因在于本实施例中，所述第一侧面箱 盖405的一侧与所述箱体401铰接。所述第一侧面箱盖405下端与所述箱体401箱底通过限位 连接件417连接，所述限位连接件417包括第一连接部418和第二连接部419;所述第一侧面 箱盖405下端与所述第一连接部418的一端铰接，所述第一连接部418的另一端与所述第二 连接部419的一端铰接，所述第二连接部419的另一端与所述箱体401箱底铰接。
[0052] 本发明中，所述机械栗201、所述分子栗202、所述手动隔断阀205、所述挡油阱213 以及所述挡油阱213的加热装置和所述分子栗202的加热装置安装在所述上面板302的下 方，所述真空校准分系统203和所述漏率校准分系统204的其他组成部分安装在所述上面板 302的上方，所述控制系统安装在所述真空及漏率多功能校准装置控制箱400的所述箱体 401 内。
[0053]在将所述控制系统安装到所述箱体401内时，先将所述第一侧面箱盖405打开，然 后将所述第二侧面箱盖406、所述第三侧面箱盖和所述第四侧面箱盖407卸掉，然后将所述 控制系统按照设计要求安装到所述控制系统安装架402上，安装完成后，将所述第二侧面箱 盖406、所述第三侧面箱盖和所述第四侧面箱盖407装上并用所述按压式锁定机构413使所 述第二侧面箱盖406、所述第三侧面箱盖和所述第四侧面箱盖407分别与所述箱体401固定 连接。
[0054]真空校准时，将被校真空规装在所述真空校准接入端221上，并使所述被校真空规 的仪表与所述真空校准接入端的通气管连通;然后关闭所有阀门；接着接通所述总电源开 关101和所述分子栗202用冷却水水源，然后开启所述机械栗201，接着依次打开所述电磁隔 断阀V 17212和所述手动隔断阀V4225,进而对所述手动隔断阀V3206到所述被校真空规之间 的导气管进行抽气，抽气抽约5分钟后在关掉所述手动隔断阀V 4225,然后依次打开所述电 磁隔断阀V15210、所述手动隔断_V1205和所述手动隔断阀V 3206,接着对所述真空室216进 行抽气；当所述电阻规G5224所指示数值小于20Pa时，启动所述分子栗202;待所述分子栗 202正常工作后（715Hz)约5分钟后，接通所述检测电离真空规GU14,如果所述监测电离真 空规GU14所指示的数值小于或等于1 X l(T2Pa时，接通所述标准电离真空规G2215和被校规 的电源;然后关闭所述监测电离真空规&214,接着用所述标准电离真空规G 2215测得所述真 空校准分系统203的动态极限真空度po和被校真空规测得动态极限真空度po'；然后通过所 述微调_V 16211对所述真空室216的调节得到一系列稳定的真空校准点，然后由这些真空校 准点测得的数值得出校准系数，即可完成校准;校准完毕后，关闭所述微调阀V 16211，接着关 闭被校真空规电源以及所述手动隔断阀V3206。使得所述真空室216的气压低于或等于系 统预设值时，然后关闭所述标准电离真空规G 2215的电源;接着关闭所述手动隔断阀W205， 然后关停所述分子栗202,接着关闭所述电磁隔断阀V15210;接着断开所述机械栗201、所述 分子栗202和所述总电源开关101，并关闭所述分子栗202用冷却水水源;然后将被校真空规 取下，并在所述真空校准接入端221的通气管管口上盖上盲板。其中对所述手动隔断阀 W205的操作可以通过阀门操作孔313完成，无需打开所述侧箱盖304。
[0055] 本实施例中，真空规和漏率的校准均在氮气氛围下完成，其原因在于高纯氮气获 取较为容易而且性质较为稳定同时密度也接近空气的密度，从而避免大气中液化后漂浮的 液滴对检定结果的影响。同时所述挡油阱213可以有效阻挡所述机械栗201中在低气压下挥 发出来的小分子有机物，避免所述小分子有机物通过所述检测管路进入所述分子栗202中 对所述分子栗202造成损坏。
[0056] 实施例2
[0057]如图2-11所示，真空及漏率多功能校准装置包括真空及漏率多功能校准装置检定 台300、真空及漏率多功能校准装置控制箱400、控制系统和真空及漏率多功能校准系统 200；
[0058]所述真空及漏率多功能校准装置检定台300包括安装架301、上面板302、侧面板和 上面板314;所述上面板302上设有管路安装孔以及定位螺孔311;所述侧面板包括侧箱盖 304和侧箱盖安装板303,所述侧箱盖安装板303设有侧箱盖安装槽306,所述侧箱盖安装槽 306槽底设有侧箱盖安装孔307,所述侧箱盖安装孔307内设有限位挡板312,所述侧箱盖304 设在所述侧箱盖安装孔307内；所述上面板302设在所述安装架301的顶部并与所述安装架 301固定连接，所述侧面板设在所述安装架301的侧面并与所述安装架301固定连接，所述上 面板314设在所述安装架301的底部并与所述安装架301固定连接;所述侧箱盖304上设有把 手305;所述侧箱盖304上设有阀门操作孔313;所述侧箱盖304内壁上设有旋转锁定机构，所 述旋转锁定机构与所述把手305固定连接;所述侧箱盖安装槽306为矩形槽;所述侧箱盖安 装孔307为矩形孔;所述侧箱盖安装槽306的长度大于或等于所述侧箱盖安装孔307的长度， 使所述侧箱盖安装槽306的宽度大于或等于所述侧箱盖安装孔307的宽度;所述侧箱盖304 内壁上设有限位槽317;所述侧箱盖安装孔307孔壁内侧设有限位凸起;所述限位挡板312 与所述限位凸起之间设有定位槽，所述定位槽的宽度大于或等于所述限位槽317的第二槽 壁316的厚度。所述管路安装孔包括真空校准端连接管路安装孔和漏率校准端连接管路安 装孔310。所述安装架301上设有面板增强肋板315,所述面板增强肋板315与所述安装架301 固定连接。所述真空校准端连接管路安装孔包括高真校准端连接管路安装孔308和低真空 校准端连接管路安装孔309。
