专利名称：光情报记录介质及光情报记录介质的制造方法
技术领域：
本发明是关于光情报记录介质及光情报记录介质的制造方法，特别是关于具有含色素记录层和光硬化性树脂光硬化形成硬化层的光情报记录介质及该光情报记录介质的制造方法。
背景技术：
以前，利用激光可记录1次情报的追记型光情报记录介质(光盘)称为CD-R，已广为人知，这种CD-R型的光情报介质的代表性结构是在透明的图盘状基板上依次形成以下积层，即，由有机色素形成的色素记录层，由金等金属形成的光反射层，进而由树脂形成的保护层，向这种光盘记录情报是通过利用近红外区域的激光(通常为780nm波长的激光)照射光盘进行的，色素记录层的照射部分吸收该光，使局部温度升高，通过物理的或化学的变化(例如生成点穴等)来改变该部分的光学特性，进行记录情报，另一方面，情报的再生是使和记录用激光相同波长的激光照射光盘，通过检测色素记录层的光学特性发生变化部位(记录部分)与未发生变化部位(未记录部分)的反射率差异进行再生。
最近，作为可记录比CD-R更高密度的介质，称之为DVD-R的追记型光盘已经实用化，并正在构筑起大容量记录介的地位。这种DVD-R的构造是在透明的圆盘状基板上依次由有机色素形成的色素记录层、光反射层和保护层形成积层盘的，将色素记录层作为内侧，用粘合剂贴合上2个盘，或者，其结构是将色素记录层作为内侧用粘合剂贴合上该盘和相同形状的圆盘状保护基板。
上述保护层的形成和盘的贴合，一般是使用紫外线硬化树脂等光硬化性树脂。当用光照射光硬化性树脂进行光硬化时，光也同时照射到色素记录层，导致记录层中所含色素一部分被分解，降低了记录特性。然而，以前的CD-R、DVD-R的结构是在光硬化层和色素记录层之间设有像光反射层一样的遮光层，使光线不能直接照射在色素记录层上，从而也就不产生记录特性降低的问题。
另一方面，近年来随着激光技术的发展，兰色激光等短波长的激光也已实用化。与此同时，也在进行开发一种使用比以前记录波长(780或630nm)更短波长450nm左右的光，能进行高密度记录的新型光情报记录介质。一般是越使照射激光光束经缩小，越能进行高密度记录，为了缩小束径，所以必须在从表面到很浅的位置上形成色素记录层。为此，在上述使用短波长的光情报记录介质中，在与规定厚度(CD-R为1.2mm)基板相反侧上设置薄膜保护层，从该薄膜保护层一侧照射光线进行记录。
进而，在与基板相反侧上设置薄膜保护层时，通过在基板上依次形成光反射层、色素记录层、薄膜保护层，对光硬化性树脂照射光线进行光硬化形成薄膜保护层时，光线同时也照射在色素记录层上。在这种使用短波长的光情报记录介质的结构中，记录层中所含的色素在制造时会有一部分被分解，导致记录特性降低。
在以前的CD-R、DVD-R中，为了不损伤记录光、再生光的入射面的基板表面，有人提出在基板表面上设置由光硬化性树脂形成的高硬度硬涂层。然而，这种情况也存在一定问题，即，向光硬化性树脂照射光进行光硬化形成硬涂层时，同时光线也照射在色素记录层上，记录层中所含的色素在制造时就有一部分被分解，从而导致记录特性降低。
发明内容
本发明鉴于上述以前存在的技术问题，其目的是提供一种光情报记录介质，在对光硬化性树脂进行光硬化形成光硬化层时，通过抑制色素记录层中所含色素的分解，得到具有良好的记录特性。本发明的另一目的是提供一种不使色素记录层中所含色素分解，对光硬化性树脂进行光硬化，能形成光硬化层的光情报记录介质制造方法。
为了解决上述课题，权利要求1中记载的光情报记录介质，特征是具有基板、可利用激光记录情报，而且含有在规定波长区域内具有主吸收带色素的记录层，和使用上述规定波长区域以外的光进行光硬化形成光硬化层。
权利要求2记载的光情报记录介质，特征是具有透明的基板，在该透明基板的一个表面上形成的，可利用激光记录情报，且含有在规定波长区域内具有主吸收带色素的记录层、和在该透明基板的另一表面上形成的，用上述规定波长区域以外光线进行光硬化形成的光硬化层。
