利用全内反射的DOE缺陷监测的制作方法

本发明整体涉及衍射光学器件，并且具体地涉及监测衍射光学元件(doe)中的缺陷。

背景技术：

衍射光学器件用于广泛的应用中。在一些应用中，衍射光学元件(doe)用于创建所期望的投影图案，以用于例如光学三维(3d)映射、区域照明和lcd背光照明。在例如美国专利申请公布2009/0185274中描述了基于doe的投影仪设计，其公开内容以引用方式并入本文。

doe的“效率”是doe衍射的输入能量的量的量度，与入射光束的能量相关。由于存在制造公差，这种效率在生产中可以是变化的。出于各种原因，这种效率还可在doe的使用寿命和操作期间发生变化。例如，湿度和其他蒸气可在doe表面上凝结并降低其效率，或者由于故障或误用而导致的过量热量可使doe变形并改变其效率。效率的此类变化可能导致零阶衍射的强度上的不期望增加，而零阶衍射不受投影光学器件衍射影响，从而可继续穿过doe直接到达投影空间。

美国专利8，492，696描述了带有一体式光学检测器形式的内置光束监测器的基于doe的投影仪，其公开内容通过引用方式并入本文。检测器信号可由控制器连续地或间歇地监测，以评估doe效率并在信号超出某一范围的情况下抑制投影仪的操作。

技术实现要素：

本发明的实施方案提供了用于监测doe的性能的改进方法和装置。

因此，根据本发明的一个实施方案，提供了一种光学装置，其包括衍射光学元件(doe)，所述衍射光学元件(doe)具有至少一个光学表面、侧表面和光栅,所述侧表面与所述doe的所述至少一个光学表面不平行，所述光栅形成在所述至少一个光学表面上以便接收和衍射入射在光栅上的第一辐射。所述装置还包括至少一个次级辐射源，所述至少一个次级辐射源被配置为使第二辐射被定向成投射在侧表面上的第一位置上，使得第二辐射的至少一部分在从光栅内部地衍射时在doe内传播，并且通过述侧表面上的至少一个第二位置出射。所述装置还包括至少一个辐射检测器，所述至少一个辐射检测器邻近至少一个第二位置定位以便接收并感测已通过侧表面出射的第二辐射的强度。

在本发明所公开的实施方案中，侧表面垂直于doe的至少一个光学表面。

在一些实施方案中，至少一个辐射检测器包括与doe的侧表面接触的前表面。

在另一个实施方案中，所述装置包括控制器，所述控制器被耦合以接收来自至少一个辐射检测器的指示已通过侧表面出射的第二辐射的强度的至少一个信号，并且响应于所述至少一个信号来监测doe的性能。

在一些实施方案中，至少一个辐射检测器包括至少第一辐射检测器和第二辐射检测器，并且控制器被耦合以接收分别来自第一辐射检测器和第二辐射检测器的第一信号和第二信号，并且被配置为响应于所述第一信号和所述第二信号之间的差值来监测性能。

在其他实施方案中，所述装置包括初级辐射源，所述初级辐射源被配置为使第一辐射朝向所述doe的至少一个光学表面定向，并且所述控制器被耦合以响应于所监测的性能来控制初级辐射源的操作。

在另一个实施方案中，控制器被配置为在至少一个信号超出预定义范围时，抑制初级辐射源的操作。

在又另一个实施方案中，光栅被配置为将第一辐射导向成多个衍射阶，并且至少一个信号的变化指示零阶衍射的强度的增加。控制器被配置为在变化超过预定义阈值时，抑制初级辐射源的操作。

在一些实施方案中，初级辐射源和至少一个次级辐射源被配置为以不同的相应波长分别发射第一辐射和第二辐射。

根据本发明的一个实施方案，还提供了一种光学方法，所述光学方法包括定位衍射光学元件(doe)，所述衍射光学元件(doe)具有其上形成光栅的至少一个光学表面，以及与至少一个光学表面不平行的侧表面，以接收和衍射入射在光栅上的第一辐射。使第二辐射被定向成投射在侧表面上的第一位置上，使得所述第二辐射的至少一部分在从所述光栅内部地衍射时在所述doe内传播，并且通过所述侧表面上的至少一个第二位置出射。接收并感测已通过侧表面出射的第二辐射的强度。在一个实施方案中，响应于指示已通过侧表面出射的第二辐射的强度的至少一个信号来监测doe的性能。

