专利名称：光信息记录介质及其制造方法
技术领域：
本发明涉及光信息记录介质及其制造方法，特别涉及热致补充记录型光信息记录介质及其制造方法。
过去知道，只能用激光光线一次信息记录的光信息记录介质(光盘)。这种光信息记录介质也叫作补充记录型CD(所谓CD-R)。其代表性结构是在透明园盘状基板上依次层叠由有机染料形成的记录层、由金等金属形成的光线反射层以及树脂保护层。而且这种CD-R中的信息记录，是利用近红外区域的激光光线(通常为780nm附近波长的激光光线)对CD照射的方式进行的。通过激光光线的照射，记录层的照射部分因吸收这种光线而使局部温度上升，产生物理或化学变化(例如生成纹孔)，导致该部分的光学特性发生变化，以这种方式记录信息。另一方面，信息的读取(再生)，也是用与记录用激光光线具有相同波长的激光光线照射CD-R，检出记录层的光学特性发生变化的部位(记录部分)与未发生变化的部位(未记录部分)的反射率差异，以此方式进行。
近年来，对记录密度更高的光信息记录介质提出了要求。针对这种要求，有人提出一种被称为补充记录型万用数字光盘(所谓DVD-R)的光信息记录介质(例如“日经新介质”另册“DVD”，1995年发行)。这种DVD-R的结构是，以比CD-R的一半还小(0.74～0.8微米)的狭窄宽度形成被照射激光光线随纹用引导沟槽(预制纹道)的透明园盘状基板上，通常依次层叠含有有机染料的记录层、光反射层和保护层，将这样两块园盘互相粘合使记录层处于内侧，或者将这种园盘与相同形状的园盘状保护基板粘合使记录层处于内侧。而且这种DVD-R的信息记录和再生，利用照射可见激光光线(通常630～680nm范围波长的激光光线)的方式进行，能进行密度高于CD-R的记录。
最近，互联网等网络和高画质TV得到迅速普及。而且也开始放映HDTV(高清晰度电视)。这种情况下，需要一种能廉价而简便地记录图像信息的大容量记录介质。目前的线状是DVD-R作为大容量记录介质的作用正在充分发挥。但是由于对大容量化和高密度化的要求提高，所以还需要开发与这些要求适应的记录介质。因此，现在正在对可以用比DVD-R更短波长的光线进行高密度记录、更大容量的记录介质进行开发。
例如，特开平4-74690、特开平7-304256、特开平7-304257、特开平8-127174、特开平11-53758、特开平11-334204、特开平11-334205、特开平11-334206、特开平11-334207、特开2000-43423号公报、特开2000-108513、特开2000-113504、特开2000-149320、特开2000-158818和特开2000-228028等号公报中公开了一种记录再生方法，该方法在具有含有机染料记录层的光信息记录介质中，通过从记录层侧向反射层侧照射波长530nm以下的激光光线，进行信息的记录和再生。这些方法中，用蓝色(波长430nm，488nm)或兰绿色(波长515nm)的激光光线，照射备有含以下染料的记录层的光信息记录介质进行信息的记录和再生仆啉化合物、偶氮染料、金属偶氮染料、奎酞酮染料、三甲花青(トリメチンシアニン)染料、二氰基乙烯基苯基骨架染料、香豆素化合物、萘花青(ナフタロシアニン)化合物等。
而且从与现在使用的CD-R系统之间的互换性的桄出发，有人提出了能够用两个不同波长区域的激光光线记录和再生的光信息记录介质。例如，在特开2000-141900、特开2000-158816、特开2000-185471、特开2000-289342和特开2000-309165等号公报中提出，通过混合使用CD-R用染料与DVD-R用染料，借助于780nm附近的红外区激光光线和650nm附近可见激光光线中任何激光光线，能够记录和再生的光信息记录介质。
然而，根据本发明人等的研究发现，上述公报中记载的光信息记录介质，当通过用波长450nm以下短波长激光光线照射记录信息的情况下，不能获得实际所需的灵敏度。而且也不能满足反射率和调制度等其他记录特性，需要作进一步改进。特别证明，上述公报中记载的光信息记录介质，用波长450nm以下激光光线照射情况下的记录特性低。
而且上述公报记载的光信息记录介质，在其最外层上设有表面膜。
该表面膜，直径与基板内周的相同，将其内周凸起部分与基板内周凸起部分吻合地粘结在一起。但是，要使内周凸起部分吻合地粘合，其粘合精度很难保证。因此，一部分表面膜的内周就会偏离基板的中心在内侧露出。
一旦在一部分表面膜的内周就会偏离基板的中心在内侧露出的状态下再生，偏芯就会增大，因而不能准确再生。
另外，当制造上述公报中记载的光信息记录介质时，在记录层上粘合作最外层用的表面膜的情况下，一旦使形成记录层的基板处在下面粘合表面膜，由于表面膜很薄而会产生弯曲和皱折。其结果因粘合后产生翘曲而不能作为光信息记录介质供给实际使用。
此外作为该表面膜的粘合方法，有使用缠绕成卷筒状的表面膜材，在记录层上粘合表面膜的方法。
但是这种方法由于粘合前表面膜材被缠绕成卷筒状，所以粘合后会产生因恢复其卷状的弯曲而不能实用。
另外还有一种方法，即事先将表面膜材剪裁成与形成记录层等的层叠体具有大体相同形状，然后将剪裁的表面膜粘合在层叠体上。
这种方法中，几乎不产生因恢复卷状的弯曲。但是由于粘合表面膜时的剥离膜与上述表面膜具有相同尺寸，所以很难将其剥离，使表面膜端面损伤，与上述同样不能实用。
上述发明目的由以下示出的本发明所完成。