权利要求3记载的光情报记录介质，特征是具有基板、在该基板上形成的光反射层、在该光反射层上形成的，可利用激光记录情报，且含有在规定波长区域内具有主吸收带色素的记录层、和在该记录层上形成的，用上述规定波长区域以外光线进行光硬化形成的光硬化层。
权利要求1-3记载的光情报记录介质，可利用激光记录情报的记录层含有在规定波长区域内具有主吸收带的色素，光硬化层是利用这种色素具有主吸收带的规定波长区域以外的光线进行光硬化所形成，所以能在制造时抑制色素记录层中所含色素的分解，从而具有良好的记录特性。
此处，所谓规定波长区域以外的光，即色素记录层中所含色素的主吸收带区域以外的光，是在色素记录层单体中的光透过率至少在50％以上(以光学浓度表示时，在0.3以下)的波长区域的光，为了更好地抑制色素分解，最好是光透过率在60％以上的波长区域的光，更好是光透过率在70％以上的波长区域的光。
为了进一步抑制色素分解，利用色素记录层单体中的光透过率至少50％以上波长区域的光，照射光硬化性树脂的照射量，相对于总照射量最好在50％以上，更好在60％以上，在70％以上尤其好。
权利要求4记载的光情报记录介质，特征是具有基板，在该基板上形成的光反射层、在该光反射层上形成的，可利用激光记录情报，且含有在400nm以下波长区域内具有主吸收带色素的记录层，和在该记录层上形成的，利用400nm以下波长区域的光照射的照射量，比利用比400nm长的波长区域的光照射的照射量少，进行光硬化形成的光硬化层。
权利要求4记载的光情报记录介质的可利用激光记录情报的记录层含有在400nm以下波长区域内具有主吸收带的色素，在记录层上形成的光硬化层是利用该色素具有主吸收带的400nm以下波长区域的光照射的照射量，比利用比400nm长的波长区域的光照射的照射量少，进行光硬化所形成，所以制造时能抑制色素记录层中所含色素的分解，并获得良好的记录特性。
权利要求4中记载的光情报记录介质，为了更好地抑制色素分解，利用400nm以下波长区域的光对光硬化性树脂的照射量，最好占总照射量(波长300～800nm范围内的照射量)的40％以下，更好占30％下，在20％以下尤其好。
权利要求5记载的光情报记录介质制造方法，特征是在形成了可利用激光记录情报，且含有在规定波长区域内具有主吸收带色素记录层的基板上，形成用上述规定波长区域以外光对光硬化性树脂进行光硬化形成光硬化层，以此制造光情报记录介质。
具体实施例方式
以下参照附图详细说明本发明的实施形态。
(第1种实施形态)第1种实施形态是对在基板表面设置硬涂层的CD-R型光情报记录介质适用本发明的实例。如图1所示，第1种实施形态的CD-R型光情报记录介质，其构成包括在中心部位形成中心层的圆盘状透明基板12、含有有机色素的色素记录层14、光反射层16、保护层18、和硬涂层20。在该透明基板12上，在除了中心层的周边部分和透明基板12的外周缘部分的规定半径范围内的区域内，形成螺旋状的予沟槽，在形成予沟槽的区域上设置色素记录层14，在色素记录层14上设置复盖色素记录层14的光反射层16，在光反射层16上设置复盖光反射层16的保护层18。在透明基板12上，与设置色素记录层14一侧相反侧的面上，设置硬涂层20。本实施形态的光情报记录介质，具有的特征是这种硬涂层20是使用色素记录层14中所含色素(以下称记录层色素)的主吸收带区域以外的光线进行硬化，形成的光硬化性树脂层。以下按照制造工序详细说明上述光情报记录介质的各层构成。
