触控面板与具有该触控面板的触控装置制造方法
【专利摘要】本实用新型涉及触控【技术领域】，公开了一种触控面板，包含一基板、一遮蔽层以及一第一抗反射层。遮蔽层位于基板的表面，且遮蔽层包含一摄像窗，由部分遮蔽层镂空界定于基板的表面，而第一抗反射层则位于摄像窗内。本实用新型有助于降低生产成本并提高生产良率。
【专利说明】触控面板与具有该触控面板的触控装置
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及触控技术，特别涉及触控面板以及具有该触控面板的触控装置。【背景技术】
[0002]触控面板(touch panel)或触控屏幕(touch screen)逐渐普遍应用于电子装置中，特别是可携式或手持式电子装置，例如个人数字助理(PDA)或移动电话。目前的触控面板中，有些面板为增加抗反射能力及提高视觉的清晰度，会在其玻璃基板表面(触控操作表面)镀上一层抗反射膜，藉以降低玻璃基板表面的反射并增加光线通过玻璃基板的穿透率。此外，就设置有摄像孔的触控面板而言，该抗反射膜亦有助于提高影像提取时的影像清晰度。然而随着电子装置与触控面板的演进，高影像清晰度的需求亦不断提升。如何配置抗反射膜以提高影像清晰度乃触控面板产业的一项课题。
实用新型内容
[0003]有鉴于此，本实用新型的目的在于有效配置抗反射膜，以提高影像清晰度。本实用新型的实施例提供一种触控触控面板，包含一基板、一遮蔽层以及一第一抗反射层。遮蔽层位于基板的表面，且遮蔽层包含一摄像窗，摄像窗由部分遮蔽层镂空界定于基板的表面，而第一抗反射层则位于摄像窗内。
[0004]本实用新型的实施例中，遮蔽层将基板划分为一触控区域与一围绕触控区域的外围区域，且遮蔽层与摄像窗位于外围区域之内。
[0005]本实用新型的实施例中，第一抗反射层更覆盖于部分遮蔽层的表面。
[0006]本实用新型的实施例中，第一抗反射层限定于摄像窗内。
[0007]本实用新型的实施例中，另包含一第二抗反射层位于基板与遮蔽层之间。
[0008]本实用新型的实施例中，遮蔽层与第一抗反射层位于第二抗反射层上。
[0009]本实用新型的实施例中，基板具有一第一表面以及一第二表面，第一表面与第二表面位于基板的相反侧，且第二抗反射层位于基板的第二表面，另包含一第三抗反射层位于基板的第一表面上。
[0010]本实用新型的实施例中，另包含一功能层位于第三抗反射层上，其中功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
[0011]本实用新型的实施例中，基板具有一第一表面以及一第二表面，第一表面与第二表面位于基板的相反侧，且遮蔽层与摄像窗位于基板的第二表面，其中，另包含一第二抗反射层位于基板的第一表面上。
[0012]本实用新型的实施例中，另包含一功能层位于第二抗反射层上。功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
[0013]本实用新型的实施例另提供一种触控装置，包含一基板、一显示模块、一遮蔽层与一第一抗反射层。遮蔽层位于基板的表面，且遮蔽层包含一摄像窗，由部分遮蔽层镂空界定于基板的表面。显示模块具有对应至摄像窗的一影像提取元件，而第一抗反射层位于摄像窗内。
[0014]本实用新型的实施例中，遮蔽层将基板划分为一触控区域与一围绕触控区域的外围区域，且遮蔽层与摄像窗位于外围区域之内。
[0015]本实用新型的实施例中，第一抗反射层更覆盖于部分遮蔽层的表面。
[0016]本实用新型的实施例中，另包含一第二抗反射层位于基板与遮蔽层之间。
[0017]本实用新型的实施例中，遮蔽层与第一抗反射层位于第二抗反射层上。
[0018]本实用新型的实施例中，基板具有一第一表面以及一第二表面，第一表面与第二表面位于基板的相反侧，且第二抗反射层位于基板的第二表面。另包含一第三抗反射层位于基板的第一表面上。
[0019]本实用新型的实施例中，另包含一功能层位于第三抗反射层上。功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
