一种全反射X射线荧光分析装置的制作方法

本实用新型涉及一种荧光分析装置，尤其是涉及一种全反射X射线荧光分析装置。

背景技术：

传统的全反射X射线荧光分析装置在环境空气条件下运行时，X射线会激发环境空气中的元素，尤其是会激发环境空气中含量较高的Ar元素。如此，空白试样检测结果中能明显观察到Ar元素的特征谱线。如果待测元素的特征谱线在Ar元素的特征谱线附近，则待测元素的特征谱线与Ar元素的特征谱线会产生谱线重叠的不良现象，使得待测元素的特征谱线的检测结果准确性较差。尤其当待测元素含量较低时，全反射X射线荧光分析装置的检测性能将受到严重影响，无法对待测元素的特征谱线进行检测与定量分析。

技术实现要素：

基于此，本实用新型在于克服现有技术的缺陷，提供一种全反射X射线荧光分析装置，它能够保证待测元素的检测结果的准确性。

其技术方案如下：

一种全反射X射线荧光分析装置，包括：样品载物台，所述样品载物台用于放置待测样品；X射线管与探测器，所述X射线管用于向所述样品载物台发射X射线，所述探测器用于接收经过所述待测样品反射出的X荧光；及吹扫机构，所述吹扫机构用于将抗干扰气体吹向所述样品载物台。

在其中一个实施例中，所述吹扫机构包括输气管与气体流量计，所述气体流量计装设在所述输气管上，所述气体流量计设有流量调节阀，所述输气管的输出端朝向所述样品载物台。

在其中一个实施例中，全反射X射线荧光分析装置还包括套筒，所述套筒一端与所述探测器的X荧光接收端相连，所述套筒另一端朝向所述样品载物台设置，所述套筒侧壁设有通孔，所述输气管通过所述通孔与所述套筒相连通。

在其中一个实施例中，所述吹扫机构包括储气瓶，所述储气瓶用于装设所述抗干扰气体，所述储气瓶的出气口设有阀门，所述储气瓶的出气口与所述输气管相连。

在其中一个实施例中，全反射X射线荧光分析装置还包括控制器，所述控制器与所述X射线管、所述阀门电性连接，所述控制器用于控制所述X射线管是否发射X射线、以及用于控制所述阀门开启或关闭。

在其中一个实施例中，所述控制器与所述流量调节阀电性连接，所述控制器用于控制所述流量调节阀调节所述输气管输出的气体流量大小。

在其中一个实施例中，所述抗干扰气体为氮气、二氧化碳或氧气。

在其中一个实施例中，全反射X射线荧光分析装置还包括角度调节滑台，所述角度调节滑台与所述样品载物台传动相连，所述角度调节滑台用于调整所述样品载物台相对于水平面的倾斜角度。

在其中一个实施例中，全反射X射线荧光分析装置还包括高度调节滑台，所述高度调节滑台与所述样品载物台传动相连，所述高度调节滑台用于驱动所述样品载物台升降动作。

在其中一个实施例中，所述X射线管的发射端设有准直器。

下面对前述技术方案的优点或原理进行说明：

1、上述的全反射X射线荧光分析装置，当X射线管向样品载物台上的待测样品发射X射线时，通过吹扫机构将抗干扰气体吹向样品载物台，这样抗干扰气体便可以将待测样品外围环境中的气体驱离，能避免X射线将对试验结果产生影响的元素(例如氩元素)激发，从而便可以保证待测元素检测结果的准确性。

2、气体流量计装设在输气管上，气体流量计设有流量调节阀。通过流量调节阀调节输气管中气体流量速度，气体流量速度大小可以调整为2L/min,并使输气管的输出端朝向所述样品载物台设置，这样能保证将待测样品外围环境中的气体驱离。

3、套筒一端与探测器的X荧光接收端相连，套筒另一端朝向样品载物台设置，套筒侧壁设有通孔。输气管通过通孔与套筒相连通。如此，输气管通过套筒将抗干扰气体引流至样品载物台，能保证将待测样品外围环境中的气体驱离。

4、通过角度调节滑台调整所述样品载物台相对于水平面的倾斜角度，通过高度调节滑台驱动样品载物台升降以调整待测样品的高度位置，从而能保证X射线管发射的X射线经待测样品反射后进入到探测器中。

