触摸屏及显示装置制造方法
【专利摘要】本发明提供一种触摸屏，其包括一基片及一形成在该基片上用于侦测触摸动作的透明导电层。该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。本发明提供的触摸屏及显示装置通过采用蓝宝石作为该基片，由于蓝宝石具有较大的硬度和屈服强度，从而有效提高了该触摸屏的硬度和屈服强度。本发明还提供一种具有该触摸屏的显示装置。
【专利说明】触摸屏及显示装置【技术领域】
[0001]本发明涉及一种触摸屏，特别涉及一种使用蓝宝石的触摸屏及具有该触摸屏的显示装置。
【背景技术】
[0002]传统的触摸屏一般包括一玻璃片及一设置在玻璃片上用于侦测触摸动作的透明导电层。为了提高该触摸屏的硬度和屈服强度，需要对玻璃片进行物理或化学强化处理，过程复杂但效果并不明显。
【发明内容】
[0003]有鉴于此，有必要提供一种可提高硬度及屈服强度的触摸屏及一种具有该触摸屏的显示装置。
[0004]一种触摸屏，其包括一基片及一形成在该基片上用于侦测触摸动作的透明导电层。该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
[0005]一种显示装置，其包括一显示面板及一设置在该显示面板上的触摸屏。该触摸屏包括一基片及一形成在该基片上、与该显示面板相背且用于侦测触摸动作的透明导电层。该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
[0006]本发明提供的触摸屏及显示装置通过采用蓝宝石作为该基片，由于蓝宝石具有较大的硬度和屈服强度，从而有效提高了该触摸屏的硬度和屈服强度。 【专利附图】
【附图说明】
[0007]图1是本发明较佳实施方式提供的显示装置的结构示意图。
[0008]主要元件符号说明_
【权利要求】
1.一种触摸屏，其包括一基片及一形成在该基片上用于侦测触摸动作的透明导电层；该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
2.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该基片的长度在1-60英寸的范围内，宽度在0.5-60英寸的范围内，而厚度在0.2-1毫米的范围内。
3.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该触摸屏还包括一形成于该基片与该透明导电膜相背的抗反射膜。
4.如权利要求3所述的触摸屏，其特征在于，该抗反射膜包括多个依次交替重复堆叠于该基片上高折射率层及低折射率层，该抗反射膜膜系结构为(xHyL)n，4 ^ n ^ 8,1 <x<2，1 < y < 2，η为正整数，其中，χΗ表示该高折射率层，其光学厚度为χ/4倍中心波长，yL表示该低折射率层，其光学厚度为y/4倍中心波长，中心波长为工作波长的中间值，η为该高折射率层和该低折射率层重复堆叠的次数。
5.如权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，与该基片直接接触的为该高折射率层，η=5, 7时，该高折射率层置顶，而η=6，8时，该低折射率层置顶。
6.如权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，该高折射率层采用二氧化钛，而该低折射率层采用二氧化硅。
7.—种显示装置，其包括一显示面板及一设置在该显示面板上的触摸屏；该触摸屏包括一基片及一形成在该基片上、与该显示面板相背且用于侦测触摸动作的透明导电层；该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，该基片的长度在1-60英寸的范围内，宽度在0.5-60英寸的范围内，而厚度在0.2-1毫米的范围内。
9.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，该触摸屏还包括一形成于该基片与该透明导电膜相背的抗反射膜。
10.如权利要求9所述的显示装置，其特征在于，该抗反射膜包括多个依次交替重复堆叠于该基片上高折射率层及低折射率层，该抗反射膜膜系结构为(xHyL)n，4 ^n^8,l<x<2，1 < y < 2，η为正整数，其中，χΗ表示该高折射率层，其光学厚度为χ/4倍中心波长，yL表示该低折射率层，其光学厚度为y/4倍中心波长，中心波长为工作波长的中间值，η为该高折射率层和该低折射率层重复堆叠的次数。
【文档编号】G06F3/041GK103488322SQ201210195919
【公开日】2014年1月1日 申请日期:2012年6月14日 优先权日:2012年6月14日
【发明者】陈杰良 申请人:鸿富锦精密工业（深圳）有限公司, 鸿海精密工业股份有限公司