[0020]本实用新型的实施例中，基板具有一第一表面以及一第二表面，第一表面与第二表面位于基板的相反侧，且遮蔽层与摄像窗位于基板的第二表面。另包含一第二抗反射层位于基板的第一表面上。
[0021]本实用新型的实施例中，另包含一功能层位于第二抗反射层上，其中功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。本实用新型的实施例中，另包含一中介基板位于遮蔽层与显不模块之间。
[0022]在本实用新型的实施例中，设置于摄像窗内的第一抗反射层有助于提高光通过摄像窗的光穿透率，例如将原本约90±2%的光穿透率提升至约94±2%。此外，第一抗反射层亦有助于提高影像提取元件提取影像时的清晰度。又，第一抗反射层可限制在摄像窗的范围内，因而使第一抗反射层占较小面积，有助于降低生产成本并提高生产良率。
[0023]本实用新型的技术内容及技术特点已揭示如上，然而本实用新型所属【技术领域】中的技术人员应了解，在不背离所附权利要求所界定的本公开精神和范围内，本实用新型的教示及揭示可作种种的替换及修饰。例如，上文揭示的许多元件可以不同的结构实施或以其它相同功能的结构予以取代，或者采用其组合。
[0024]此外，本案的权利范围并不局限于上文揭示的特定实施例的装置、元件或结构。本实用新型所属【技术领域】中的技术人员应了解，基于本实用新型教示及揭示装置、元件或结构，无论现在已存在或日后开发者，其与本案实施例揭示者以实质相同的方式执行实质相同的功能，而达到实质相同的结果，亦可使用于本公开。因此，权利要求用以涵盖此类装置、元件或结构。
【专利附图】
【附图说明】
[0025]本实用新型的前揭摘要以及下文的详细说明在伴随各附图来阅读时当可更容易了解。为达本实用新型的说明目的，各附图里图绘有现属较佳的各具体实施例。然而本实用新型并不限于所绘的精确排置方式及设备装置，此点应可理解。
[0026]图1A所示为根据本实用新型的一实施例，触控面板的俯视示意图；
[0027]图1B所示为根据本实用新型的一实施例，包含图1A触控面板的触控装置沿图1A中AA方向的剖面示意图；
[0028]图1C所示为根据本实用新型的另一实施例，包含图1A触控面板的触控装置沿图IA中AA方向的剖面示意图；
[0029]图2所示为根据本实用新型的又一实施例，触控装置的剖面示意图；
[0030]图3所示为根据本实用新型的另一实施例，触控装置的剖面示意图；
[0031]图4所示为根据本实用新型的再一实施例，触控装置的剖面示意图；
[0032]图5所示为根据本实用新型的一实施例，触控装置的剖面示意图；
[0033]图6所示为根据本实用新型的又一实施例，触控装置的剖面示意图；
[0034]图7所示为根据本实用新型的另一实施例，触控装置的剖面示意图；以及
[0035]图8所示为根据本实用新型的再一实施例，触控装置的剖面示意图。
[0036]其中，附图标记说明如下:
[0037]10触控面板
[0038]11 基板
[0039]12遮蔽层
[0040]14摄像窗
[0041]15第一抗反射层
[0042]18显示模块
[0043]20触控面板
[0044]25第二抗反射层
[0045]30触控面板
[0046]35第二抗反射层
[0047]36功能层
[0048]40触控面板
[0049]45第三抗反射层
[0050]50触控面板
[0051]51中介基板
[0052]60触控面板
[0053]70触控面板
[0054]80触控面板
[0055]100触控装置
[0056]101 第一表面
[0057]102 第二表面
[0058]111触控区域
[0059]112外围区域
[0060]185影像提取元件
[0061]200触控装置
[0062]300触控装置
[0063]400触控装置
[0064]500触控装置
[0065]600触控装置
[0066]700触控装置[0067]800触控装置【具体实施方式】
