一种莠去津残留药害的快速鉴定方法及其应用
【技术领域】
[0001] 本发明属于农药检测技术领域，特别涉及一种莠去津残留药害的快速鉴定方法及 其应用。
【背景技术】
[0002] 莠去津（atrazine)为均三嗪类除草剂，主要用于防除玉米、高粱和甘蔗等作物田 防除各种阔叶杂草及禾本科杂草。由于其对玉米、甘蔗等作物具有高度的选择性和杀草谱 广、使用方便、价格低廉等优点，成为田间普遍使用的除草剂。我国从20世纪60年代开始 引进莠去津，随着使用年限的增加，以及对这种除草剂的过度依赖及频繁使用，导致田间杂 草逐渐产生抗药性。但是，为了达到预期的防除效果，农民会不断的加大药剂使用剂量和次 数，此举最终导致更加严重的后果，除草剂的成分绝大部分都游离存在于土壤中，经常导致 后茬作物出现药害，常表现为植株生长受抑制、整株枯死，最终产量显著下降。由于除草剂 的种类较多，药害症状特别是抑制生长或植株枯死的药害症状相似，因此，在生产上仅从植 株外观形态上较难准确判断是哪种除草剂产生的残留药害。本发明针对莠去津，建立了一 种准确、快速的鉴定方法，对于正确选择补救药剂具有重要意义。本发明方法中涉及利用 IMAGING-PAM早期检测具备科学、直观、快速、简单、可靠的优点
【发明内容】
[0003] 为了克服上述现有技术的缺点与不足，本发明的首要目的在于提供一种莠去津残 留药害的快速鉴定方法。该方法能快速、有效且不受浓度限制地鉴定作物体内莠去津的残 留药害影响，特别是对作物光合作用的影响。
[0004] 本发明另一目的在于提供上述方法在农田作物、土壤和水体中莠去津残留药害早 期鉴定中的应用。
[0005] 本发明的目的通过下述方案实现：
[0006] -种莠去津残留药害的快速鉴定方法，该方法通过检测作物叶绿素荧光强度变化 进行鉴定。
[0007] 本发明方法通过检测作物前后两次的荧光强度变化进行鉴定，前后两次检测的时 间间隔不小于24h。
[0008] 本发明方法优选利用IMAGING-PAM检测仪检测作物叶绿素荧光强度变化进行鉴 定。
[0009] 所述作物优选为黄瓜或豇豆。
[0010] 所述检测的部位优选为叶片或茎基部。
[0011] 所述的叶绿素荧光强度优选指光合参数最大光合效率（Fv/Fm)和实际光合效率 (ΠΙ)。
[0012] 上述方法具体包括以下步骤：
[0013] 直接检测待测作物前后两次的叶绿素荧光强度，比较前后两次的光合参数最大光 合效率（Fv/Fm)和实际光合效率（YII)，鉴定待测作物的莠去津残留药害。
[0014] 或将无药害作物种子，播种于待测土壤中，培养至作物长出叶片，检测作物前后两 次的叶绿素荧光强度，比较前后两次的光合参数最大光合效率（Fv/Fm)和实际光合效率 (YII)，鉴定待测作物的莠去津残留药害。
[0015] 或将无药害作物种子，播种于待测水中，培养至作物长出叶片，检测作物前后两 次的叶绿素荧光强度，比较前后两次的光合参数最大光合效率（Fv/Fm)和实际光合效率 (YII)，鉴定待测作物的莠去津残留药害。
[0016] 前后两次检测的时间间隔不小于24h。
[0017] 上述的培养至作物长出叶片优选为培养5天。
[0018] 所述叶绿素荧光强度优选通过IMAGING-PAM检测仪进行检测得到。
[0019] 为了获得更合适的光强，测定Fv/Fm时，所述工艺条件优选为：先照射一个光强小 于1 μ moL · m 2 · s 1的测量光，再照射饱和脉冲光10000 μ moL · m 2 · s 1O
[0020] 为了获得更合适的光强，测定YII时，所述工艺条件优选为：内源光化光为 133 μ moL · m 2 · s、
[0021] 所述的无药害作物种子优选在播种前预先催芽露白至0. 5~1cm。
[0022] 所述培养优选在光照培养箱中进行，温度优选为28/25Γ (白天/晚上）。
