1.一种半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，包括：
工作台组件，用于放置所述半导体器件；
高度滑尺固定组件，其固定连接在所述工作台上；
高度滑尺，其第一端固定连接在所述高度滑尺固定组件上；
水平滑尺，其第一端与所述高度滑尺的第二端固定连接；
颗粒检测器，用于检测所述半导体器件表面颗粒物，所述颗粒检测器固定设置在所述水平滑尺的第二端。
2.如权利要求1所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述工作台组件包括：
旋转平台组件，包括用于放置半导体器件的旋转平台面和用于旋转的旋转台，所述旋转平台面设置在所述旋转台上；
工作台，用于支撑所述旋转平台组件。
3.如权利要求2所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述旋转平台面上设置有用以使半导体器件放置在所述旋转平台正中心的角度与尺寸刻度。
4.如权利要求3所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述旋转平台面上设置有用以确认所述旋转平台面旋转位置的平台标记点。
5.如权利要求3所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述旋转平台面上设置有用以确认所述旋转平台面旋转角度的角度标记。
6.如权利要求3所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述旋转平台面设有旋转中心，以所述旋转中心为圆心形成至少三个圆圈，所述旋转平台面上还标记有所述三个圆圈的半径刻度。
7.如权利要求1所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述高度滑尺设置有通槽，所述高度滑尺的第一端通过固定部件穿过高度滑尺的通槽与所述高度滑尺固定组件固定连接。
8.如权利要求1所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述水平滑尺设置有通槽，所述水平滑尺的第一端通过固定部件穿过水平滑尺的通槽与所述高度滑尺的第二端固定连接。
9.如权利要求1所述的半导体器件表面颗粒测量平台，其特征在于，所述水平滑尺的第二端设有通孔，所述颗粒检测器通过固定部件穿过通孔与所述水平滑尺的第二端固定连接。