首先，准备透明基板12。透明基板12是圆盘状的透明树脂板。此处所说的[透明]是指相对于记录光和再生光而言的透明。作为基板材料，例如有聚碳酸酯、聚甲基甲基丙烯酸酯等丙烯酸树脂、聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等的氯化乙烯系树脂、环氧树脂、非晶聚烯烃、玻璃、和聚酯等。根据要求也可并用，在上述材料中，从耐湿性，尺寸稳定性和价格等方面考虑，最好是非晶聚烯烃、聚碳酸酯、更好是聚碳酸酯。透明基板12的厚度最好是1.2±0.2mm。
在该透明基板12上，形成跟踪用的导向槽或表示地址信号等情报的凹凸状(予沟槽)。这些予沟槽的平均间距最好0.1～50μm，更好为0.2～30μm，尤其好为0.3～10μm。予沟槽的平均深度，最好10～5000μm，更好30～3000μm，尤其好50～1000μm。
接着，在透明基板12上形成可利用激光记录情报的色素记录层14。对该记录层色素没有特殊限定，作为可使用的色素实例有花青系色素、酞花青系色素、咪唑并喹噁 系色素、吡喃鎓盐系·硫代吡喃鎓盐(thiopyrylium)系色素、吡咯鎓盐(azulenium)系色素、角鲨吡喃鎓色素系色素、Ni，Cr等金属络盐系色素、萘醌系色素、蒽醌系色素、靛酚系色素、靛苯胺系色素、三苯甲烷系色素、梅洛花青系色素、氧代环己醇系色素、胺(aminium)系、二亚铵(di-imonium)系色素和亚硝基化合物。
上述色素记录层是通过将色素溶解在适当的溶剂中形成溶液，进行涂布形成。涂布液中的色素浓度一般为0.01～15重量％，最好0.1～10重量％，更好为0.5～5重量，尤其好0.5～3重量％。作为形成色素记录层涂布液的溶剂实例有醋酸丁酯、赛璐索芙醋酸酯等酯；甲基乙基酮、环己酮、甲基异丁基酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯化烃；二甲替甲酰胺等酰胺；环己烷等烃；四氢呋喃、乙基醚二烷等醚；乙醇、n-丙醇、异丙醇、n-丁醇、二丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等氟系溶剂；乙烯乙二醇单甲基醚、乙烯乙二醇单乙基醚、丙烯乙二醇单甲基醚等乙二醇醚类等。考虑到上述溶剂对所用色素的溶解性，可单独使用也可二种以上并用。最好使用2，2，3，3-四氟丙醇等氟系溶剂。上述色素记录层的厚度一般为20～500nm，最好为50～300nm。
另外，在色素记录层用的涂布液中，根据需要也可添加防退色剂和粘合剂，进而根据要求，也可添加防氧化剂、UV吸收剂，可塑剂，润滑剂等各种添加剂。作为防退色剂的代表实例，有亚硝基化合物、金属络合物、二亚铵盐(di-imonium salt)、胺盐等。这些实例，例如记载在特开平2-300288号、3-224793号和4-146189号，等到各公报中，作为粘合剂实例有明胶、纤维素衍生物、葡聚糖、松香、橡校等天然有机高分子物质；和聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚异丁烯等烃系树脂、聚氯乙烯、聚氟乙烯叉、聚氯乙烯。聚醋酸乙烯共聚物等乙烯系树脂、聚丙烯酸甲脂、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂、聚乙烯醇、氯化聚乙烯、环氧树脂、丁缩醛、橡胶衍生物、酚·甲醛树脂等热硬化性树脂的初期缩合物等合成有机高分子。使用粘合剂时，粘合剂的用量，相对于100重量份色素，一般在20重量份以下，最好10重量份以下，更好5重量份以下。