[0023] Fv/Fm反映了植物潜在的最大光合作用能力；YII反映了植物实际光合能力的大 小。当Fv/Fm和YII均出现下降时，可鉴定作物受到药害，且受害程度越严重，下降越明显， 说明其生长环境中莠去津的浓度越高。且，本发明方法鉴定药害的最低浓度为0. 09ppm，相 比目测药害鉴定的浓度的0. 9ppm，检测下限更低，具有简便、快速、准确特点，可以作为农田 作物、土壤和水体中是否存在莠去津残留药害诊断的一种新手段。
[0024] 普通目测鉴定莠去津药害的现象一般为：作物下胚轴逐渐出现失绿，下胚轴近生 长点部位出现断裂，且从作物受到药害到出现上述药害现象至少需要10~11天。而本发 明方法时间短，对于农田作物，只需监测1天前后的荧光强度即可鉴定得到结果，对于未栽 种作物土壤或水体，只需6天即可鉴定其药害。
[0025] 本发明相对于现有技术，具有如下的优点及有益效果：
[0026] (1)本发明方法操作简便、结果可靠。
[0027] (2)本发明鉴定结果速度快，且鉴定下限低，可快速、准确鉴定药害。
【附图说明】
[0028] 图1为不同浓度莠去津处理5天对黄瓜下胚轴及根长的影响。
[0029] 图2为不同浓度莠去津处理5天对黄瓜最大光合效率的影响。
[0030] 图3为不同浓度莠去津处理5天对黄瓜实际光合效率的影响。
[0031] 图4为不同浓度莠去津处理11天对黄瓜最大光合效率的影响。
[0032] 图5为不同浓度莠去津处理11天对黄瓜实际光合效率的影响。
[0033] 图6为不同浓度莠去津处理11天对豇豆下胚轴及根长的影响。
[0034] 图7为不同浓度莠去津处理11天对豇豆最大光合效率的影响。
[0035] 图8为不同浓度莠去津处理11天对豇豆实际光合效率的影响。
【具体实施方式】
[0036] 下面结合实施例和附图对本发明作进一步详细的描述，但本发明的实施方式不限 于此。
[0037] 实施例1
[0038] (1)将消毒后无药害黄瓜种子放入种子发芽盒中，置于28~30°C的生化培养箱中 进行催芽，直至作物发芽芽长约〇. 5~lcm，取出备用。
[0039] (2)莠去津梯度浓度溶液的配置：利用常规完全营养液配置不同浓度梯度的莠去 津溶液 〇· 009mg a. i. /L、0. 09mg a. i. /L、0. 45mg a. i. /L、0. 9mg a. i. /L、I. 8mg a. i. /L。
[0040] (3)分别取IOOmL不同浓度的莠去津溶液，加入5粒发芽种子，空白培养液为对照， 置于光照培养箱中培养，培养条件：温度为白天/晚上：28/25°C，光照周期为：12h/12h，光 照强度为3500~40001x。
[0041] (4)培养5天后，将作物幼苗从光照培养箱中取出后暗适应15~20min，然后放入 测定箱中，采用IMAGING-ΡΑΜ检测仪测定作物叶片和茎基部荧光参数PS II最大光合效率 (Fv/Fm)、PS II实际光合效率（YII)，得到最低检测下限0· 09ppm。
[0042] 实施例2
[0043] (1)将消毒后无药害黄瓜种子放入种子发芽盒中，置于28~30°C的生化培养箱中 进行催芽，直至作物发芽芽长约〇. 5~lcm，取出备用。
[0044] (2)莠去津梯度浓度溶液的配置：利用完全营养液配置不同浓度梯度的莠去津溶 液 0· 009mg a. i. /L、0. 09mg a. i. /L、0. 45mg a. i. /L、0. 9mg a. i. /L、L 8mg a. i. /L0
[0045] (3)分别取IOOmL不同浓度的溶液，加入5颗发芽种子，置于光照培养箱中培养，两 组四个重复，一组培养5天，一组培养11天，培养条件：温度为白天/晚上：28/25°C，光照周 期为：12h/12h，光照强度为3500~40001x。
[0046] (4)分别培养5天和11天后，将作物幼苗从光照培养箱中取出后，量取根长，下胚 轴长度，并观察植株生长状况，暗适应15~20min，然后放入测定箱中，采用IMAGING-PAM 检测仪测定作物叶片和茎基部荧光参