。

以上实施例仅为说明本实用新型的技术思想，不能以此限定本实用新型的保护范围，凡是按照本实用新型提出的技术思想，在技术方案基础上所做的任何改动，均落入本实用新型保护范围之内；本实用新型未涉及的技术均可通过现有技术加以实现。