1.一种超薄双面纳米银电容屏，其特征在于，包括依次层叠设置的双面纳米银膜，oca胶层和玻璃盖板,所述双面纳米银膜和oca胶层均为单层。
2.根据权利要求1所述的超薄双面纳米银电容屏，其特征在于，所述双面纳米银膜包括基膜和双层导电层，所述导电层材料为纳米银，所述基材为pet、pc、pmma中的一种或多种。
3.根据权利要求2所述的超薄双面纳米银电容屏，其特征在于，所述双面纳米银膜的基膜双面设有抗紫外线胶层，包括第一抗紫外线胶层和第二抗紫外线胶层。
4.根据权利要求1所述的超薄双面纳米银电容屏，其特征在于，所述电容屏厚度2.175mm-2.250mm。
5.一种超薄双面纳米银电容屏的制备方法，其特征在于，在双面纳米银膜上卷对卷贴合oca胶层并覆盖玻璃盖板。
6.根据权利要求5所述的超薄双面纳米银电容屏的制备方法，其特征在于，所述双面纳米银膜由卷对卷激光蚀刻制备而成。
7.根据权利要求5所述的超薄双面纳米银电容屏的制备方法，其特征在于，所述双面纳米银膜的制备方法包括：
(1)在所述基膜上采用湿法涂布导电材料制备得所述双面纳米银导电膜；
(2)在双面纳米银导电膜上激光蚀刻出导电线路图案；
(3)制作双面边缘电极引线；
(4)将制得的纳米银膜传感器粘贴在面板上。