热轧酸洗搪瓷层密着性测试装置的制作方法

本实用新型涉及一种测试装置，特别涉及非规则形状试样密着性的测量，属于表面性能检测装置技术领域。

背景技术：

搪瓷制品是一种传统用具，原来主要集中于日常生活用品。随着科技发展，搪瓷工艺的产品结构发生变化，现在其用途广泛，在家电、五金、建材、环保、化工、存储、电子、电力等行业都大量使用，对其性能要求尤其密着性要求不断提高。方便、快捷、安全的检测产品的密着性是大生产的必须条件，这就对搪瓷层密着性测试方法及装置提出了要求。搪瓷层密着性的测量主要是使用重物击打或压膜顶压样品等方式，使试样变形，利用钢铁坯体与搪瓷层变形率不同，造成搪瓷层破裂，通过观测试样表面残留搪瓷情况进行判定。击打力及击打面积的不同，容易造成试样的密着性发生变化，从而影响密着性的判定。压膜顶压的方法对设备要求高，投入大，不具备现场检测条件。经过检索，申请号CN201410745104.5《搪瓷密着强度测试仪》及申请号CN201420174101.X《搪瓷密着强度测试仪》中提到了一种搪瓷密着强度测试仪。该装置主要由通过冲针对试样进行冲击，其冲针端部为圆锥结构，造成试验后的试样搪瓷层的状态为釉料脱落、冲击点穿孔、冲击点凹槽，无法满足现场通用的对试验后搪瓷层“丝状、网状、块状、光板”不同形态的划分；装置无水平装置，装置移动会造成试验冲击力大小无法精确控制；装置无试样平台，对于较大的试样无法保持试验过程中试样的稳定。

技术实现要素：

本实用新型正是针对现有技术中存在的技术问题，提供一种快速、有效、安全的测量搪瓷层密着性的试验装置，可以满足对热轧酸洗搪瓷钢的搪瓷层密着性的测试要求，也可以根据实际情况满足不同的试验要求。

为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下，一种热轧酸洗搪瓷层密着性测试装置，其特征在于，所述测试装置包括支撑杆、底座、试验杆、冲击杆、连接杆、支撑座、支撑底盘、冲击支座、底座以及试样平台，所述支撑杆通过支撑座和支撑底盘与底座相连，所述试验杆为中空杆，冲击杆位于试验杆内，试验杆通过两根连接杆与支撑杆相连，冲击支座固定在底座上，并位于冲击杆的正下方，试样平台7位于底座上。

作为本实用新型的一种改进，所述测试装置还包括限位柄8及限位槽，所述试验杆为中空杆，冲击杆位于试验杆内，通过限位柄8及限位槽与试验杆连接，不使用时，限位柄可以置于限位槽中，起到固定冲击杆9的作用。

作为本实用新型的一种改进，所述测试装置还包括四个水平调节支架，四个水平调节支脚4固定于底座下方，调节水平调节支脚，保证底座平稳并水平放置在工作面上，其支撑杆和试验杆垂直于底座。

作为本实用新型的一种改进，所述支撑杆和支撑底盘带有限位装置，与支撑座和支撑底盘共同作用，保证了试验杆和冲击杆正好处于冲击支座5的圆形孔洞的正上方。

作为本实用新型的一种改进，所述的底座下方设置有4个或3个螺孔，用于安装水平调节支脚，通过水平调节螺杆对装置进行水平调节。

作为本实用新型的一种改进，所述的试验杆为中空杆，其上标有刻度，指明冲头下落高度，并有限位槽，所述试验杆通过连接杆与支撑杆相连，且试验杆与支撑杆互相垂直。

作为本实用新型的一种改进，所述冲击杆为实心棒状，其端头为半球型，并带有限位柄，限位柄距离冲击杆底部150mm。所述冲击杆位于试验杆中，其限位柄与试验杆的限位槽配合使用。