结合附图，从下文中对本发明的实施方案的详细描述将更完全地理解本发明，在附图中：

附图说明

图1-图2是根据本发明的实施方案的带有光束监测器的光学投影仪的示意性侧视图；和

图3-图5是根据本发明的另外的实施方案的带有光束监测器的doe的示意性俯视图。

具体实施方式

基于衍射光学元件(doe)的光学投影仪有时经过大量零阶辐射，如在上述us2009/0185274中描述的：投影仪的输入光束的一部分(零阶衍射)可能不被投影光学器件衍射，从而可以继续通向投影空间。doe的效率的变化以及随之而来的零阶强度的增加，可能使系统性能受到损害并且可能具有各种其他的不期望后果。

任何doe包括多个光学表面，包括至少入射表面和出射表面。doe的衍射效应由在这些光学表面中的一个光学表面(其可为入射表面、出射表面或doe内的内部表面)上形成的光栅来提供，或由多个光学表面上的多个光栅来提供。这种光栅可具有任何合适的形状和形式，这取决于doe要创建的衍射图案。光栅接收由通过入射表面进入doe的初级辐射源发射的第一辐射，并将该第一辐射衍射成预定义图案，所述预定义图案包括通过出射表面离开doe的多个衍射阶次。

doe的每个光栅的衍射效率可受到局部缺陷的影响，诸如机械变形(划痕、凹坑、局部光栅擦除)、污染或凝结。这种衍射效率的改变可导致或造成由doe传递的零阶辐射量的增加，并且可导致doe的衍射阶次的功率上的其他变化。为了确保基于doe的光学投影仪的正确操作，对doe的光栅性能进行实时监测是非常可取的。

下文所述的本发明的实施方案能够仅使用最小的附加硬件来对doe的性能进行稳健的实时监测，所述附加的硬件可在仅对整个doe组件的尺寸和成本产生最小影响的情况下实现。此外，这些实施方案能够在不干扰其中包含有doe的光学投影仪的功能的情况下进行监测。在以下描述中，假设这种投影仪中的初级辐射源使特定波长的第一辐射被定向穿过doe的将由光栅衍射的光学表面。

在本发明所公开的实施方案中，次级辐射源诸如led(发光二极管)或激光被定位在邻近doe的侧表面上的第一位置处以便将第二辐射发送到doe中。(本说明书和权利要求书中的术语“侧表面”是指不平行于光学表面并且位于预期衍射图案的路径之外的doe的表面。根据doe的形状，侧表面可包括一个或多个段。)一个或多个辐射检测器被定位在邻近侧表面上的第二位置，例如与第一位置相对的位置，以便接收和感测已在doe内传播的第二辐射。

已进入doe的第二辐射通常包括多个射线(或传播方向)，作为连续的或离散的角频谱。该第二辐射将作为从一个点处的全内反射和衍射的组合在doe内传播，其中第二辐射从该点穿过侧表面上的第一位置进入doe，直到其到达侧表面上的第二位置并离开doe。对于第二辐射的传播，doe用作平板波导。次级辐射源到doe的距离和耦合可用于将耦合效率优化为完全内部反射的传播，以及用于优化光栅的光照均匀度。源的距离和耦合也可用于实现针对继续以全内反射传播的光线的高的内部衍射效率，和针对不满足全内反射条件(即，将从doe“泄漏”出来)的光线的低的内部衍射效率。

在第二辐射在doe内的传播过程中，该第二辐射实时地探测doe的完整性，因为第二辐射的光线的组成受到doe的光学表面上的任何缺陷的影响。缺陷的这种影响表现在第二辐射对辐射检测器的冲击上，既表现为总功率的变化也表现为辐射率的空间分布的变化。

虽然第二辐射的单个检测器可为足够的，但使用几个检测器能够感测离开doe的辐射度的空间分布的变化。还允许成对的探测器之间的差动测量，减少次级辐射源的功率水平波动的影响以及次级辐射源和辐射检测器的光学对准上的微小变化的影响。

次级辐射源以及辐射探测器的直径通常小于doe的厚度；在一些实施方案中，这些部件被粘结到doe的侧表面上，以用作紧致而坚固的装配，并且同时用于良好地光学耦合到doe。