透明基板12上设置色素记录层14一侧的表面上，以改进平面性、提高粘合力，及防止色素记录层变质等为目的，也可设置下涂层，作为下涂层的材料，例如有聚甲基甲基丙烯酸盐、丙烯酸、甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯、无水马来酸共聚物、聚乙烯醇、N-羟甲基丙酰胺、苯乙烯·乙烯甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚亚酰胺、醋酸乙烯·氯乙烯共聚物、乙烯·醋酸乙烯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物质；和硅烷偶合剂等表面改质剂。该下涂层的形成是将上述物质溶解或分散在适当的溶剂中调制成涂布液后，将该涂布液利用旋转涂布、浸渍涂布、挤压涂布等涂布法涂布在基板表面上。下涂层的厚度一般为O.005～20μm，最好为0.01～10μm。
按着在色素记录层14上形成光反射层16。光反射层16的材料最好是对激光的反射率很高的光反射性物质，该材料的反射率最好在30％以上，更好在50％以上，在70％以上尤其好。作为其实例，最好是Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金属及半金属或不锈钢。这些中最好的是Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al及不锈钢。这些物质可单独使用，也可二种以上经组合使用。也可作合金用。作为光反射层16的材料，Au、Ag、Al或其合金特别好。光反射层16，例如可将上述光反射性物质利用蒸镀、喷溅或离子电镀形成。光反射层16的厚度一般为10～800nm，最好20～500nm，更好50～300nm。
接着在光反射层16上形成保护层18。设置保护层的目的是为提高光情报记录介质的耐损性和耐湿性。作为用于该保护层的材料，例如有Sio、SiO2、MgF2、SnO2、Si3N4等无机特质、及热可塑性树脂、热硬化性树脂、光硬化性树脂等有机特质。上述保护层，例如可将用塑料挤压加工得到的薄膜，通过粘接剂叠层在光反射层上形成。或者，也可利用真空蒸镀、喷溅等方法设置。在使用热可塑性树脂、热硬化性树脂时，将其溶解在适当溶剂中调制成涂布液后，涂布、干燥后形成。使用光硬化性树脂时，可以直接涂布，或者溶解在适当的溶剂中调制成涂布液后涂布，照射UV光使其硬化形成。在这些涂布液中，进而根据要求也可添加防静电剂、防氧化剂、UV吸收剂等各种添加剂。保护层的厚度一般为0.1～100μm。
最后，在透明基板12上与设置色素记录层14一侧相反侧的表面上，设置硬涂层20。硬涂层20是由光硬化后硬度很高，且用记录层色素的主吸收带区域以外的光进行硬化的光硬化性树脂构成。
硬涂层的硬度，以铅笔硬度计最好2H以上。用于硬涂层的光硬化性树脂，可根据记录层色素的主吸收带区域适当选择。硬涂层是将选择的光硬化性树脂，直接涂布或溶解在适当溶剂中调制成涂布液后，涂布在透明基板上，照射记录层色素的主吸收带区域以外波长的光，使涂布膜硬化而形成。照射涂布膜的光，通过使用光学滤光片，形成限制在规定波长区域的光，使用波长域狭窄的光源，像激光光源，也可照射涂布膜。为防止盘翘曲，最好使用硬化收缩率小的光硬化性树脂。为了能充分起到保护作用，而且不使基板产生翘曲，硬涂层的厚度最好为0.1～50μm，更好1～20μm，尤其好2～10μm。
例如，作为记录层色素使用下述花青系色素(A)时，光硬化性树脂和光硬化时照射光的波长可按以下次序确定。[化1]花青系色素(A)
将2.65g上述花青系色素(A)溶解在2，2，3，3-四氯丙醇100ml中，调制成涂布液。一边将转数调整到300rpm-2000rpm，一边利用转盘涂布将该涂布液涂布在0.6mm厚的透明聚碳酸酯基板(帝人(株制)，Panlite AD5503)表面上，进行干燥形成色素层(约150nm厚)。对形成色素层后的基板测定分光透进率(在300nm～800nm的各波长下的色素光学浓度)。测定的分光透过率示于图2。光学浓度是对规定波长的光透过率取为T时，以log10(1/T)表示的值。