[0068]图1A所示为根据本实用新型的一实施例，触控面板10的俯视示意图。图1B所示为根据本实用新型的一实施例，包含图1A触控面板10的触控装置100沿图1A中AA方向的剖面示意图。请同时参照图1A及图1B,触控装置100包含触控面板10以及一显示模块
18。触控面板10包含一基板11、一遮蔽层12、一摄像窗14与一第一抗反射层15。其中，遮蔽层12设置于基板11的表面，并将基板11其划分为一触控区域111与一围绕触控区域111的外围区域112。遮蔽层12亦将部分基板11的表面外围区域112镂空界定为摄像窗14，做为影像提取的窗口。触控区域111内设置有触控感测电极层(未绘示于图中)，用以感测触控面板10上的触碰位置或轨迹。此外，外围区域112内亦设置有信号接线(未绘示于图中)，其电性连接触控感测电极层。
[0069]显示模块18具有对应至摄像窗14的一影像提取元件185,例如是电荷稱合元件(charge-coupled device;CO))、互补式金属氧化物半导体有源像素传感器(CMOS activepixel sensor)或红外线传感器(infrared sensor)。
[0070]在本实用新型的一实施例中，基板11可为一硬式透光基板或一可挠式透光基板，其材料可选自玻璃、压克力(PMMA)、聚氯乙烯(PVC)、聚丙烯(PP)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)、聚苯乙烯(PS)等透明材料。
[0071]基板11具有一第一表面101以及一第二表面102,且第一表面101与第二表面102位于基板11的相反侧。第一表面101做为触控装置100使用者触碰的介面，而例如在第二表面102上的触控区域111内设置有触控感测电极层，以感测使用者触碰于第一表面101的相关触碰位置或轨迹。触控感测电极层包含第一轴向电极与第二轴向电极。电极的材料可包括各种透明导电材料，例如，氧化铟锡(indium tin oxide; ITO)、氧化铟锋(indium zinc oxide; IZO)、氧化镉锡(cadmium tin oxide;CTO)、氧化招锋(aluminumzinc oxide ;AZ0)、氧化铟锋锡(indium tin zinc oxide; ΙΤΖ0)、氧化锋(zinc oxide)、氧化镉(cadmium oxide)、氧化給(hafnium oxide; HfO)、氧化铟嫁锋(indium gallium zincoxide; InGaZnO)、氧化铟嫁锋续(indium gallium zinc magnesium oxide; InGaZnMgO)、氧化铟嫁续(indium gallium magnesium oxide; InGaMgO)或氧化铟嫁招(indium galliumaluminum oxide; InGaAlO)。在一实施例中，电极的材料可包括不透明导电材料，例如，由金属材料构成的金属网格(Metal Mesh)。
[0072]遮蔽层12位于基板11第二表面102的外围区域112之内。遮蔽层12通常采用不透明材料制成，以遮蔽触控区域111外的元件例如信号接线。在本实用新型的一实施例中，遮蔽层12的材料可选自黑色光阻材料、黑色树脂、黑色油墨、低反射率的薄膜或具有其他颜色的类似材料。
[0073]摄像窗14由部分该遮蔽层12镂空界定于基板11的第二表面102的外围区域112之内。详言之，将部分外围区域112中未经遮蔽层12遮覆的部分界定为摄像窗14。摄像窗14的位置相对应于影像提取元件185，以俾影像提取元件185透过摄像窗14提取影像。
[0074]第一抗反射层15则位于摄像窗14内。在本实用新型的一实施例中，将一抗反射膜贴附于摄像窗14内来形成第一抗反射层15。在本实用新型的另一实施例中，则以喷涂或溅镀的方式于摄像窗14内形成第一抗反射层15。第一抗反射层15的设置有助于提高光通过摄像窗14的光穿透率，以满足影像提取元件185对光穿透率的要求。在本实用新型的一实施例中，第一抗反射层15的材料可选自铬(Cr)或氟化物例如铁氟龙胶与氟化钙(CaF2)。