在一些实施方案中，次级辐射源的光谱被选择为不同于第一辐射的光谱，即，初级辐射源具有第一透射光谱，而次级辐射源具有不同于第一透射光谱的第二透射光谱。用于接收来自光学投影仪的第一辐射的检测器以及用于监测doe性能的辐射检测器的适当光谱滤波可用于减少第一辐射和第二辐射之间的串扰，从而防止doe监测器和光学投影仪之间的干扰。在一些实施方案中，将第一透射光谱和第二透射光谱选择为非重叠的，并且入射到用于监测doe性能的辐射检测器的辐射由滤波器进行滤波，该滤波器滤除第一透射光谱并允许通过第二透射光谱的至少一部分。该光谱布置方式特别适用于同时测试和图案投影。

除此之外或另选地，本发明实施方案可与其他方法结合使用。例如，当次级源未接通时，检测器可用于测量来自初级源的doe内的自然全内反射。另选地，当第一透射光谱和第二透射光谱不同时，可使用一个或多个检测器来监测次级源，而使用一个或多个其他检测器来监测来自初级源的全内反射。

使用独立于初级辐射源的次级辐射源带来能够在甚至无需将初级辐射源打开的情况下监测doe的额外有益效果。因此，可在无需与初级辐射源相关联的功率消耗的情况下对doe进行监测，其中初级辐射源通常比次级辐射源具有更高功率。此外，如果怀疑不利事件使doe遭受损害(例如，光学投影仪跌落)，则可在不打开初级辐射源的情况下对doe的状态进行验证。

在一些实施方案中，控制器接收来自辐射检测器的指示doe的光栅衍射效率的变化的信号，从而监测doe的性能。基于这些信号，该控制器可控制初级辐射源的操作并可在信号超出预定范围时抑制初级辐射源的操作。

例如，考虑一种由于光栅面形的局部擦除而被“平滑化”的光栅。具有下部面形的光栅通常具有较低的衍射效率，减少了第一辐射的衍射，从而增加了零阶的强度。同样地，第二辐射所经历的内部衍射损失减小，即，第二辐射在缺陷区域附近经历减小的衍射并增加零阶/全内反射强度。因此，增加探测信号的强度。在这种情况下，控制器将第二辐射的内部衍射损耗的减小解释为表明第一辐射的零阶强度可能增加。当信号变化超过某一阈值时，控制器通常将抑制辐射源的操作，可能通过简单地关闭辐射源来实现。

图1是根据本发明的实施方案的带有doe监测器的光学投影仪20的示意性侧视图。初级辐射源22朝向doe26发射第一辐射光束24。通常，辐射是在可见光、红外光或紫外光范围(通常被称之为“光”的光谱区域)内的相干光辐射。初级辐射源22可包括例如激光二极管或激光二极管阵列，诸如垂直腔面发射激光器(vcsel)阵列。

doe26包括透明基底28，诸如玻璃或合适的塑料，例如聚碳酸酯，其中光栅30形成在其一个光学表面上。在图示实例中，光栅30形成在doe26的远离辐射源22的出射表面上，其中光束24穿过入射表面32进入doe26。doe26还包括侧表面，该侧表面包括侧表面区段34和36。(其他侧表面区段在该附图中未示出。多个侧表面区段共同构成doe26的侧表面，但例如圆形doe将具有仅包括单个区段的侧表面。)在图1的图示中，doe26的尺寸(宽度和高度)以及光栅30的周期和振幅未按相同比例绘制。

doe26从光束24生成包括零阶衍射和一阶衍射37的图案，该图案从光栅30离开doe26。在其它实施方案中，可生成包括其他衍射阶次的图案，包括二维衍射图案。另选地或除此之外，如前所述，doe26可包括形成在入射表面32上或形成在一个或多个内部光学表面(未示出)上的一个或多个光栅。光栅可被配置为例如产生多个相邻的斑点图案实例，如美国专利8，384，997中所述的，其公开内容以引用方式并入本文。此类图案在3d映射(与成像组件相关联)中特别有用，如美国专利8，384，997和上述美国专利8，492，696中所述的。

使用次级辐射源38(例如led或激光二极管)和一个或多个辐射检测器40(例如光电二极管)来监测doe26的缺陷。次级辐射源38和辐射检测器40均连接到控制器42。控制器42还连接到初级辐射源22。

尽管图1和图2中仅示出单个辐射源38和单个辐射检测器40，但本发明的另选实施方案可使用任意数量的辐射源和辐射检测器，诸如一个、两个、三个、四个或更多个辐射检测器。检测器可以层叠式安装(沿图1和图2中的垂直轴线)并且/或者沿doe的侧表面分布，如图3-图5所示。由于它们的小尺寸，次级辐射源38和辐射检测器40(或可能的附加辐射检测器)将仅对光学投影仪20的尺寸产生很小的影响。在一些实施方案中，将次级辐射源38的发射光谱选择为与初级辐射源22的发射光谱分开，从而通过采用合适的光谱滤波来避免第二辐射对光学投影仪20的功能的任何影响。