从图2可知，这种花青系色素在比400nm短的波长一侧，和550nm～800nm间存在吸收，但在400nm～550nm间几乎没有吸收。即，光透过率比50％小的(光学浓度比0.3大的)不足400nm，和550nm～800nm的吸收带区域是这种花青系色素(A)的主吸收带区域。
用衍射光栅对氙光进行分光，将分光后的光照射样品，使用这样的衍射光栅照射分光器，将形成色素层后的基板设置在这种衍射光栅照射分光器，照射8小时，测定此时的色素光学浓度，用照射能量将色素光学浓度的减少率进行规格化，计算出各波长下的退色率。例如，未曝光下的光学浓度为1.13，曝光后的光学浓度为0.90，照射能量为1.95(兆尔格/cm)时，光学浓度减少率为(1.31-0.90)/1.31＝0.313，退色率0.313/1.95＝0.161。据此就能明确在哪种光能下，仅哪种的色素光学浓度是否减少。为了将误差限定在最小的程度，不管照射光的波长如何，都以光学浓度大的670nm波长，测定色素光学浓度。
图3是此时的分光退色率示意曲线图。从图3可知，照射主吸收带域中的550nm～800nm区域的光时，分光退色率增高，用除此之外的光几乎不引起退色。即，可知用色素记录层单体的光透过率在50％以上(光学浓度约0.3以下)的波长区域的光，几乎不引起退色。
从以上结果可知，将上述花青系色素(A)用于记录层色素时，为防止退色，只要遮断550nm～800nm区域的光，仅使短波长的光透过也就没有问题了。因此，作为用于硬涂层的光硬化性树脂，可选择能用400～550nm波长区域的光进行硬化的光硬化性树脂，对这种光硬化性树脂照射400～550nm波长区域的光使其硬化，形成硬涂层。
如上所述，在本实施形态的CD-R型光情报记录介质中，在与设置色素记录层的透明基板相反一侧的表面上设置硬涂层，这种硬涂层，由于光硬化后的硬度很高，而且，是用记录层色素主吸收带区域以外的光进行硬化的光硬化性树脂构成，所以提高了透明基板入射侧表面的耐损伤性，同时，在制造时记录层色素也不分解，得到的光情报记录介质呈现出良好的记录特性。
(第2种实施形态)第2种实施形态是对与基板相反侧的表面上设置薄膜保护层的，短波长(波长405nm左右)用的追记型光情报记录介质适用本发明的实例。如图4所示，第2种实施形态的短波长用追记型光情报记录介质，其构成包括中心部分形成中心层的圆盘状透明基板12、光反射层16、含有机色素的色素记录层14、中间层22、粘接层24、和薄膜保护层26。在该透明基板12上，除了中心层的周边部分和透明基板12的外周缘部分，在规定半径范围内的区域内，形成螺旋状的沟槽，在形成沟槽的区域上设置光反射层16，在该光反射层16上设置复盖光反射层16的色素记录层14，在色素记录层14上设置复盖色素记录层14的中间层22。在与透明基板12相反侧的盘表面上，通过粘接层24设置薄膜保护层26。本实施形态的光情报记录介质，其特征是在通过粘接层24形成薄膜保护层26时，粘接层24是由以记录层色素主吸收带区域以外光进行硬化的光硬化性树脂所构成。以下按照制造工序详细说明上述光情报记录介质的各层构成。
首先，准备透明基板12，透明基板12是圆盘状的透明树脂板，作为基板材料可使用与第1种实施形态相同的材料。
接着，在透光基板12上形成光反射层16。作为光反射层的材料，可使用与第1种实施形态相同的材料。光反射层也可与第1种实施形态一样的方式形成。
接着，在光反射层16上形成可利用激光记录情报的色素记录层14。为了照射波长405nm左右短波长的光进行记录，作为记录层色素，最好是花青系色素，氧代环己醇系色素、金属络合物系色素、偶氮色素、酞花青色素。色素记录层可按和第1种实施形态相同的方法形成。
接着，在色素记录层14上形成中间层22，设置该中间层是为了提高色素记录层的保存性和色素记录层与薄膜保护层之间的粘接性。作为用于中间层的材料，例如有SiO、SiO2、MgF2、SnO2、Si3N4等无机物质。该中间层可通过蒸镀、喷溅等真空成膜技术形成。
