电容式触摸屏的制作工艺的制作方法
【技术领域】
[0001 ] 本发明涉及触摸屏的技术领域，尤其涉及电容式触摸屏及其制作工艺。
【背景技术】
[0002]触摸屏成为最直观的人机交互装置，广泛应用在各种电子设备的操控输入。触摸屏种类按照原理主要分为电阻式、电容式、红外式和表面声波式，其中电容式触摸屏具有良好的触按手感、易于操作、可进行多指触控、透光性好、响应速度快等优点而得到广泛地应用。
[0003]电容式触摸屏的原理是:利用人体的电流感应进行工作，触摸屏的四边设置狭长的电极，在导电体内形成一个低电压交流电场；当手指触摸时，由于人体电场和触摸屏表面形成以一个耦合电容，对于高频电流来说，电容是直接导体，于是手指从接触点吸走一个很小的电流。这个电流分别从触摸屏的四角上的电极中流出，并且流经这四个电极的电流与手指到四角的距离成正比，控制器通过对这四个电流比例的精确计算，得出触摸点的位置。
[0004]目前，电容式触摸屏的制作方法中，不论是单层透明电极还是双层透明电极的触摸屏，非触控区的电路布线采用印刷导电油墨的方法或采用黄光制程工艺，存有工序繁多，成本较高，良品率较低的问题，特别现在需求触摸屏周边非触控区的边框越来越窄，传统线路工艺很难实现。
【发明内容】
[0005]本发明解决了现有技术电容式触摸屏的制作方法存有的缺陷，提供一种电容式触摸屏的制作方法，使其生产良品率提高，电路布线密集度提高，减少制作工序，提升生产效率。
[0006]本发明是通过下述技术方案来解决上述技术问题的，本发明是这样实现:一种电容式触摸屏的制作工艺，包括非触控区和触控区，所述非触控区是在触摸屏的周边内层设置铜膜电路层的区域，该区域用于电路布线；所述触控区是在触摸屏中心部位内层设置有透明的氧化铟锡薄膜电路层的区域，该区域设置触控电极路线图。
[0007]本发明提供一种电容式触摸屏的制作方法，在面板上的氧化铟锡薄膜层和铜膜层上分别刻出电路，所述面板由下向上，分别包括PET基板层、氧化铟锡薄膜层和铜膜层，其特征在于，其制作方法包括以下步骤:
[0008]步骤301、开料，根据单个产品显示屏的形状、大小和及排版数量，裁切所需要尺寸的面板。
[0009]步骤302、覆干膜，使用覆膜机把用于紫外线曝光的干膜材料覆在铜膜层的上表面，形成一层薄膜层；
[0010]步骤303、曝光固化干膜层，将排版好的菲林贴合在面板的干膜层上表面，通过曝光机的紫外灯透过菲林照射后，干膜产生聚合反应形成一种稳定的物质附着于铜膜层的上表面，所设计好的非触摸区图形转印在铜膜层上表面的干膜上。
[0011]步骤304、非触摸区图形显像，将菲林移离干膜层，使用显影液将转印在干膜层将非触摸区图形显像出来。
[0012]步骤305、蚀刻铜膜层，使用铜蚀刻液把触摸区上没有图形部份的铜膜层蚀刻去掉，保留了非触摸区的铜膜层；
[0013]步骤306、去掉干膜，把蚀刻完铜膜的面板使用脱干膜液把覆在铜膜层上表面的干膜层洗掉，面板周边图形铜膜层保留，中心部位的铜膜层去除，露出透明的氧化铟锡薄膜层，形成了透明视窗的触摸区。
[0014]步骤307、重新覆干膜，在开好视窗的铜膜层和氧化铟锡薄膜层的上表面再次涂覆上干膜层。
[0015]步骤308、转印电路图，将设计好电路的菲林贴合在面板的干膜层上表面，通过曝光机的照射后，干膜产生聚合反应形成一种稳定的物质分别附着于图形铜膜层和氧化铟锡薄膜层的上表面，所设计好电路线路图形一次性转印在干膜上表面。
[0016]步骤309、电路图形显像，将菲林移离干膜层，使用显影液将转印在干膜层将电路图形显像出来。
[0017]步骤310、蚀刻电路线路，把非触摸区的铜膜层电路线路使用铜蚀刻液蚀刻出来，然后使用氧化铟锡薄膜蚀刻液将触摸区的电极电路蚀刻出来。
[0018]步骤311、涂覆防氧化层，蚀刻完电路线路后，使用脱膜液把覆在铜膜电路层和氧化铟锡薄膜导电层的上表面的干膜洗除，然后涂覆上防氧化层，把铜膜层和氧化铟锡薄膜ITO导电层上的电路覆盖在触摸面板中间层内。
[0019]本发明的有益效果在于:本发明通过上述制作工艺后，形成电容式触摸屏板，在屏板上贴合光学透明高黏胶0CA，根据设计规格使用激光切割机进行单体触摸屏板的切割，单体触摸屏板的铜膜引线与信号处理的柔性电路相连接，组成电容式触摸屏设备。实现了触摸屏的铜膜层电路走线间隔最小值宽度达到0.05mm,比现有的线路走线间隔最小值宽度0.1mm要求大大缩小，可制作出窄边框的触摸屏；同时，铜膜层和氧化铟锡薄膜层上的电路线路图形一次性转印，同步蚀刻，非触控区的线路和触控区的电极图案采用两次化学蚀刻，不相互干扰，提升了广品的良品率，简化了生广工序，大大提闻了生广效率。
【附图说明】
[0020]图1是本发明的电容式触摸屏结构示意图；
[0021]图2是本发明的电容式触摸屏结构剖面图；
[0022]图3是本发明的面板结构示意图；
[0023]图4是本发明制作过程中的曝光显影示意图；
[0024]图5是本发明制作过程中的非触摸区图形显像示意图；
[0025]图6是本发明制作方法和流程图。
[0026]附图标记说明
[0027]1、非触控区，2、触控区，11、铜线路，10UPET基层，102、氧化铟锡薄膜电路层，103、铜膜电路层，104、防氧化保护层，105、干膜层，106、菲林，107、曝光灯。
【具体实施方式】
[0028]为了使本发明的目的和技术方案更加清楚，下面结合附图对本发明的【具体实施方式】作进一步详细描述。
[0029]如图1、图2所示，本发明提供一种电容式触摸屏，包括非触控区I和触控区2，所述非触控区I是在触摸屏的周边内层设置铜膜电路层103的区域，该区域用于电路布线；所述触控区2是在触摸屏中心部位内层设置有透明的氧化铟锡薄膜电路层的区域，该区域用于触控电路布线。
[0030]如图5、图6所示，本发明一种电容式触摸屏制造方法采用蚀刻的方法，在面板上的氧化铟锡薄膜层102和铜膜层103上分别刻出电路，该制作方法具体包括以下步骤:
[0031]步骤301、开料，根据单个产品显示屏的形状、大小和及排版数量，裁切所需要尺寸的面板。如图4所示，所述面板由下向上，