玻璃电极的响应玻璃用清洗液和响应玻璃清洗方法
【专利摘要】本发明提供玻璃电极的响应玻璃用清洗液和响应玻璃清洗方法，目的是在玻璃电极的响应玻璃的清洗时，能容易地保持一定的腐蚀速率。玻璃电极(1)的响应玻璃用清洗液用于清洗在玻璃电极(1)上使用的响应玻璃(2)，与清洗后在响应玻璃(2)的表面形成水合层的水合层形成液配合使用，含有规定浓度的氟化氢铵，或者含有氢氟酸和包含氟离子的强碱的盐。
【专利说明】玻璃电极的响应玻璃用清洗液和响应玻璃清洗方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及清洗在玻璃电极上使用的响应玻璃的、玻璃电极的响应玻璃用清洗液 和玻璃电极的响应玻璃清洗方法。
【背景技术】
[0002] 在玻璃电极上使用的响应玻璃，由于保管状态和使用状态，有时在形成在表面部 分的水合层上附着杂质（污垢）。公知的是，使用了该种响应玻璃的玻璃电极，会因电极反 应的阻碍等使响应性恶化。
[0003] 作为使玻璃电极的响应性恶化恢复的方法，例如有专利文献1记载的响应玻璃的 清洗方法。
[0004] 在专利文献1中，通过将响应玻璃在供给到清洗槽内的药液（例如氨氣酸）中浸 溃规定时间，进行响应玻璃的清洗。
[0005] 现有技术文献
[0006] 专利文献1 ;日本专利公开公报特开2003-262605号
[0007] 可是，所述文献中的响应玻璃的清洗，通过氨氣酸腐蚀除去形成在响应玻璃的表 面的水合层来进行。此外，氨氣酸在溶液中W如下所述的方式解离。
[0008]
【权利要求】
1. 一种玻璃电极的响应玻璃用清洗液，其用于清洗在玻璃电极上使用的响应玻璃，所 述玻璃电极的响应玻璃用清洗液的特征在于， 与清洗后在所述响应玻璃的表面形成水合层的水合层形成液配合使用， 含有规定浓度的氟化氢铵，或者含有氢氟酸和包含氟离子的强碱的盐。
2. 根据权利要求1所述的玻璃电极的响应玻璃用清洗液，其特征在于，所述水合层形 成液为中性或酸性。
3. 根据权利要求1所述的玻璃电极的响应玻璃用清洗液，其特征在于， 所述响应玻璃用清洗液含有氟化氢铵， 所述氟化氢铵的浓度为4质量％以下。
4. 根据权利要求1所述的玻璃电极的响应玻璃用清洗液，其特征在于，对组成成分中 包含金属氧化物的所述响应玻璃进行清洗。
5. -种玻璃电极的响应玻璃清洗方法，其特征在于，所述玻璃电极的响应玻璃清洗方 法用响应玻璃用清洗液，清洗在玻璃电极上使用的响应玻璃，所述响应玻璃用清洗液含有 氟化氢铵，或者含有氢氟酸和包含氟离子的强碱的盐。
6. 根据权利要求5所述的玻璃电极的响应玻璃清洗方法，其特征在于，所述玻璃电极 的响应玻璃清洗方法还包括水合层形成工序，所述水合层形成工序在清洗所述响应玻璃的 清洗工序后，用中性或酸性的水合层形成液在所述响应玻璃的表面形成水合层。
7. 根据权利要求6所述的玻璃电极的响应玻璃清洗方法，其特征在于，在所述清洗工 序中，将所述响应玻璃用清洗液的温度保持在5°C?40°C。
【文档编号】G01N27/38GK104422723SQ201410441427
【公开日】2015年3月18日 申请日期:2014年9月1日 优先权日:2013年9月2日
【发明者】芝田学, 西村菜穗子, 森健, 山内悠, 小椋克昭 申请人:株式会社堀场制作所