最后，在中间层22上，通过由光硬化性树脂形成的粘接层24形成薄膜保护层26。设置薄膜保护层26是为了提高光情报记录介质的耐损伤性和耐湿性等。薄膜保护层的光硬化树脂最好是薄膜状树脂。薄膜保护层的厚度一般为10～300μm，最好为30～200μm，更好为50～150μm。
用作粘接剂的光硬化性树脂，可根据记录层色素主吸收带区域适当选择。选择的光硬化性树脂可直接涂布或者溶解在适当溶剂中调制成涂布液后涂布在中间层上，例如，在涂布膜上将利用塑料挤压加工得到的树脂薄膜进行叠层，从形成叠层的树脂薄膜上方，照射记录层色素的主吸收带区域以外波长的光，使涂布膜硬化，可将树脂薄膜粘接在中间层上，这样就形成了薄膜保护层。
照射涂布膜的光，可利用光学滤片限定在规定波长区域内的光。可使用像激光光源一类的发射狭窄波长域的光源，照射涂布膜。另外，为了防止盘翘曲，最好使用硬化收缩率小的光硬化性树脂。粘接剂的厚度，从能充分进行保护，而且不使基板产生翘曲考虑，一般为0.1～100μm，最好1～50μm，更好2～20μm。
例如，作为记录层色素使用下述色素(B)时，可按以下次序确定光硬化性树脂和光硬化时照射光的波长。
色素(B) 将2.65g上述色素(B)溶解在100ml的2，2，3，3-四氟丙醇中调制成涂布液，一边将转数调节到300rpm～2000rpm，一边利用转盘涂布将该涂布液涂布在0.6mm厚的透明聚碳酸酯基(帝人(株)制、[Panlite AD5503])表面上，并进行干燥，形成色素层(约150nm厚)。对形成色素层后的基板测定分光透过率(在300nm～600nm各波长下的色素光学浓度)。测定的分光透过率示于图5。从图5可知，这种色素(B)在比400nm短的波长侧存在吸收，在比400nm长的波长侧几乎没有吸收。即，光透过率小于50％(光学浓度大于0.3)的400nm以下波长带区域是这种色素(B)的主吸收带域。
从以上结果可知，将上述色素(B)用于记录层色素时，为了防止退色，可遮断400nm以下区域的光，由此，即使透过长波长的光也没有问题。因此，作为用于粘接剂的光硬化性树脂，可选择用比400nm长的波长区域的光进行硬化的光硬化性树脂，对这种光硬化性树脂主要是照射比400nm长的波长区域的光进行硬化，粘接薄膜保护层。为了进行一步抑制记录层色素的分解，利用400nm以下波长区域的光照射光硬化性树脂的照射量，最好是总照射量(波长300～800nm范围的照射量)的40％以下，更好30％以下，尤其好20％以下。
如以上所述，在本实施形态的短波长用的追记型光情报记录介质中，在与透明基板相反侧的盘表面上，通过粘接层形成薄膜保护层，这种粘接层，由于是以记录层色素主吸收带区域以外的光进行硬化的光硬化性树脂所构成，所以在制造时，记录层色素不会被分解，得到的短波长用的追记型光情报记录介质显示出良好的记录特性。
以下根据实施例更详细地说明本发明，但本发明不受以下实施例所限定。
(实施例1)[CD-R型光盘的制作]在聚碳酸脂基板(外径120mm、内径150mm、厚度1.2mm、帝人(株)制，商品名Panlite AD5503)的表面上，利用喷射成型形成螺旋状的沟槽(间距1.6μm、沟槽宽0.5μm，沟槽深0.18μm，沟槽的沟倾斜角度55°)。图6示出沟槽形状的概略断面图。如该图中所定义的那样，沟槽的深度D是从未形成沟槽前的基板表面到沟槽最深处的距离，沟槽的宽度W是D/2深度的沟宽，沟槽的沟倾斜角度是将从未形成沟前的基板表面到D/10深度的倾斜部分与从沟槽最深处到D/10高度的倾斜部分进行连接的直线，与基板面形成的夹角角度。
