1.大厚度比复杂构件透照设备，其特征在于，包括置于工作台(1)上的工件(2)，工件(2)的一侧布置有发射器(3)，发射器(3)的X射线发射端口(38)朝向工件(2)布置，工件(2)的另一侧依次布置有低电压管成像装置(4)、中电压管成像装置(5)、高电压管成像装置(6)、信息提取器(12)和图形展示装置(13)，低电压管成像装置(4)、中电压管成像装置(5)和高电压管成像装置(6)均竖直布置，低电压管成像装置(4)与中电压管成像装置(5)之间留有第一间隙(7)，中电压管成像装置(5)与高电压管成像装置(6)之间留有第二间隙(8)，第一间隙(7)与第二间隙(8)宽度相同；
所述工件(2)分为上部结构件(21)、置于上部结构件(21)下方的中部结构件(22)、置于中部结构件(22)下方的下部结构件(23)，上部结构件(21)的厚度大于中部结构件(22)的厚度，中部结构件(22)的厚度大于下部结构件(23)的厚度，下部结构件(23)的底部固定在底座上，上部结构件(21)、中部结构件(22)与下部结构件(23)呈阶梯状布置。
2.根据权利要求1所述的大厚度比复杂构件透照设备，其特征在于，所述发射器(3)包括置于壳体内的电子加速单元(31)、安装在所述电子加速单元(31)一端的电子发射单元(32)、安装在所述电子加速单元(31)另一端的靶(33)，所述壳体内还布置有电子漂移段(34)，电子漂移段(34)置于电子加速单元(31)与靶(33)之间，所述靶(33)置于屏蔽端头(35)之间，屏蔽端头(35)内预留有发射通道(36)，靶(33)置于发射通道(36)的一端，发射通道(36)的另一端为发射端口(38)，所述发射通道(36)内布置有准直器(37)。
3.根据权利要求2所述的大厚度比复杂构件透照设备，其特征在于，所述靶(33)为平面结构。
4.根据权利要求2所述的大厚度比复杂构件透照设备，其特征在于，所述靶(33)为球面结构。
5.根据权利要求2所述的大厚度比复杂构件透照设备，其特征在于，所述靶(33)为屈折面结构。