[0059]所述真空及漏率多功能校准装置控制箱400包括箱体401和控制系统安装架402， 所述箱体401顶部设有上箱盖403,所述上箱盖403上沿周向设有第一散热孔404,所述箱体 401侧面设有第一侧面箱盖405、第二侧面箱盖406、第三侧面箱盖和第四侧面箱盖407，所述 第一侧面箱盖405设有观察窗口 408，所述观察窗口 408内设有透明玻璃板409，所述箱体401 箱底下表面四个角上均设有定位支脚410和万向脚轮411，所述万向脚轮411通过可调连接 件与所述箱体401箱底下表面固定连接;所述控制系统安装架402设在所述箱体401内，所述 控制系统安装在所述控制系统安装架402上;所述第二侧面箱盖406下端、所述第三侧面箱 盖下端和第四侧面箱盖407下端均设有第二散热孔412;所述第二侧面箱盖406、所述第三侧 面箱盖和所述第四侧面箱盖407上均设有按压式锁定机构413;所述第二侧面箱盖406、所述 第三侧面箱盖和所述第四侧面箱盖407均通过所述按压式锁定机构413与所述箱体401固定 连接;所述箱体401箱底上设有第三散热孔414;所述箱体401箱底上表面上设有风扇，所述 风扇进气口临近所述第三散热孔414，所述风扇出气口远离所述箱体401箱底上表面;所述 箱体401内还设有散热板415，所述散热板415与所述控制系统安装架402固定连接，所述散 热板415上设有通风孔416;所述第一侧面箱盖405下端与所述箱体401箱底通过限位连接件 417连接，所述限位连接件417包括第一连接部418和第二连接部419;所述第一侧面箱盖405 下端与所述第一连接部418的一端铰接，所述第一连接部418的另一端与所述第二连接部 419的一端铰接，所述第二连接部419的另一端与所述箱体401箱底铰接。
[0060]所述真空及漏率多功能校准系统200包括检测管路、真空校准分系统203、漏率校 准分系统204、机械栗201和分子栗202;所述检测管路包括导气管、手动隔断阀V9207、手动 隔断阀V 1Q208、手动隔断阀V2222、手动隔断阀Vi205、电磁隔断阀V15210和电阻规G 5224;所 述手动隔断阀V9207、所述手动隔断阀V1Q208、所述手动隔断阀V 2222、所述手动隔断_Vi205、 所述分子栗202、所述电磁隔断阀V15210和所述电阻规G 5224通过导气管依次连接;所述机械 栗201依次经过电磁放气阀V17212和挡油阱213与位于所述手动隔断阀V 9207和所述电阻规 G5224之间的所述检测管路连接导通，所述漏率校准分系统204与位于所述手动隔断阀V9207 和所述手动隔断阀V 2222之间的所述检测管路连接导通；
[0061 ]所述真空校准分系统203包括高真空校准分系统2031和低真空校准分系统2032， 所述高真空校准分系统2031与位于所述手动隔断阀V2222和所述手动隔断阀W205之间的所 述检测管路连接导通;所述高真空校准分系统2031包括真空室216(其为高真空室）、监测电 离真空规6 1214、标准电离真空规G2215和真空校准接入端221，所述监测电离真空规GU14与 所述真空室216连接导通，所述标准电离真空规G 2215与所述真空室216连接导通，所述真空 室216与位于所述手动隔断阀V2222和所述手动隔断阀W205之间的所述检测管路连接导通， 所述真空室216通过手动隔断阀V 3206与所述真空校准接入端221连接导通;所述真空校准 接入端221设有盲板;所述低真空校准分系统2032包括低真空室227、lOOOTorr标准薄膜规 G3228、lTorr标准薄膜规G4229和低真空校准接入端230,所述lOOOTorr标准薄膜规G3228与 所述低真空室227导通连接，所述ITorr标准薄膜规G 4229经过手动隔断_V13231与所述低真 空室227导通连接，所述低真空校准接入端230通过手动隔断阀V 5232与所述低真空室227导 通连接，所述低真空室227通过所述手动隔断阀V4225与所述真空校准接入端221与所述手 动隔断阀V 3206之间的导气管导通连接，所述低真空校准接入端230设有盲板，所述低真空 室227通过微调阀V6211与所述手动隔断阀V 2222和所述手动隔断阀VU05与所述真空室216 之间的导气管导通连接，所述微调阀V6211并联有手动隔断阀V?233和膨胀阀V 8234,自所述 微调阀V6211与所述低真空室227之间的导气管上延伸出的旁路导气管依次将所述膨胀阀 V8234和所述手动隔断阀V?233连接导通后与所述手动隔断阀％205与所述真空室216之间的 导气管导通连接;所述微调阀V 6211与所述低真空室227之间的导气管通过一个旁路导气管 依次导通连接微调阀V16和氮气存储装置226,通过另一个旁路导气管依次导通连接电磁隔 断阀V 14235和所述挡油阱213与所述电阻规G5224之间的导气管。
[0062] 所述漏率校准分系统204包括被校漏孔Li217、参考漏孔L2218、参考漏孔L3219和四 极质谱计M220,所述被校漏孔U217通过导气管接入位于所述手动隔断阀V9207与所述手动 隔断阀