以下使用超声波振荡机(1800W)，在1小时内，将2.65g上述花青系色素(A)深解在100ml的2，2，3，3-四氟丙醇中，调制成形成记录层用的涂布液。在上述聚碳酸酯基板的沟槽侧表面上，在300rpm下将涂布液调配成0.5ml，一边将转数变化到300rpm～4000rpm，一边利用转盘涂布进行涂布，并干燥，形成色素记录层。在形成的色素记录层沟槽内的厚度为190nm，沟脊部的厚度为100nm。
接着，在色素记录层上喷溅Ag，形成80nm厚的光反射层。再在光反射层上，一边将转数变化到50rpm～5000rpm，一边利用转盘涂布涂布UV硬化性树脂(商品名SD-318，大日本油墨化学工业(株)制)，涂布后，从其上方利用氙灯进行光照射，使涂布膜硬化，形成7μm厚的保护层。
接着，在所得盘的聚碳酸酯基板侧表面上，一边将转数变到50rpm～5000rpm一边利用转盘涂布涂布UV硬化性树脂(商品名SD-318，大日本油墨化学工业(株)制)，形成5μm厚的膜。涂布后，在氙灯和盘之间插进光学滤片(商品名BLF-50S-480B，SIGMA KOKI CO.LTD)。如图7所示，照射大幅度砍去400nm以下和550nm以上光的光，使涂布膜硬化，形成5μm厚的硬涂层。涂布膜的硬化是在90％以上浓度的氮气环境中进行。根据以上工序，可制作按照本发明具有基板、色素记录层、光反射层、保护层和硬涂层的CD-R型光情报记录介质(CD-R型光盘)。
对于上述按照本发明的CD-R型光盘，使用评价机[OMT200]PULSTEC INDUSTRIAL CO.LTD)，以记录波长780nm，4倍速率进行记录，将记录功率变化到10～16mW，对记录后的光盘测定Cl误差本底值，为8，显示出良好的记录特性。
(比较例1)在设置硬涂层时，除了不使用光学滤片外，其他和实例1—样，制作比较例的CD-R型光盘。和实施例1的CD-R型光盘一样，测定C1误差的本底值时，为105，相当大，记录特性显著降低。该记录特性的降低，认为是记录层色素产生分解所致。
(实施例2)[短波长用光盘的制作]在聚碳酸酯基板(外径120mm、内径15mm、厚度1.2mm、帝人(株)制、商品名Panlite AD5503)的表面上，利用喷射成形形成螺旋状沟槽(间距0.4μm、沟槽宽0.2μm、沟槽深0.08μm、沟槽的沟倾斜角度60°)。
接着，在上述聚碳酸酯基板的沟槽侧表面上，利用DC磁控管喷溅，进行Ag喷溅形成80nm厚的光反射层。
接着使用超声波振荡机(1800W)在1小时内，将1.5g上述色素(B)溶解在100ml的2，2，3，3-四氟丙醇中，调制成形成记录层用的涂布液。在形成光反射层的聚碳酸酯基板的沟槽侧表面上利用旋转涂布法涂布该涂布液，在300rpm下调配成0.5ml，使转数变化到300rpm-4000rpm并进行干燥，形成色素记录层。在沟槽内形成色素记录层的厚度为100nm，在沟脊部分的厚度为60nm。在上述色素记录层上，利用RF磁控管喷溅，进行ZnS/SiO2(80质量％/20质量％)喷溅，形成20nm厚的中间层。
接着，在盘内周的稍许内侧上调配UV硬化性树脂(商品名SD-640，大日本油墨化学工业(株)制)，将形成薄膜保护层的80μm厚的三醋酸酯树脂膜载置在形成中间层侧的盘表面上，以转数1500rpm旋转盘，使UV硬化性树脂遍及到聚碳酸酯基板薄膜之间。这样形成使色素记录层夹持在聚碳酸酯基板和树脂薄膜之间的结构。随后，在氙灯和盘之间插入光学滤片(商品名SCF-50S-40L，SIGMA KOKI CO.LTD)，如图8所示，照射大幅度砍去400nm以下光的光，使涂布膜硬化，形成8μm厚的粘接层。利用光学滤片形成400nm以下波长区域的光照射UV硬化性树脂的照射量可降低到总照射量(以波长300-800nm范围的照射量)的33％。
涂布膜硬化是在90％以上浓度氮的环境中进行。按照以上工序，可制作按照本发明具有基板、光反射层、色素记录层、中间层、粘接层、和薄膜保护层的短波长用的追记型光情报记录介质(短波长用光盘)。
