一种触控面板的制作方法

文档序号:11551821阅读:166来源:国知局
一种触控面板的制造方法与工艺

本实用新型涉及触控技术领域,尤其涉及一种触控面板。



背景技术:

随着科技的进步,为了使电子装置具有更佳的效能,其所使用的制作工艺及设计皆朝向缩小其内部元件的尺寸与提高电路设置密度的方向发展。电容式触控面板技术是利用人体的电流感应进行工作的所述的电容形式的触控面板设有两种电极,发射电极TX,感应电极RX,触控面板的包括有电极图案和外围引线部分,现有技术中,触控面板基本上都是通过黄光光刻制作工艺所形成,而现有的黄光光刻制作工艺包含以下步骤:首先,于玻璃基板上产生一种薄膜,然后是光阻涂布,即将光阻均匀涂布于基板表面;接着是曝光工作,使用紫外线通过刻有图案的光罩,然后光罩的图案会出现在已经涂布光阻的基板上;接着,在基板上喷淋显影液对曝光后的基板进行显影,然后将曝光于紫外线下的溶解于显影液的光阻用去离子水冲洗,显影之后进行加热,然后进行未受光阻保护的薄膜层的蚀刻工作;最后进行剥膜工作。

上述现有技术制备触控面板的过程中的“光阻涂布”以及“显影”工作,对工作过程要求极为严格,此外工序“曝光”需要对加工的时间和曝光强度进行较严格的控制,而且“曝光”后的产品在进行“显影”工序之前,不能被暴露在光下,因此,对加工条件要求更加严格;此类制作工艺的成本也比较高。这些都将必然地提高触控面板的生产复杂程度,并增加成产成本。

另外,现有技术中的触控面板都是在电极层的制作完成以后,再单独进行印银线的工作,以制作外围引线,此步骤进一步增加了工艺的复杂性。



技术实现要素:

有鉴于此,本实用新型的目的在于,提供一种触控面板,以达到简化制造工艺、节省制造成本的目的。

为实现上述目的,本实用新型所提供的技术方案如下:

一种触控面板,包括:

基板,其上设置有透明导电薄膜;

所述透明导电薄膜具有一体成型的触控电极及其外围引线。

所述触控电极包括触控感应电极和触控发射电极,所述触控感应电极与

所述触控发射电极分别位于所述基板两侧,并且所述触控感应电极以及

所述触控发射电极均具有与其各自一体联接的外围引线,并且所述触控感应电极与所述触控发射电极呈纵横交叉排布。

所述透明导电薄膜为氧化铟锡ITO膜层。

本实用新型所提供的一实施例中,所述基板为玻璃基板。

本实用新型所提供的一实施例中,所述基板为薄膜FILM基板。

本实用新型所提供的一实施例中,所述触控感应电极呈长条形状,所述触控感应电极的中间还设置有方框,方框内为空白区域,该空白区域内设置有触摸子单元,所述触摸子单元内包含有子电极。

本实用新型所提供的一实施例中,所述子电极设置为多个,每个子电极为三角形状。

本实用新型所提供的一实施例中,所述子电极与其引线一体联接。

本实用新型所提供的一实施例中,所述触控发射电极为长方形,均匀设置于基板的一侧。

本实用新型所提供的一实施例中,所述触控感应电极与其相邻的触控感应电极之间也设置有第二子电极,所述第二子电极具有与其一体联接的引线。

本实用新型所提供的一种触控面板具有一体联接的触控电极及外围引线,省去了单独印制银线以制作外围引线的工作,因此具有工艺简单、节省成本的积极效果。

为使本实用新型的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1示出了本实用新型一个实施例提供的触控面板的制作方法流程示意图;

图2示出了本实用新型一个实施例提供的触控面板的制作方法的构图工艺的流程示意图;

图3示出了本实用新型一个实施例提供的一种触控面板的结构示意图;

图4示出了本实用新型一个实施例提供的另一种触控面板的结构示意图;

其中,附图标记如下:

图1:S110~S12:触控面板的制作方法步骤;

图2:S210~S240:一种构图工艺的流程步骤;

图3:310、触控发射电极;320、触控感应电极;330、第一外围引线;

340、空白区域;350、第二外围引线;

图4:300、基板;310、触控发射电极;320、触控感应电极;330、第一外围引线;340、空白区域;350、第二外围引线区;360触摸子单元;370、子电极。

具体实施方式

需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,下面将结合本实用新型实施例中附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。因此,以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围,而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型的实施例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

图1示出了本实用新型一个实施例提供的触控面板的制作方法流程示意图,如图1所示,本实施例所提供的一种触控面板,包括以下步骤:

S110、基板上形成一透明导电薄膜;

S120、通过构图工艺在上述透明导电薄膜上形成触控电极及其外围引线图案。

此处的触控电极及其外围引线一体化连接,可以一次性制作完成,免去了现有技术中触控面板的电极图案制作完成后还需要单独印制银线来做外围引线的步骤。

进一步的,如图2所示的实施例中,上述的构图工艺包括如下步骤:

S210、通过丝网印刷的方式将油墨印刷于带有透明导电薄膜的所述基板上,并使油墨呈预设形状,所述预设形状即为预设的触控电极及其外围引线的图案形状;

其中,丝网印刷的基本原理是,丝网印刷模板的部分网孔能够透过油墨,漏印至基板上,模板上其余部分的网孔被堵死不能透过油墨,从而在基板上形成空白,即未被油墨覆盖的区域。

另外,上述丝网印刷还具有成本低、操作简单、生产效率高等的优点。

S220、使所述油墨固化;

上述使油墨固化的的步骤可以通过加热固化或者光照固化的方式完成,该固化是的目的是使油墨的性质发生变化,使其快速干燥或者固体化。

其中,上述的光照固化,优选采用UV紫外线光照进行油墨的固化工作。

S230、将所述基板放入酸液中,刻蚀掉未被油膜覆盖的所述透明导电薄膜部分;

此步骤中也可以采用酸液喷淋基板的方式完成。

上述酸液的选择以能够刻蚀掉未被油膜覆盖的透明导电薄膜部分为标准,并且我们应该得到本方法中所采用的油墨应当是具有耐酸抗蚀性质的油墨。

并且,上述的酸液可以为HNO3(硝酸)稀释液或者HCI(盐酸)稀释液;本实用新型所提供的一实施例中为按照体积比为:盐酸:硝酸:水=9:1:6配置的酸蚀液。

S240、清洗掉所述油墨,得到所述触控电极及其外围引线图案。

此方法中可以,制造电极的同时得到电极的外围引线,无需再次进行印制银线,而且更加充分的利用透明薄膜导电层,大大节省了工艺流程和原材料。

上述在基板上形成透明导电薄膜之前还包括:对所述基板进行清洗工作。

基板的清洗工作要求比较高,因为如果其洁净度度不够会导致最终形成的电极发生短路或者断路等情况,致使整个触控基板最终无法工作,因此基板的清洁度对于触控面板的制造良率具有极大的影响。

因此,上述方法中,我们采用以下的方式对基板进行清洗:

1、用去离子水超声波清洗3次,每次6分钟;

2、用半导体清洗剂超声波清洗3次,每次5分钟;

3、用蒸馏水冲洗3次,每次5分钟;

4、配制浓度为5%的HCL(盐酸)溶液,清洗5次,每次6分钟;

5、用蒸馏水冲洗5次,每次5分钟;

6、用丙酮浸泡5分钟;

7、用乙醇浸泡5分钟;

8、用去离子水冲洗三次,每次6分钟;

9、用氮气吹干上述玻璃基板表面的水分;

10、烘干,将上述的玻璃基板置于红外烘干炉中,烘干30分钟后取出;