[0075]在本实施例中，遮蔽层12与第一抗反射层15接触并且位于基板10的第二表面102上。又，在本实用新型的一实施例中，第一抗反射层15限定于摄像窗14与该部分遮蔽层之间。经此配置，由于第一抗反射层15的面积较小，仅需限制在摄像窗14的范围内，有助于降低生产成本并提高生产良率。
[0076]在本实用新型的另一实施例中，如图1C所示，第一抗反射层15更覆盖于部分遮蔽层12的表面。经此配置，第一抗反射层15能够更完整覆盖摄像窗14，有助于提高摄像窗14整体的光穿透率。
[0077]在本实用新型的实施例中，显示模块18可包含液晶显示(Iiquidcrystaldisplay;LCD)面板、电激发光(electroluminescent;EL)显示面板例如有机发光二极管(OLED)显示面板、电润湿(electrowetting)显示面板、电泳(electrophoretic)显示面板或其它各种类型的自发光型显示面板、非自发光型显示面板、硬式显示面板或可挠式显示面板。此外，显示模块18与触控面板10可利用一黏着层(未绘示于图中)加以黏合。举例而言，该黏着层使用一框形胶或口字胶，其仅设置在显示模块18与触控面板10之间的外围区域112。惟在其它变化实施例中，黏着层亦可为一完整的胶层。黏着层可包含光学胶(Optical Clear Resin; OCR)或光学胶带(Optical Clear Adhesive; OCA)。又，光学胶可以是水胶或光学透明的特殊双面胶。
[0078]图2所示为根据本实用新型的又一实施例，触控装置200的剖面示意图。请参照图2，触控装置200的元件与结构类同于图1B所示的触控装置100，惟触控装置200的触控面板20另包含一第二抗反射层25位于基板11与遮蔽层12之间。在本实施例中，遮蔽层12与第一抗反射层15接触并且位于第二抗反射层25上。第二抗反射层25的设置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本实用新型的一实施例中，第二抗反射层25的材料可选自铬(Cr)或氟化物例如铁氟龙胶与氟化钙(CaF2)。
[0079]图3所示为根据本实用新型的另一实施例，触控装置300的剖面示意图。请参照图3，触控装置300的元件与结构类同于图1B所示的触控装置100，惟触控装置300的触控面板30另包含一第二抗反射层35位于基板11的第一表面101上。第二抗反射层35的设置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本实用新型的一实施例中，第二抗反射层35的材料可选自铬(Cr)或氟化物例如铁氟龙胶与氟化钙(CaF2)。
[0080]又，触控装置300的触控面板30另包含一功能层36位于第二抗反射层35上。功能层36可包含但不限定于一防爆层(ant1-split; AS)、一抗眩光层(ant1-glare; AG)、一硬化层(hard coat;HC)以及一防指纹层(ant1-fingerprint; AF)的其中之一或其组合。
[0081]当功能层36做为防爆用途时，功能层36的材料可选自聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、三聚醋酸纤维素(TAC)、聚酯(PET)、聚丙稀(PP)、聚烃基(C0P)、或以所述材料组合制作。
[0082]当功能层36做为抗眩光用途时，功能层36的材料可选自二氧化硅。该抗眩光膜的雾度(haze)约介于1%?2%之间，用以散射光线并防止牛顿环的现象产生。
[0083]当功能层36做为硬化用途时，功能层36的材料可选自感光性树脂或二氧化硅(SiO2)，使得表面硬度例如高于2H、穿透率例如高于91 %、翘曲例如不高于10mm。[0084]当功能层36做为防指纹用途时，功能层36的材料可选自高分子薄膜、金属氧化物薄膜或纳米溶胶薄膜。
