一种导电结构、触控结构及触控显示装置的制作方法

文档序号:17987284发布日期:2019-06-22 00:30阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明实施例提供一种导电结构、触控结构及触控显示装置,涉及显示技术领域,相对于现有技术,可以降低导电网格的反射率。本发明实施例提供一种导电结构,包括层叠设置的透明的调制层、黑化层和导电层;所述调制层与所述黑化层接触;所述调制层的折射率为1.8~2.5,所述黑化层的吸光系数为1.0~2.0,所述导电层的材料为金属或合金;在所述黑化层设置在所述导电层和所述调制层之间的情况下,所述调制层的厚度范围为20nm~100nm,所述黑化层的厚度范围为30nm~200nm;在所述调制层设置在所述黑化层和所述导电层之间的情况下,所述调制层的厚度范围为20nm~55nm,所述黑化层的厚度范围为10nm~30nm。

技术研发人员:刘欢;杨忠正;曾亭;胡海峰;陈军;许占齐;董万如;陈闰;梁超
受保护的技术使用者:京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
技术研发日:2019.03.28
技术公布日:2019.06.21
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