对于上述按照本发明的短波长用光盘，使用评价机[DDU1000](PULSTEC INDUSTRIAL CO.LTD)，以记录波长408nm、线速度3.5m/s，记录DVD用8-16调制信号。以1mW刻度在4～12mW内改变记录功率，测定β值最接近零时的14T信号振幅，求出调制度。其结果，调制度为65％，显示出良好的记录特性。调制度是用所记录的间距间的反射率除14T信号振幅的值，以百分率表示。
(比较例2)在通过粘接层设置薄膜保护层时，除了不使用光学滤片外，其他和实施例2一样，制作比较例的短波长用光盘。和实施例2的短波长用光盘一样测定14T信号振幅，求出调制度。结果是，调制度低到50％时，记录特性显著降低。该记录特性的降低，认为是记录层色素产生分解所致。
根据本发明，在使光硬化性树脂进行光硬化形成光硬化层时，通过抑制色素记录层中所含色素的分解，提供具有良好记录特性的光情报记录介质。同时提供不分解色素记录层中所含色素，可使光硬化性树脂进行光硬化形成光硬化层的光情报记录介质制造方法。
图1是第1种实施形态的光情报记录介质构成的概要斜视图。
图2是CD-R用含花青系色素(A)的色素层分光透过率的示意曲线图。
图3是表示图2分光透过率的色素层分光退色率的示意曲线图。
图4是第2种实施形态的光情报记录介质构成的概要斜视图。
图5是含有色素(B)的色素层分光透过率示意曲线图。
图6是表示沟槽形状的概要断面图。
图7是实施例1的光学滤片过滤特性曲线图。
图8是实施例2的光学滤片过滤特性曲线图。
权利要求
1.一种光情报记录介质，特征是具有基板、含有可利用激光记录情报，且在规定波长区域内具有主吸收带色素的记录层、用上述规定波长区域以外的光进行光硬化形成的光硬化层。
2.一种光情报记录介质，特征是具有透明基板、在该透明基板的一个表面上形成的，含有可利用激光记录情报，且在规定波长区域内具有主吸收带色素的记录层、和在该透明基板的另一表面上形成的，以上述规定波长区域以外的光进行光硬化形成的光硬化层。
3.一种光情报记录介质，特征是具有基板、在该基板上形成的光反射层、在该光反射层上形成的，含有可利用激光记录情报，且在规定波长区域内具有主吸收带色素的记录层、和在该记录层上形成的，以上述规定波长区域以外的光进行光硬化形成的光硬化层。
4.一种光情报记录介质，特征是具有基板、在该基板上形成的光反射层、在该光反射层上形成的，含有可利用激光记录情报，且在400nm以下波长区域内具有主吸收带色素的记录层、和在该记录层上形成的，利用400nm以下波长区域的光进行照射的照射量，比利用比400nm长的波长区域光进行照射的照射量少，以此进行光硬化形成的光硬化层。
5.一种光情报记录介质的制造方法，特征是在含有可利用激光记录情报，表在规定波长区域内具有主吸收带色素的记录层形成的基板上，形成以上规定波长区域以外的光使光硬化性树脂进行光硬化形成光硬化层，以此制造光情报记录介质。
全文摘要
本发明在将光硬化性树脂进行光硬化形成光硬化时,通过抑制色素记录层中所含色素的分解,从而提供了具有良好记录特性的光情报记录介质及其制造方法。其构成包括在中心部位形成中心层的圆盘状透明基板12、光反射层16、含有机色素的色素记录层14、中间层22、粘接层24、和薄膜保护层26。在该透明基板12上形成沟槽的区域,设置光反射层16,色素记录层14、中间层22。在中间层22上,通过由以记录层色素主吸收带区域以外光进行光硬化的树脂构成的粘接层24,设置薄膜保护层26。
文档编号G11B7/244GK1345052SQ0113124
公开日2002年4月17日 申请日期2001年9月4日 优先权日2000年9月21日
发明者宇佐美由久 申请人:富士胶片株式会社