任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和所述第二传感器中的所述传感材料包括石墨烯氧化物，但是所述第一传感器和所述第二传感器中的一个传感器的材料包括所述第一传感器和所述第二传感器中的另一传感器的材料所没有的一个或多个官能团。7.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述传感材料包括从包括以下各项的组选择的材料:石墨稀氧化物、石墨稀、官能化的石墨稀、氮化硼、过渡金属硫族化物。8.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述传感材料包括相同材料的二维层的堆叠。9.根据权利要求8所述的装置，其中每个二维层具有小于100nm的厚度。10.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中针对所述第二参数的一个范围的值，所述第一传感器对所述第一参数的敏感度与所述第二传感器对所述第一参数的敏感度不同。11.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中针对所述第一参数的一个范围的值，所述第一传感器对所述第二参数的敏感度与所述第二传感器对所述第二参数的敏感度不同。12.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数中的一个参数而不是所述第一参数和所述第二参数中的另一参数敏感。13.根据权利要求12所述的装置，其中所述第二传感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数而不是所述第一参数和第二参数中的所述一个参数敏感。14.根据权利要求1至11中任一项所述的装置，其中所述第一传感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数两者敏感并且所述第二传感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数中的仅一个参数敏感。15.根据权利要求1至11中任一项所述的装置，其中所述第一传感器被配置为对所述第一参数和所述第二参数两者敏感并且所述第二传感器被配置为按与所述第一传感器不同的方式对所述第一参数和所述第二参数两者敏感。16.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器对所述第一参数的敏感度被选择性地控制。17.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第二传感器对所述第二参数的敏感度被选择性地控制。18.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中传感器的敏感度通过向所述传感器提供附加结构而被选择性地控制。19.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中传感器的敏感度通过提供结构以阻断所述第一参数或所述第二参数中的一个参数而被选择性地控制。20.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和/或所述第二传感器的敏感度通过使用能够渗透的物理附着的涂层选择性地抑制对形变的敏感度而不抑制对气态分析物进入的敏感度来被选择性地控制。21.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和/或所述第二传感器的敏感度通过使用未附着的不可渗透涂层选择性地抑制对气态分析物进入的敏感度而不抑制对形变的敏感度来被选择性地控制。22.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和/或所述第二传感器的敏感度通过使用密封来保持恒定的气态分析物浓度而被选择性地控制。23.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和/或所述第二传感器的敏感度通过保持恒定的形变而被选择性地控制。24.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和/或所述第二传感器的敏感度通过在所述第一传感器和所述第二传感器中使用不同厚度的传感材料而被区别地控制。25.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述第一传感器和/或所述第二传感器的敏感度通过在所述第一传感器和所述第二传感器中使用不同的传感材料而被区别地控制。26.根据任一项前述权利要求所述的装置，包括柔性基板。27.根据任一项前述权利要求所述的装置，包括能够通过拉伸形变和/或弯曲形变和/或扭曲形变而发生形变的基板。28.根据任一项前述权利要求所述的装置，包括温度补偿电路。29.根据任一项前述权利要求所述的装置，其中所述温度补偿电路包括惠斯登电桥布置，所述惠斯登电桥布置包括作为被耦合到相同节点并且电并联地被布置的阻抗的所述第一传感器和所述第二传感器。30.一种方法，包括: 处理来自包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器的输出，其中对所述第一参数的敏感度改变对所述第二参数的敏感度；以及 处理来自对所述第一参数和所述第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器的输出。31.根据权利要求30所述的方法，其中所述第一参数是形变并且所述第二参数是气态分析物的浓度。32.根据权利要求30或32所述的方法，其中所述第二传感器包括对所述第一参数和所述第二参数敏感的所述传感材料。33.根据权利要求32所述的方法，其中所述第一传感器对所述第一参数的敏感度与所述第二传感器对所述第一参数的敏感度不同。34.根据权利要求30至33中任一项所述的方法，包括: 处理来自所述第一传感器的输出和来自所述第二传感器的输出以确定针对所述第一参数的值和针对所述第二参数的值。35.根据权利要求34所述的方法，包括使用来自所述第一传感器的输出和来自所述第二传感器的输出来从数据库查找针对所述第一参数的值和针对所述第二参数的值。36.—种计算机程序，所述计算机程序在被载入处理器时能够实现根据权利要求30至35中任一项所述的方法。37.—种装置，包括: 至少一个处理器；以及 包括计算机程序代码的至少一个存储器， 所述至少一个存储器和所述计算机程序代码被配置为与所述至少一个处理器一起使得所述装置至少执行根据权利要求30至35中任一项所述的方法。38.—种装置，包括: 包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器，其中对所述第一参数的敏感度改变对所述第二参数的敏感度;并且 其中所述第一传感器对所述第一参数和所述第二参数中的一个参数的敏感度通过将所述第一参数和所述第二参数中的另一参数保持为常量而被控制。39.根据权利要求38所述的装置，其中所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数通过向所述传感器提供附加结构而被保持。40.根据权利要求38或39所述的装置，其中所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数通过提供附加结构以阻断与所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数相关联的改变而被保持。41.根据权利要求38、39或40所述的装置，其中所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数通过使用能够渗透的物理附着的涂层而被保持。42.根据权利要求38至40中任一项所述的装置，其中所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数通过使用未附着的不可渗透涂层而被保持。43.根据权利要求38至40中任一项所述的装置，其中所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数通过使用密封来保持恒定的气态分析物浓度而被保持。44.根据权利要求38至43中任一项所述的装置，其中所述第一参数和所述第二参数中的所述另一参数通过锁定恒定的形变而被保持。45.根据权利要求38至44中任一项所述的装置，包括第二传感器，所述第二传感器包括对所述第一参数和所述第二参数敏感的所述传感材料。46.一种方法，包括: 处理来自包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器的输出，其中对所述第一参数的敏感度改变对所述第二参数的敏感度;其中所述第一传感器对所述第一参数和所述第二参数中的一个参数的敏感度通过将所述第一参数和所述第二参数中的另一参数保持为常量而被控制。
【专利摘要】一种装置包括：包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料的第一传感器，其中对第一参数的敏感度改变对第二参数的敏感度。第一传感器对第一和第二参数中的一个参数的敏感度可以通过将第一和第二参数中的另一参数保持为常量而被控制。该装置可以包括对第一参数和第二参数中的至少一个参数敏感的第二传感器。第一参数可以是形变并且第二参数可以是气态分析物的浓度，例如湿度。第二传感器可以包括对第一参数和第二参数敏感的传感材料。
【IPC分类】G01N33/00
【公开号】CN105637362
【申请号】CN201480055305
【发明人】S·哈奎, S·M·伯里尼, R·怀特
【申请人】诺基亚技术有限公司
【公开日】2016年6月1日
【申请日】2014年8月28日
【公告号】EP3039420A2, US20150059471, WO2015028967A2, WO2015028967A3