[0085]图4所示为根据本实用新型的再一实施例，触控装置400的剖面示意图。请参照图4，触控装置400的元件与结构类同于图2所示的触控装置200，惟触控装置400的触控面板40另包含一第三抗反射层45位于基板11的第一表面101上。并且，第二抗反射层25位于基板11的第二表面102上。第三抗反射层45的设置有助于提高基板11的光穿透率并降低基板11的光反射。在本实用新型的一实施例中，第三抗反射层45的材料可选自铬(Cr)或氟化物例如铁氟龙胶与氟化钙(CaF2)。
[0086]又，触控装置400的触控面板40另包含一功能层36位于第三抗反射层45上。功能层36可包含但不限定于一防爆层(ant1-split; AS)、一抗眩光层(ant1-glare; AG)、一硬化层(hard coat;HC)以及一防指纹层(ant1-fingerprint; AF)的其中之一或其组合。
[0087]图5所示为根据本实用新型的一实施例，触控装置500的剖面示意图。请参照图5，触控装置500的元件与结构类同于图1B所示的触控装置100，惟触控装置500的触控面板50另包含一中介基板51位于遮蔽层12与显不模块18之间。中介基板51的材料类同于基板11的材料。此外，中介基板51与基板11可利用一黏着层(未绘示于图中)加以黏合。又，中介基板51与显示模块18可利用另一黏着层(未绘示于图中)加以黏合。黏着层的结构与材料如前文实施例所述，于此不另赘叙。
[0088]中介基板51的设置有助于使触控感测电极层的电极的配置多样化，以俾触控装置500做不同的运用。举例而言，触控感测电极层的第一轴向电极可设置于基板11上，而第二轴向电极则设置于中介基板51上。再举例而言,触控感测电极层的第一轴向电极可设置于中介基板51靠近基板11的表面，而第二轴向电极则设置于中介基板51靠近显不模块18的表面。
[0089]图6所示为根据本实用新型的又一实施例，触控装置600的剖面示意图。请参照图6，触控装置600的元件与结构类同于图2所示的触控装置200，惟触控装置600的触控面板60另包含一中介基板51位于遮蔽层12与显不模块18之间。中介基板51的功用如前文实施例所述，于此不另赘叙。
[0090]图7所示为根据本实用新型的另一实施例，触控装置700的剖面示意图。请参照图7，触控装置700的元件与结构类同于图3所示的触控装置300，惟触控装置700的触控面板70另包含一中介基板51位于遮蔽层12与显不模块18之间。
[0091]图8所示为根据本实用新型的再一实施例，触控装置800的剖面示意图。请参照图8，触控装置800的元件与结构类同于图4所示的触控装置400，惟触控装置800的触控面板80另包含一中介基板51位于遮蔽层12与显不模块18之间。
[0092]在本实用新型的实施例中，设置于摄像窗14内的第一抗反射层15有助于提高光通过摄像窗14的光穿透率，例如将原本约90 ±2%的光穿透率提升至约94±2%。此外，第一抗反射层15亦有助于提高影像提取元件185提取影像时的清晰度。又，第一抗反射层15因面积较小，仅需限制在摄像窗14的范围内，有助于降低生产成本并提高生产良率。
[0093]本公开的技术内容及技术特点已揭示如上，然而本公开所属【技术领域】中的技术人员应了解，在不背离所附权利要求所界定的本公开精神和范围内，本公开的教示及揭示可作种种的替换及修饰。例如，上文揭示的许多元件可以不同的结构实施或以其它相同功能的结构予以取代，或者采用上述二种方式的组合。
[0094]此外，本案的权利范围并不局限于上文揭示的特定实施例的装置、元件或结构。本公开所属【技术领域】中的技术人员应了解，基于本公开教示及揭示装置、元件或结构，无论现在已存在或日后开发者，其与本案实施例揭示者以实质相同的方式执行实质相同的功能，而达到实质相同的结果，亦可使用于本公开。因此，以下的权利要求用以涵盖此类装置、元件或结构。
【权利要求】
1.一种触控面板,其特征在于,包含: 一基板； 一遮蔽层，位于该基板之上，其中该遮蔽层包含一摄像窗，由部分该遮蔽层镂空界定于该基板的表面；以及 一第一抗反射层，位于该摄像窗内。