由于初级辐射源22和次级辐射源38彼此完全独立，因此后者可在前者被关闭的情况下用于监测doe26。这种操作模式有利于在便携式设备中节省功率。还允许在不存在第一辐射的情况下监测doe26，尤其是在不利事件例如对光学投影仪20的机械冲击之后。

次级辐射源38被定位在侧表面区段34上以便将第二辐射44通过侧面段34发射到doe26中。为了清楚起见，尽管示出第二辐射44使用单一光线，但进入doe26的第二辐射44通常包括作为连续的或离散的角频谱的多个方向的光线。第二辐射44的方向还可通过适当选择第二辐射源38及其辐射图案的取向来配置，使得该辐射通过全内反射从入射表面32进行反射。例如，在折射率n＝1.57的聚碳酸酯基板中，全内反射的最小角度为39.5°，使得在入射表面32上具有大于39.5°的入射角的第二辐射44满足全内反射的条件。

第二辐射44穿过doe26朝向侧表面36的传播通过多次出现全内反射和衍射的组合而发生。通过遵循指示第二辐射44的箭头(实线)，观测者将清楚这点。在第二辐射44投射在入射表面32上的每个点处，该第二辐射通过全内反射进行反射。在第二辐射44投射在光栅30上的每个点处，该第二辐射的一部分衍射成更高(非零)阶，如虚线所示，而第二辐射44的其余部分通过全内反射(等同于零衍射阶)进行反射。较高衍射阶再次通过全内反射从入射表面32反射。衍射和全内反射的这一过程贯穿doe26的整个宽度持续进行，其中第二辐射44同时探测光栅30和入射表面32，直到经反射的和衍射的第二辐射44投射在侧表面区段36上。

可对次级辐射源38到侧表面区段34的距离和耦合进行优化以提供由第二辐射44在光栅30上的均匀光照。该优化还可用于实现来自光栅30的针对在doe26内传播的衍射模式的高的内部衍射效率，和针对不被完全内部反射(即，将从doe“泄漏”出来)的衍射模式的低的衍射效率。

通常，侧表面区段36是透明的并且垂直于doe26的光学表面，从而允许第二辐射44穿过侧表面出射。另选地，经反射和衍射的第二辐射44可通过取向成与光学表面不平行的任何合适角度的光透射侧表面出射。

辐射检测器40接收并感测通过侧表面区段36离开doe26的第二辐射44的相应部分。在图示的实施方案中，辐射检测器40的前表面被固定成与doe26的侧表面区段36接触。使用多于一个的辐射检测器允许感测侧表面处的第二辐射44的空间分布并将空间分布中的附加信息用以监测doe26。多于一个的辐射检测器还允许对来自检测器的信号进行差动感测。这继而降低了对信号的共模变化诸如第二辐射源38的功率波动进行感测的灵敏度，以及第二辐射源38和辐射检测器40的轻微不对准的灵敏度。

控制器42监测来自辐射检测器40的信号，这些信号指示光栅30的效率。光栅30性能下降还是完全失效，将使经反射和衍射的第二辐射44的强度受到影响，并且辐射检测器40输出的信号将相应地变化。

如果信号超出特定的允许范围，特别是如果信号变化超过某一阈值——降至预定义最低水平以下或超过预定义最大值，则控制器42将抑制初级辐射源22的操作，并且仅需彻底关闭初级辐射源。这样，控制器42间接地监测来自第一辐射的零阶衍射的强度，该零阶衍射随光栅效率降低而变强，由此监测能够防止光学投影仪20的操作超出其介于衍射阶37之间的正常平衡。为了执行上述功能，控制器42可包括例如嵌入式微控制器或甚至简单的阈值感测逻辑装置，它们可与光学投影仪20集成在一起。另选地，控制器42的功能可由微处理器执行，该微处理器还执行其中集成有光学投影仪20的系统中的其它功能。

图2为根据本发明的实施方案的光学投影仪20的示意性侧视图，其示出了移除光栅30的周期46(模拟光栅30的局部擦除)的效果。由于周期46的局部擦除，在该位置处不发生第二辐射44的衍射。与图1相比，衍射的这一缺失改变了在侧表面36处的未经衍射和经衍射的第二辐射44之间的平衡，并因此改变了来自辐射检测器40的信号之间的平衡。这种被改变的平衡将由控制器42来检测，并且可在变化超过给定极限的情况下，使得控制器42抑制初级辐射源22的操作。

