一种金属网格触摸屏的黑化方法及金属网格触摸屏与流程

本发明涉及触摸领域，尤其涉及一种金属网格触摸屏的黑化方法及金属网格触摸屏。

背景技术：

金属网格触摸屏凭借其低电阻、一体化、制程简单的优势在市场中受到越来越多的关注，尤其是超低电阻的特性使得其能在中大尺寸显示产品中得到很好的运用，并且还能支持主动笔。

由于金属材料具有较高的反光率，金属电极网格容易反射光线而形成底影和摩尔条纹等显示问题，因此需要增加一道黑化工艺来降低其表面反光率。黑化工艺指的是在金属电极网格的单面或双面上重叠一层低反金属网格（一般为氧化金属网格），形成“三明治”结构的复合电极网格。黑化工艺在工序上会依次层叠溅射低反金属薄膜层和金属薄膜层，然后用刻蚀液同时对低反金属薄膜层和金属薄膜层进行刻蚀，形成“三明治”结构的复合电极网格，但是，低反金属薄膜层和金属薄膜层的刻蚀速率不一致，会导致各种蚀刻不良、线条锯齿、异色等缺陷，尤其是金属电极网格的精细程度达到了线宽5um左右，对蚀刻要求更高。

技术实现要素：

为了解决上述现有技术的不足，本发明提供一种金属网格触摸屏的黑化方法和金属网格触摸屏。该黑化方法将金属网格触摸屏的黑化工艺集成在其光刻工艺中，不仅不会出现蚀刻不良、线条锯齿、异色等缺陷，还省掉了一道脱膜工序。

本发明所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：

一种金属网格触摸屏的黑化方法，包括：

步骤1：提供一金属薄膜衬底，所述金属薄膜衬底包括衬底基材和设置在所述衬底基材上的金属薄膜层；

步骤2：在所述金属薄膜层上涂布一层感光材料层，所述感光材料层的反光率低于所述金属薄膜层；

步骤3：对所述感光材料层进行曝光显影，形成感光材料网格；

步骤4：对所述金属薄膜层进行刻蚀，形成与所述感光材料网格相重叠的金属电极网格。

进一步地，所述感光材料层为黑色材料。

进一步地，所述感光材料层为导电材料。

进一步地，步骤3包括：

步骤3.1：采用曝光光源对所述感光材料层中覆盖所述衬底基材上的部分进行曝光

步骤3.2：采用显影液将所述感光材料层中被曝光的部分去掉。

进一步地，所述掩膜版中具有规则排列的多个镂空区域，使得所述掩膜版上形成有一网格状遮光区域。

进一步地，在步骤4中，采用刻蚀液将所述金属薄膜层从所述感光材料网格中露出的金属材料去掉，形成所述金属电极网格。

一种金属网格触摸屏，包括衬底基材和设置在所述衬底基材上的金属电极网格，还包括重叠设置在所述金属电极网格上的感光材料网格，所述感光材料网格的反光率低于所述金属电极网格。

进一步地，所述感光材料网格为黑色材料。

进一步地，所述感光材料网格为导电材料。

本发明具有如下有益效果：该黑化方法在金属网格触摸屏的光刻工艺中采用了反光率较低的感光材料层，在将所述金属薄膜层刻蚀为所述金属电极网格之后，直接将曝光显影形成的所述感光材料网格留在所述金属电极网格上，以降低所述金属电极网格的表面反光率，将金属网格触摸屏的黑化工艺集成在其光刻工艺中，在显影时，显影液不会腐蚀所述金属薄膜层，在刻蚀时，刻蚀液也不会腐蚀所述感光材料网格，互不影响，不仅不会出现蚀刻不良、线条锯齿、异色等缺陷，还省掉了一道将剩余感光材料去掉的脱膜工序。