作为本实用新型的一种改进，所述冲击支座位于底座上，与底座通过螺栓连接，其中央位置为圆柱形孔洞，所述试样平台位于冲击底座上，其上有圆孔，圆孔与冲击底座对中。

作为本实用新型的一种改进，所述的底座具有一定的重量及强度，主要起固定装置的作用，一般在20kg以下，方便试验设备移动；所述的支撑杆通过固定支座与底座连接，且支撑杆可以固定支座为中心进行转动，方便试样的取放。试验杆高度800-1000mm左右，直径在25-28mm，顶端距底座高度大约1100mm，低端距离底座约100-200mm，冲击杆直径为22cm，重量1.5kg-2.5kg。试验杆与支撑杆的距离为200-400mm。冲击底座的圆柱形孔洞的直径比冲击杆的直径小2-5mm，且圆柱形开孔上表面做倒角处理，倒角直径2mm，支撑杆带有限位装置，保证实验时冲击杆冲头与冲击底座圆孔相垂直；试样平台保证了可以在试样边部进行密着性测试，增加了试验点。

相对于现有技术，本实用新型具有如下优点，1）该技术方案整体结构设计紧凑、巧妙，提供一种快速、有效、安全的测量搪瓷层密着性的试验装置，可以满足对热轧酸洗搪瓷钢的搪瓷层密着性的测试要求，也可以根据实际情况满足不同的试验要求；2) 该技术方案中的支撑杆通过固定支座与底座连接，且支撑杆可以固定支座为中心进行转动，方便试样的取放；3）该方案中，试样平台位于底座上，四个水平调节支脚固定于底座下方，通过调节水平调节支脚，保证底座平稳并水平放置在工作面上，其支撑杆和试验杆垂直于底座。支撑杆和支撑底盘带有限位装置，与支撑座和支撑底盘共同作用，保证了试验杆和冲击杆正好处于冲击支座的圆形孔洞的正上方；4）该技术方案成本较低，便于推广应用。

附图说明

图1 本实用新型装置主视图；

图2 本实用新型装置底座俯视图；

图3 支撑杆俯视图；

图4支撑杆限位装置俯视图；

图中：1-支撑杆、2-支撑座、3-支撑底盘、4-水平调节支脚、5-冲击支座、6-底座、7-试样平台、8-限位柄、9-冲击杆、10-试验杆、11-限位槽、12-连接杆。

具体实施方式：

为了加深对本实用新型的理解，下面结合附图对本实施例做详细的说明。

实施例1：参见图1-图4，一种热轧酸洗搪瓷层密着性测试装置，所述测试装置包括支撑杆1、底座6、试验杆10、冲击杆9、连接杆12、支撑座2、支撑底盘3、冲击支座5、底座6以及试样平台7，所述支撑杆1通过支撑座2和支撑底盘3与底座6相连，所述试验杆10为中空杆，冲击杆9位于试验杆10内，试验杆10通过两根连接杆12与支撑杆1相连，冲击支座5固定在底座6上，并位于冲击杆9的正下方，试样平台7位于底座6上，所述测试装置还包括限位柄8及限位槽11，所述试验杆10为中空杆，冲击杆9位于试验杆10内，通过限位柄8及限位槽11与试验杆10连接，不使用时，限位柄8可以置于限位槽11中，起到固定冲击杆9的作用。

实施例2：参见图1-图4，作为本实用新型的一种改进，所述测试装置还包括四个水平调节支架4，四个水平调节支脚4固定于底座6下方，调节水平调节支脚4，保证底座6平稳并水平放置在工作面上，其支撑杆1和试验杆10垂直于底座6。其余结构和优点与实施例1完全相同。

实施例3：参见图1-图4，作为本实用新型的一种改进，所述支撑杆1和支撑底盘3带有限位装置，与支撑座2和支撑底盘3共同作用，保证了试验杆10和冲击杆9正好处于冲击支座5的圆形孔洞的正上方。其余结构和优点与实施例1完全相同。