最后,检查玻璃基板上是否有水分残留,如果有则继续重复7、8、9步骤。

上述的半导体清洗剂呈碱性,主要用于清洗玻璃基板表面沾污有石蜡、油脂和油脂类高分子化合物以及玻璃基板表面沾污有金属原子和金属离子等;在半导体分立器件和中、小规模集成电路中能够完全代替传统半导体清洗工艺中使用的清洗液。

并且,上述半导体清洗剂清洗效果优于传统清洗工艺,但成本却大大降低,只有传统清洗工艺成本的10~30%,而且无毒无腐蚀性、对人体无危害、对环境无污染,经济效益显著。

在实际的生产过程中,上述的清洁步骤可以由依次排列的清洁设备自动完成。

在上述的的触控面板的制作方法,因为触控面板的电极包括触控发射电极和触控感应电极,我们可以选择性的进行制作电极及其一体连接的外围引线,比如,只通过上述构图工艺形成触控感应电极及其外围引线图案,或者只通过构图工艺形成触控发射电极及其外围引线图案,当然也可以触控感应电极与触控发射电极同时采用上述构图工艺进行一次性制作完成。

并且,上述在基板上形成一透明导电薄膜,可以为:在该基板的正面和反面分别形成一透明导电薄膜;

所述触控感应电极位于所述基板的正面;

所述触控发射电极位于所述基板反面。

此处的正面与方面是相对而说的,并不能作为位置限定,我们也可以说是触控感应电极位于所述基板的反面,触控发射电极位于所述基板正面。

另外,上述的透明导电薄膜为氧化铟锡ITO膜层;上述的基板可以为玻璃基板或者薄膜FILM基板。

所述的ITO为氧化铟锡,是一种铟氧化物和锡氧化物的混合物,在薄膜状态时,透明,略显茶色。氧化铟锡的主要特性是其电学传导和光学透明的组合。

并且上述的基板采用薄膜FILM可以进一步满足制作质轻、超薄、可弯曲的触控面板,继而进一步满足制作各式各样的触控显示屏。

本实用新型实施例提供了一种触控面板,包括:

基板,其上设置有透明导电薄膜;

所述透明导电薄膜具有一体成型的触控电极及其外围引线。

在本实施例中,上述触控面板的透明导电薄膜为氧化铟锡ITO膜层;

上述触控面板的基板为玻璃基板或者薄膜FILM基板。

进一步的,如图3、图4所示的实施例,触控电极包括触控感应电极320和触控发射电极310,上述触控感应电极320和上述触控发射电极310位于基板两侧,并且触控感应电极320以及触控发射电极310均具有与其各自一体联接的外围引线;具体的,每个触控感应电极联接有第一外围引线330,每个触控发射电极联接有第二外围引线350。并且触控感应电极与触控发射电极呈纵横交叉排布。

进一步的,如图3、图4所示的实施例,上述该触控感应电极320呈长条形状,触控感应电极320的中间还设置有方框,方框内为空白区域

340,该空白区域340内设置有触摸子单元360,所述触摸子单元内包含有子电极370。

并且上述的子电极可以设置为多个,并且可以为任意一种形状,比如优选为三角形状;并且所述子电极与其引线也可以一体联接,通过一次性制作完成。

此实施例中,触控发射电极为长方形,均匀设置于基板的一侧(相对于触控感应电极的一侧),长方形的触控发射电极的整个表面都是ITO(透明导电薄膜)制作而成。上述的长条形状的触控感应电极320除去所述空白区域340之外都为ITO(透明导电薄膜),并且触控发射电极上的ITO与触控感应电极上的ITO的交叉区域为正常触摸点。

上述子电极作为触控面板的辅助触摸点,用于辅助进行人手触摸动作的感应工作,增加了触控面积,提高了触控面板在感应使用者用手部或者其他身体部位的触摸动作的准确性。

当然,在一些实施例中,为了进一步增加触控面积,我们也可以在两个相邻的触控感应电极之间也设置有第二子电极,并且该第二子电极具有与其一体联接的引线。

以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应所述以权利要求的保护范围为准。

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