2.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，其中该遮蔽层将该基板划分为一触控区域与一围绕该触控区域的外围区域，且该遮蔽层与该摄像窗位于该外围区域之内。
3.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，其中该第一抗反射层更覆盖于部分该遮蔽层的表面。
4.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，其中该第一抗反射层限定于该摄像窗内。
5.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，另包含一第二抗反射层位于该基板与该遮蔽层之间。
6.根据权利要求5所述的触控面板，其特征在于，其中该遮蔽层与该第一抗反射层位于该第二抗反射层上。
7.根据权利要求5所述的触控面板,其特征在于,其中该基板具有一第一表面以及一第二表面，该第一表面与该第二表面位于该基板的相反侧，且该第二抗反射层位于该基板的第二表面，其中，另包含一第三抗反射层位于该基板的第一表面上。
8.根据权利要求7所述的触控面板，其特征在于，另包含一功能层位于该第三抗反射层上，其中该功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
9.根据权利要求1所述的触控面板，其特征在于，其中该基板具有一第一表面以及一第二表面，该第一表面与该第二表面位于该基板的相反侧，且该遮蔽层与该摄像窗位于该基板的第二表面，其中，另包含一第二抗反射层位于该基板的第一表面上。
10.根据权利要求9所述的触控面板，其特征在于，另包含一功能层位于该第二抗反射层上，其中该功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
11.一种触控装置，其特征在于，包含: 一基板； 一遮蔽层，位于该基板的表面，其中该遮蔽层包含一摄像窗，由部分该遮蔽层镂空界定于该基板的表面； 一显示模块，具有对应至该摄像窗的一影像提取元件；以及 一第一抗反射层，位于该摄像窗内。
12.根据权利要求11所述的触控装置，其特征在于，其中该遮蔽层将该基板划分为一触控区域与一围绕该触控区域的外围区域，且该遮蔽层与该摄像窗位于该外围区域之内。
13.根据权利要求11所述的触控装置，其特征在于，其中该第一抗反射层更覆盖于部分该遮蔽层的表面。
14.根据权利要求11所述的触控装置，其特征在于，另包含一第二抗反射层位于该基板与该遮蔽层之间。
15.根据权利要求14所述的触控装置，其特征在于，其中该遮蔽层与该第一抗反射层位于该第二抗反射层上。
16.根据权利要求14所述的触控装置，其特征在于，其中该基板具有一第一表面以及一第二表面，该第一表面与该第二表面位于该基板的相反侧，且该第二抗反射层位于该基板的第二表面，其中，另包含一第三抗反射层位于该基板的第一表面上。
17.根据权利要求16所述的触控装置，其特征在于，另包含一功能层位于该第三抗反射层上，其中该功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中的一或其组合。
18.根据权利要求11所述的触控装置，其特征在于，其中该基板具有一第一表面以及一第二表面，该第一表面与该第二表面位于该基板的相反侧，且该遮蔽层与该摄像窗位于该基板的第二表面，其中，另包含一第二抗反射层位于该基板的第一表面上。
19.根据权利要求18所述的触控装置，其特征在于，另包含一功能层位于该第二抗反射层上，其中该功能层包含一防爆层、一抗眩光层、一硬化层以及一防指纹层的其中之一或其组合。
20.根据权利要求11所述的触控装置，其特征在于，另包含一中介基板位于该遮蔽层与该显示模块之 间。
【文档编号】G06F3/041GK203773511SQ201420189100
【公开日】2014年8月13日 申请日期:2014年4月17日 优先权日:2014年4月17日
【发明者】黄俊荣, 王盈富 申请人:宸鸿光电科技股份有限公司