图3是根据本发明的另一实施方案的带有光束监测器的doe26的示意性俯视图。doe26包括位于基底28顶部上的光栅30、入射表面32(该附图中未示出)和四个侧表面区段，其中用于本发明的相关的侧表面区段是区段34和36。如在图1-图2中，次级辐射源38和辐射检测器40分别附接到侧表面区段34和36。然而，在图3所示的视图中，示出了沿侧表面区段36的长度对准的单独的辐射检测器40a-40c，其中辐射检测器40b位于侧表面区段36的中间，并且其余的两个检测器朝向基板28的角落、相对于辐射检测器40b对称地定位。控制器42连接到次级辐射源38、辐射检测器40a-40c和初级辐射源22(未示出)。

在图3中，以举例的方式，检测器40a-40c相对于辐射源38对称地定位，并且定位在区段36的中间和角落。这些特征部均不是必需的，而源38和检测器40可以任何适当方式定位在各种不同的位置。此外，虽然每个检测器在理论上从doe的所有部分对光26进行取样，但给定检测器40将对沿着或靠近源38和检测器之间的光学路径出现的缺陷更敏感。为了增强检测，可能期望具有一定数量的检测器和/或具有占据一个或多个侧表面的侧面面积的一定百分比的检测器。

图3中的辐射源38仅占据doe的宽度的一小部分，这可能导致在光栅上的不均匀辐射透射。在一些情况下，可能期望使辐射源的宽度至少为光栅的宽度。在其他情况下，可能期望具有多个单独可寻址的辐射源。

图4为根据本发明的另一个实施方案的具有后一种光束监测器的doe26的示意性俯视图。在该实施方案中，多个辐射源38a-38c可以被同时地或顺序地照射。在具有三个辐射源的本实施例中，激活辐射源38a可有助于促成对doe26左侧的缺陷的检测；激活辐射源38b可以促进doe的中部等的检测(然而，应当理解，当位于一侧的辐射源被激活时，可能仍然能够检测位于doe的另一侧的缺陷。)

图5是根据本发明的另一实施方案的具有光束监测器的doe26的示意性顶视图，其中检测器40位于doe的侧表面36的多个不同区段。这种方法可根据检测器布置提高检测光栅不同部分上的缺陷的灵敏度。尽管在该附图中示出检测器40被定位在doe26的三个侧面区段上，但检测器40还可另选地被定位在两个侧面或更多侧面上(这取决于doe具有多少个侧表面区段)。

在其他实施方案中(附图中未示出)，doe26可具有位于多个侧表面区段上的发射器和位于多个侧表面区段上的检测器。如上文所示的实施方案中，每个表面区段可仅具有发射器或仅具有检测器。另选地，在对称或非对称布置中，一个或多个表面可具有定位在其上的发射器和检测器。(本文提及的使发射器和检测器定位在侧表面区段“上”应理解为是指发射器通过侧表面发射辐射并且检测器接收来自侧表面的辐射，但不一定与侧表面直接物理接触。)

在本发明的一些实施方案中(附图中未示出)，将如上所述的次级辐射源和检测器施用于多个堆叠的doe，诸如以上述美国专利申请公布2009/0185274中所示的布置方式。在此类实施方案中，可存在独立的测试装置，具有针对每个单独的doe的次级辐射源和检测器。在一些情况下，用于一个doe的次级辐射源可具有与用于其他doe的次级辐射源相同的发射光谱，或者它们可具有不同的发射光谱。在这些情况中的部分情况下，可以时分复用的方式来检查doe(例如，以减少两个doe之间的串扰)。在其他情况下，可以同时检查doe。例如，在辐射源具有不同发射光谱的情况下，用于一个doe的检测器可对其他doe的光谱之外的某些波长选择性地敏感(例如，经由滤波器)，反之亦然。辐射源和检测器可以被定位在两个doe的相同侧，或者它们可以按照任何适当的相对取向的不同的检测布置方式而定位。

应当理解，上文所描述的实施方案以示例的方式引用，并且本实用新型不限于上文已特别示出或描述的内容。相反，本发明的范围包括上文所述的各种特征、以及本领域的技术人员在阅读以上描述之后会想到的在现有技术中没有公开的其变型形式和修改形式的组合和子组合。

