1.一种X射线检测系统，其特征在于，包括：
发射装置，所述发射装置包括支架和发射球管，所述发射球管滑动连接所述支架，所述发射球管用于发射X射线；
调节装置，所述调节装置设置在所述发射装置一侧的对应位置，用于放置待检装置，使所述待检装置接收X射线；
位移架，所述位移架固定连接所述支架，所述调节装置滑动连接所述位移架，并且能够朝X射线延伸的轴向方向移动；
控制部，所述控制部连接所述发射装置和所述调节装置，用于控制所述发射球管和所述调节装置的滑动距离和滑动方向。
2.根据权利要求1所述的X射线检测系统，其特征在于，
所述发射球管为三个，分别为钼靶发射球管、钨靶发射球管和高频诊断发射球管。
3.根据权利要求2所述的X射线检测系统，其特征在于，还包括：
校准装置，用于发射激光光束，所述校准装置包括第一校准装置和第二校准装置，所述第一校准装置设置在所述调节装置的另一侧的对应位置，所述第一校准装置的激光光束与所述X射线同轴，所述第二校准装置设置在所述调节装置的上部的对应位置，所述第二校准装置的激光光束垂直于所述X射线。
4.根据权利要求3所述的X射线检测系统，其特征在于，
所述发射装置还包括过滤装置，所述过滤装置可拆卸连接于所述支架，所述过滤装置设置在所述发射球管和待检装置之间，所述过滤装置具有过滤孔和过滤片，所述过滤片设置在所述过滤孔内，其中一个所述发射球管射出的X射线通过所述过滤片过滤。
5.根据权利要求4所述的X射线检测系统，其特征在于，
所述过滤装置包括第一转盘、第二转盘和固定架，所述第一转盘和所述第二转盘分别转动连接所述固定架，所述第一转盘和所述第二转盘上设置多个所述过滤孔和多个所述过滤片，其中一个所述发射球管射出的X射线同时通过所述第一转盘的其中一个所述过滤片和所述第二转盘的其中一个所述过滤片过滤。
6.根据权利要求4所述的X射线检测系统，其特征在于，
所述调节装置包括挡板、多孔板、升降装置和滑动装置，所述滑动装置滑动连接于所述位移架，所述升降装置固定连接于所述滑动装置和所述多孔板，用于使所述多孔板在竖直方向做往复运动，所述挡板可拆卸连接于所述多孔板，所述挡板设置在所述发射装置与待检装置之间，所述挡板具有通孔，用于通过所述X射线。
7.根据权利要求6所述的X射线检测系统，其特征在于，还包括：
丝杆，所述丝杆转动连接所述位移架，所述丝杆的轴线与所述X射线的轴线平行，所述控制部连接所述丝杆，用于使所述丝杆绕其轴线转动；
所述调节装置还包括连接部和传动轮，所述连接部固定连接所述滑动装置，所述传动轮转动连接所述连接部，所述丝杆与所述传动轮之间为蜗杆连接。
8.根据权利要求6所述的X射线检测系统，其特征在于，
所述调节装置还包括平移装置，所述平移装置设置在所述升降装置和所述多孔板之间，所述平移装置固定连接所述多孔板，所述平移装置滑动连接所述升降装置，用于带动所述多孔板横向移动。
9.根据权利要求1至8任一项所述的X射线检测系统，其特征在于，
所述支架包括底座、平移台和铅板，所述底座固定连接所述平移台，所述铅板滑动连接所述平移台，三个所述发射球管可拆卸连接于所述铅板，所述过滤装置设置在所述底座上，所述支架具有工作区域和非工作区域，所述平移台用于将其中一个所述发射球管移动至所述工作区域，使所述工作区域内的所述发射球管发射的X射线通过所述过滤装置过滤。
10.根据权利要求2至8任一项所述的X射线检测系统，其特征在于，
所述钼靶发射球管的电压为20kV至50kV，所述钨靶发射球管的电压为20kV至50kV，所述高频诊断发射球管的电压为40kV至150kV。