实施例4：参见图1-图4，作为本实用新型的一种改进，所述的底座下方设置有4个或3个螺孔，用于安装水平调节支脚，通过水平调节螺杆对装置进行水平调节。其余结构和优点与实施例1完全相同。

实施例5：参见图1-图4，作为本实用新型的一种改进，所述的试验杆为中空杆，其上标有刻度，指明冲头下落高度，并有限位槽，所述试验杆通过连接杆与支撑杆相连，且试验杆与支撑杆互相垂直。其余结构和优点与实施例1完全相同。

实施例6：参见图1-图4，作为本实用新型的一种改进，所述冲击杆为实心棒状，其端头为半球型，并带有限位柄，限位柄距离冲击杆底部150mm。所述冲击杆位于试验杆中，其限位柄与试验杆的限位槽配合使用。其余结构和优点与实施例1完全相同。

实施例7：参见图1-图4，作为本实用新型的一种改进，所述冲击支座位于底座上，与底座通过螺栓连接，其中央位置为圆柱形孔洞，所述试样平台位于冲击底座上，其上有圆孔，圆孔与冲击底座对中。其余结构和优点与实施例1完全相同。

实施例8：参见图1-图4，作为本实用新型的一种改进，所述的底座具有一定的重量及强度，主要起固定装置的作用，一般在20kg以下，方便试验设备移动；所述的支撑杆通过固定支座与底座连接，且支撑杆可以固定支座为中心进行转动，方便试样的取放，另外试验杆高度800-1000mm左右，直径在25-28mm，顶端距底座高度大约1100mm，低端距离底座约100-200mm，冲击杆直径为22cm，重量1.5kg-2.5kg。试验杆与支撑杆的距离为200-400mm。冲击底座的圆柱形孔洞的直径比冲击杆的直径小2-5mm，且圆柱形开孔上表面做倒角处理，倒角直径2mm，支撑杆带有限位装置，保证实验时冲击杆冲头与冲击底座圆孔相垂直；试样平台保证了可以在试样边部进行密着性测试，增加了试验点。其余结构和优点与实施例1完全相同。

测试方法如下：

支撑杆通过支撑座和支撑底盘与底座相连。试验杆为中空杆，冲击杆位于试验杆内，通过限位柄及限位槽与试验杆连接，限位柄可以置于限位槽中，起到固定冲击杆的作用。试验杆通过两根连接杆与支撑杆相连。冲击支座固定在底座上，并位于冲击杆的正下方。试样平台位于底座上。四个水平调节支脚固定于底座下方，通过调节水平调节支脚，保证底座平稳并水平放置在工作面上，其支撑杆和试验杆垂直于底座。支撑杆和支撑底盘带有限位装置，与支撑座和支撑底盘共同作用，保证了试验杆和冲击杆正好处于冲击支座的圆形孔洞的正上方。

试验时，将支撑杆1转动90°，将试样放置在试样平台7上，然后支撑杆1回转90°，回到冲击支座的圆形孔洞的正上方。根据试样厚度，选择冲击杆9下落高度，然后冲击杆自由下落。下落结束后将冲击杆的限位手柄放置在限位槽中固定，将支撑杆1转动，取出试样进行密着性评价。

试样根据残余搪瓷层进行评级，标准如下所示：搪瓷层呈丝状脱落，基板暴露面积在1%以下，密着性为1级，最优级；搪瓷层呈丝状，基板暴露面积在1%-5%，密着性为2级；搪瓷层呈网状，密着性为3级；搪瓷层呈块状，为4级；搪瓷层全部凋落，基板大片连续暴露，密着性为5级。

冲击杆高度选择表见表1：

表1 冲击杆高度选择表

本实用新型可以将实施例2、3、4、5、6、7、8所述技术特征中的至少一个与实施例1组合形成新的实施方式。

需要说明的是上述实施例，并非用来限定本实用新型的保护范围，在上述技术方案的基础上所作出的等同变换或替代均落入本实用新型权利要求所保护的范围。