附图说明

图1为本实用新型实施例所述的全反射X射线荧光分析装置结构示意图一；

图2为本实用新型实施例所述的全反射X射线荧光分析装置结构示意图二。

附图标记说明：

10、样品载物台，20、X射线管，30、探测器，31、X荧光接收端，41、输气管，42、气体流量计，43、储气瓶，431、阀门，50、套筒，60、角度调节滑台，70、高度调节滑台，80、准直器。

具体实施方式

下面对本实用新型的实施例进行详细说明：

如图1所示，本实用新型实施例所述的全反射X射线荧光分析装置，包括：样品载物台10、X射线管20与探测器30及吹扫机构。

所述样品载物台10用于放置待测样品。所述X射线管20用于向所述样品载物台10发射X射线。样品载物台10设有待测样品，X射线便发射至样品载物台10上的待测样品上。所述探测器30用于接收经过所述待测样品反射出的X荧光。所述吹扫机构用于将抗干扰气体吹向所述样品载物台10。

上述的全反射X射线荧光分析装置，当X射线管20向样品载物台10上的待测样品发射X射线时，通过吹扫机构将抗干扰气体吹向样品载物台10，这样抗干扰气体便可以将待测样品外围环境中的气体驱离，能避免X射线将对试验结果产生影响的元素(例如氩元素)激发，从而便可以保证待测元素检测结果的准确性。

所述吹扫机构包括输气管41与气体流量计42。所述气体流量计42装设在所述输气管41上，所述气体流量计42设有流量调节阀。通过流量调节阀调节输气管41中气体流量速度，气体流量速度大小可以调整为2L/min,并使输气管41的输出端朝向所述样品载物台10设置，这样能保证将待测样品外围环境中的气体驱离。

请参阅图2，全反射X射线荧光分析装置还包括套筒50。所述套筒50一端与所述探测器30的X荧光接收端31相连，所述套筒50另一端朝向所述样品载物台10设置，所述套筒50侧壁设有通孔。所述输气管41通过所述通孔与所述套筒50相连通。如此，输气管41通过套筒50将抗干扰气体引流至样品载物台10，能保证将待测样品外围环境中的气体驱离。

所述吹扫机构包括储气瓶43。所述储气瓶43用于装设所述抗干扰气体，所述储气瓶43的出气口设有阀门431，所述储气瓶43的出气口与所述输气管41相连。其中，抗干扰气体包括氮及氮的气态无机化合物、氧及氧的无机气态化合物、磷及磷的无机气态化合物、碳及其无机气态化合物、氢及其无机气态化合物、硼的无机气态挥发物、硫及其无机化合物、卤素单质及其无机气态化合物。例如，抗干扰气体包括(但不限于)为：一氧化碳、二氧化碳、氮气、氮氧化物、氢气、氧气、臭氧、氨、硫化氢、卤素单质、气态卤化物等。

全反射X射线荧光分析装置还包括控制器。所述控制器与所述X射线管20、所述阀门431电性连接，所述控制器用于控制所述X射线管20是否发射X射线、以及用于控制所述阀门431开启或关闭。所述控制器与所述流量调节阀电性连接，所述控制器用于控制所述流量调节阀调节所述输气管41输出的气体流量大小。

全反射X射线荧光分析装置还包括角度调节滑台60。所述角度调节滑台60与所述样品载物台10传动相连，所述角度调节滑台60用于调整所述样品载物台10相对于水平面的倾斜角度。在本实施例中，角度调节滑台60包括安装板、支撑柱与伸缩气缸，安装板中部与支撑柱一端活动连接，伸缩气缸与安装板一侧传动相连，伸缩气缸伸缩时，便可以调整安装板的倾斜度。通过全反射X射线荧光分析装置还包括高度调节滑台70。所述高度调节滑台70与所述样品载物台10传动相连，所述高度调节滑台70用于驱动所述样品载物台10升降动作。通过角度调节滑台60调整所述样品载物台10相对于水平面的倾斜角度，通过高度调节滑台70驱动样品载物台10升降以调整待测样品的高度位置，从而能保证X射线管20发射的X射线经待测样品反射后进入到探测器30中。

所述X射线管20的发射端设有准直器80。通过准直器80将X射线管20发射出的X射线准直后导向至待测样品上，能避免X射线发散导致损坏其它设备或者对工作人员造成不利影响。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。