权利要求书(按照条约第19条的修改)

1.一种光学装置，包括：

衍射光学元件(doe)，包括：

至少一个光学表面；

侧表面，其中所述侧表面与所述doe的所述至少一个光学表面不平行；和

光栅，所述光栅形成在所述至少一个光学表面上以便接收和衍射来自初级辐射源的入射到所述光栅上的第一辐射；

至少一个次级辐射源，所述至少一个次级辐射源被配置为使第二辐射被定向成投射在所述侧表面上的第一位置，使得所述第二辐射的至少一部分在从所述光栅内部地衍射时在所述doe内传播，并且通过所述侧表面上的至少一个第二位置出射；和

至少一个辐射检测器，所述至少一个辐射检测器邻近所述至少一个第二位置定位以便接收并感测已通过所述侧表面出射的所述第二辐射的强度。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述侧表面垂直于所述doe的所述至少一个光学表面。

3.根据权利要求1所述的装置，其中所述至少一个辐射检测器包括与所述doe的所述侧表面接触的前表面。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的装置，并且包括控制器，所述控制器被耦接以接收来自所述至少一个辐射检测器的指示已通过所述侧表面出射的所述第二辐射的所述强度的至少一个信号，并且响应于所述至少一个信号来监测所述doe的性能。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述至少一个辐射检测器包括至少第一辐射检测器和第二辐射检测器，并且其中所述控制器被耦接以接收分别来自所述第一辐射检测器和所述第二辐射检测器的第一信号和第二信号，并且被配置为响应于所述第一信号和所述第二信号之间的差来监测所述性能。

6.根据权利要求4所述的装置，并且包括所述初级辐射源，所述初级辐射源被配置为使所述第一辐射朝向所述doe的所述至少一个光学表面定向，其中所述控制器被耦接以响应于所监测的性能来控制所述初级辐射源的操作。

7.根据权利要求6所述的装置，其中所述控制器被配置为在所述至少一个信号超出预定义范围时，抑制所述初级辐射源的所述操作。

8.根据权利要求7所述的装置，其中所述光栅被配置为使所述第一辐射定向成多个衍射阶，并且其中所述至少一个信号的变化指示零阶衍射的强度的增加，并且所述控制器被配置为在所述变化超过预定义阈值时抑制所述初级辐射源的所述操作。

9.根据权利要求6所述的装置，其中所述初级辐射源和所述至少一个次级辐射源被配置为以不同的相应波长分别发射所述第一辐射和所述第二辐射。

10.一种光学方法，包括：

定位衍射光学元件(doe)，所述衍射光学元件(doe)具有侧表面和在其上形成光栅的至少一个光学表面，其中所述侧表面不平行于所述至少一个光学表面，以接收和衍射入射在所述光栅上的第一辐射；

使第二辐射被定向成投射在所述侧表面上的第一位置，使得所述第二辐射的至少一部分在从所述光栅内部地衍射时在所述doe内传播，并且通过所述侧表面上的至少一个第二位置出射；以及

接收并感测已通过所述侧表面出射的所述第二辐射的强度，以便监测所述doe。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述侧表面垂直于所述doe的所述至少一个光学表面。

12.根据权利要求10所述的方法，其中接收并感测所述强度包括使用具有与所述doe的所述侧表面接触的前表面的辐射检测器来感测所述强度。

13.根据权利要求10-12中任一项所述的方法，其中接收并感测所述强度包括响应于指示已通过所述侧表面出射的所述第二辐射的所述强度的至少一个信号来监测所述doe的性能。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述至少一个信号包括至少第一信号和第二信号，并且其中监测所述doe的所述性能包括响应于所述第一信号和所述第二信号之间的差来监测所述性能。

15.根据权利要求13所述的方法，并且包括使所述第一辐射从初级辐射源朝向所述doe的所述至少一个光学表面定向，并且包括响应于所监测的性能来控制所述初级辐射源的操作。

16.根据权利要求15所述的方法，其中控制所述初级辐射源的所述操作包括当所述至少一个信号超出预定义范围时抑制所述操作。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述光栅被配置为使所述第一辐射被定向成多个衍射阶，并且其中所述至少一个信号的变化指示零阶衍射的强度的增加，并且其中控制所述初级辐射源的所述操作包括在所述变化超过预定义阈值时抑制所述操作。

18.根据权利要求15所述的方法，其中所述第一辐射和所述第二辐射以不同的相应波长发射。