本实用新型涉及取液装置技术领域，尤其涉及一种适用于称量四氯化钛液体的低温取液装置。
背景技术：
在制备水性二氧化钛溶胶的过程时，室温下，四氯化钛为无色液体，并在空气中发烟，生成二氧化钛固体和盐酸液滴的混合物。所以必须在取液过程中保证整个环境是干燥和低温的。传统的用于四氯化钛液体取液装置只是普通的取液装置，无法解决这一问题。对此我们推出一种适用于称量四氯化钛液体的低温取液装置。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在传统的用于四氯化钛液体取液装置只是普通的取液装置，在取液过程中易与空气发生反应，生成二氧化钛固体和盐酸液滴的混合物的缺点，而提出的一种适用于称量四氯化钛液体的低温取液装置。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
设计一种适用于称量四氯化钛液体的低温取液装置，包括管体以及设置在管体一端、并与管体内腔相连通的管头，所述管体内设有活塞，所述活塞上安装有延伸至管体另一端的活塞杆，所述管体的外侧包裹有壳体，所述壳体与管体的外壁之间形成用于注入冷却溶液的冷却腔，且壳体上设有输入冷却液的进口和输出冷却液的出口，所述管头上设有将吸入空气进行干燥的干燥装置。
优选的，所述干燥装置包括位于管头外侧的密封块，所述密封块的一侧设有位于管头内腔的盒体，且盒体与管头内壁之间留出空隙，所述密封块和盒体内留有容纳干燥剂的干燥腔，所述盒体上设有干燥腔与管头内腔相连通的通孔，所述密封块上设有与干燥腔相连通的通孔，还包括螺接在管体远离管头端部的螺母，所述螺母的两侧均通过连接杆与密封块相连接。
优选的，所述壳体设置在管体位于螺母与管头之间的端部。
优选的，所述活塞杆上设有刻度标示，且活塞杆远离活塞一端的刻度为零。
优选的，所述密封块靠近管头的一侧设有与管头相匹配的环形密封槽。
优选的，所述干燥剂为硅胶干燥剂颗粒。
本实用新型提出的一种适用于称量四氯化钛液体的低温取液装置，有益效果在于：该装置类似于针筒注射器的装置，拉升活塞杆带动活塞通过管头进行四氯化钛液体的抽取和排放，通过注入冷却溶液的冷却腔对管体进行冷却，保证管体的低温状态，密封块对管头进行密封，防止空气与四氯化钛液体直接接触，空气只能能够通过干燥腔干燥之后方可与四氯化钛液体接触，防止其与潮湿的空气发生反应。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种适用于称量四氯化钛液体的低温取液装置的结构示意图。
图中：管体1、管头2、活塞3、活塞杆4、螺母5、密封块6、盒体7、干燥腔8、连接杆9、壳体10、环形密封槽11。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
参照图1，一种适用于称量四氯化钛液体的低温取液装置，包括管体1以及设置在管体1一端、并与管体1内腔相连通的管头2，管体1内设有活塞3，活塞3上安装有延伸至管体1另一端的活塞杆4，管体1、管头2、活塞3和活塞杆4组成一个类似于针筒注射器的装置，拉升活塞杆4带动活塞3通过管头2进行四氯化钛液体的抽取和排放。
管体1的外侧包裹有壳体10，壳体10设置在管体1位于螺母5与管头2之间的端部，壳体10与管体1的外壁之间形成用于注入冷却溶液的冷却腔，且壳体10上设有输入冷却液的进口和输出冷却液的出口，通过注入冷却溶液的冷却腔对管体1进行冷却，保证管体1的低温状态，使用时可冷却液通过软管对冷却腔进行循坏的冷却液供给，达到管体1的低温状态，使取液工作得到保证。
管头2上设有将吸入空气进行干燥的干燥装置，干燥装置包括位于管头2外侧的密封块6，密封块6的一侧设有位于管头2内腔的盒体7，且盒体7与管头2内壁之间留出空隙，密封块6和盒体7内留有容纳干燥剂的干燥腔8，盒体7上设有干燥腔8与管头2内腔相连通的通孔，密封块6上设有与干燥腔8相连通的通孔，还包括螺接在管体1远离管头2端部的螺母5，螺母5的两侧均通过连接杆9与密封块6相连接，密封块6用于对管头2进行密封，干燥腔8用于对吸入的空气进行干燥，使潮湿的空气无法直接进入到管体1内，取液时，将管头2置于溶液中，旋动螺母5，使螺母往管体1的前端运动，同时旋动的螺母推动密封块6离开管头2，通过抽拉活塞杆4即可将四氯化钛液体吸入到管体1内，取液后旋动螺母5向管体1后端运动，即可将管头2密封，防止空气与四氯化钛液体直接接触，空气只能能够通过干燥腔8干燥之后方可与四氯化钛液体接触，防止其与潮湿的空气发生反应。
活塞杆4上设有刻度标示，且活塞杆4远离活塞3一端的刻度为零，用于精确观测取液量，取液工作更精确和方便，密封块6靠近管头2的一侧设有与管头2相匹配的环形密封槽11，使密封块6与管头2之间的密封效果更好，干燥剂为硅胶干燥剂颗粒，便于干燥剂本身与四氯化钛液体发生反应。
以上，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。