粉末压片X射线荧光光谱法测定金属硅中杂质的方法与流程

文档序号:11175639阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明涉及一种粉末压片X射线荧光光谱法测定金属硅中杂质的方法,包括以下步骤:1)取金属硅粉标准品和待测金属硅粉,再将所述金属硅粉标准品、待测金属硅粉分别先与H3BO3和助研剂混合搅拌均匀,得到混合物,再将所述混合物装于研磨罐中,然后于25~45t下保压35~40S压片,制成标准品样片和待测样片;2)再将所述标准品样片和待测样片通过X射线荧光光谱仪进行检测,并根据强度与含量确定线性关系,制作校准曲线,得到金属硅中杂质的含量。本发明的方法的检测灵敏度高,重复性强。

技术研发人员:杜亚明
受保护的技术使用者:苏州浪声科学仪器有限公司
技术研发日:2017.06.29
技术公布日:2017.10.03
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