附图说明

图1为本发明提供的黑化方法的步骤图；

图2为金属薄膜衬底的示意图；

图3为金属薄膜衬底在涂布感光材料层后的示意图；

图4为感光材料层在曝光时的示意图；

图5为感光材料层在显影后的示意图；

图6为金属薄膜层在刻蚀后的示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进行详细的说明。

实施例一

如图1所示，一种金属网格触摸屏的黑化方法，包括：

步骤1：提供一金属薄膜衬底，如图2所示，所述金属薄膜衬底包括衬底基材1和设置在所述衬底基材1上的金属薄膜层2；

在该步骤1中，所述衬底基材1可以为pe、pc、pmma、pi或玻璃等透明材料；所述金属薄膜层2可以为cu、ag、al或ti等金属材料，可通过溅镀、气相沉积或其他工艺制作在所述衬底基材1上。

步骤2：如图3所示，在所述金属薄膜层2上涂布一层感光材料层3，所述感光材料层3的反光率低于所述金属薄膜层2；

在该步骤2中，所述感光材料层3可以为感光油墨或光刻胶，可采用丝印或其他工艺涂布覆盖在整面金属薄膜层2上。

步骤3：对所述感光材料层3进行曝光显影，形成如图5所示的感光材料网格31；

在该步骤3中，所述感光材料网格31包括沿第一方向的多条第一感光材料线和沿第二方向的多条第二感光材料线，多条第一感光材料线和多条第二感光材料线之间相互交错形成网格状。

所述感光材料层3为正性感光材料，即其被曝光的部分可被显影液溶解，其未被曝光的部分不可被显影液溶解。

该步骤3包括：

步骤3.1：采用曝光光源4和掩膜版5对所述感光材料层3进行曝光；

在该步骤3.1中，在对所述感光材料层3进行曝光时，如图4所示，所述感光材料层3的一侧依次设置有掩膜版5和曝光光源4，所述掩膜版5上具有规则排列的多个镂空区域，使得所述掩膜版5上形成有一网格状遮光区域；曝光光线一部分透过所述掩膜版5中的镂空区域后照射在所述感光材料层3上，使得所述感光材料层3中被照射到的部分得到曝光，形成规则排列的多个曝光区域；曝光光线一部分照射在所述掩膜版5的网格状遮光区域上，使得所述感光材料层3中未被照射到的部分未得到曝光，形成网格状未曝区域。

优选地，所述感光材料层3为uv感光材料，所述曝光光源4为uv光源。

步骤3.2：采用显影液将所述感光材料层3中被曝光的部分去掉，形成所述感光材料网格31。

步骤4：对所述金属薄膜层2进行刻蚀，如图6所示，形成与所述感光材料网格31相重叠的金属电极网格21。

在该步骤4中，采用刻蚀液将所述金属薄膜层2从所述感光材料网格31中露出的金属材料去掉，被刻蚀掉金属材料的区域形成规则排列的多个空白区域，剩下的金属材料形成所述金属电极网格21。

该黑化方法在金属网格触摸屏的光刻工艺中采用了反光率较低的感光材料层33，在将所述金属薄膜层2刻蚀为所述金属电极网格21之后，直接将曝光显影形成的所述感光材料网格31留在所述金属电极网格21上，以降低所述金属电极网格21的表面反光率，将金属网格触摸屏的黑化工艺集成在其光刻工艺中，在显影时，显影液不会腐蚀所述金属薄膜层2，在刻蚀时，刻蚀液也不会腐蚀所述感光材料网格31，互不影响，不仅不会出现蚀刻不良、线条锯齿、异色等缺陷，还省掉了一道将剩余感光材料去掉的脱膜工序。

优选地，所述感光材料层3为黑色导电材料，通过控制所述感光材料层3内的碳浆比例可调节其黑色程度，以达到调节其反光率的目的；导电性在绑定fpc时，可避免所述感光材料层3导致外围引线的搭接位电阻过高。

实施例二

如图6所示，一种通过实施例一中所述的黑化方法形成的金属网格触摸屏，包括衬底基材1和设置在所述衬底基材1上的金属电极网格21，还包括重叠设置在所述金属电极网格21上的感光材料网格31，所述感光材料网格31的反光率低于所述金属电极网格21。

优选地，所述感光材料网格31为黑色导电材料。

以上所述实施例仅表达了本发明的实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制，但凡采用等同替换或等效变换的形式所获得的技术方案，均应落在本发明的保护范围之内。