本发明的实施方式1，是一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中包括在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及一边使表面膜的内周面保持在上述基板内周面的外侧，一边使上述表面膜与上述层叠体粘合的粘合工序。
上述实施方式1中，上述表面膜的内径优选比上述基板的内径增大。
本发明的实施方式2，是一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中包括在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及根据上述基板的外周面调节粘合的位置，将内径比上述基板内径大的表面膜与上述层叠体粘合的粘合工序。
上述实施方式2中，上述表面膜的内径与上述基板的中心孔直径之差优选大于1毫米。
本发明的实施方式3，是一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中包括在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及将表面膜放置在平台上，在上述表面膜上粘合上述层叠体使上述记录层变成内侧的粘合工序。
上述实施方式3中，上述平台的表面优选备有孔。
本发明的实施方式4，是在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层制成层叠体，将表面膜粘合在上述层叠体的上述记录层上，制造光信息记录介质的方法，其特征在于在上述表面膜粘合面的反面设置剥离膜，在该剥离膜上设置其至少一部分从上述表面膜向外侧露出的露出部分，将上述表面膜粘合在上述层叠体上后，从上述露出部分将上述剥离膜剥离。
上述实施方式4中，上述露出部分优选处于上述表面膜的全部外周上。
而且上述实施方式1～4中记载的任何一种实施方式记载中，上述表面膜的厚度优选为0.03～0.15毫米。
此外，上述实施方式1～4中记载的任何一种实施方式记载中，将上述表面膜与上述层叠体粘合时的温度处于18℃以上，湿度处于35％RH以上。
本发明的实施方式5是一种光信息记录介质，其特征在于是经历在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及一边使表面膜的内周面保持在上述基板的内周面的外侧，一边使上述表面膜与上述层叠体粘合的粘合工序制造的。
本发明的实施方式6是一种光信息记录介质，其特征在于是经历在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及根据上述基板的外周面调节粘合的位置，将内径比上述基板内径大的表面膜与上述层叠体粘合的粘合工序制造的。
本发明的实施方式7是一种光信息记录介质，其特征在于是经过在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及将表面膜放置在平台上，在上述表面膜上粘合上述层叠体使上述记录层变成内侧的粘合工序制造的。
本发明的实施方式8，是在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层制成层叠体，将表面膜粘合在上述层叠体的上述记录层上制造的光信息记录介质，其特征在于是采用在上述表面膜粘合面的反面设置剥离膜，在该剥离膜上设置其至少一部分从上述表面膜向外侧露出的露出部分，将上述表面膜粘合在上述层叠体上后，从上述露出部分将上述剥离膜剥离的方法制造的。
图2是说明与实施方式1和5对应的粘合工序中所使用的旋涂器的另一种粘合方法的断面视图。
图3是说明与实施方式2和6对应的粘合工序中所使用的旋涂器粘合方法的断面视图。
图1～图3中，1和1’是旋涂器；2是平台；3是层叠体；3a是基板；4是表面膜；5是吸盘；5a是定位夹具；11、11’、12和12’是内周凸起；30是记录层。
图4是说明与实施方式3和7对应的粘合工序中所使用的旋涂器粘合方法的断面视图。
图4中，51是旋涂器；52是平台；52a是孔；53是表面膜；54是层叠体；50是粘结剂。
图5A是表示与实施方式4和实施方式8对应的本发明制造方法中使用的一种带剥离膜的表面膜实例的示意图，是表示表面膜上面的俯视图。
图5B是与实施方式4和实施方式8对应的图5A中A-A断面视图。
图6A是表示与实施方式4和实施方式8对应的本发明制造方法中使用的另一带剥离膜的表面膜实例的示意图，是表示表面膜上面的俯视图。
图6B是与实施方式4和实施方式8对应的图6A中B-B断面视图。
图5A～6B中，100和102表示表面膜；200和202表示剥离膜；200a和202a表示露出部分；300和302表示中心孔。
以下以该粘合工序为中心，就本发明的光信息记录介质的制造方法(实施方式1)和用该方法得到的光信息记录介质(实施方式5)作详细说明。<粘合工序>
粘合工序，是在后述的层叠体的记录层上，为保护该记录层等光信息记录介质的内部，粘合作表层用表面膜的工序。表面膜与层叠体之间的粘合优选用粘结剂进行。
作为上述的表面膜，只要是透明材料就无特别限制，但是优选由聚碳酸酯、三乙酸纤维素、聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯等材料制成的。
其中所述的“透明”，是指表面膜在透过记录用光线和再生用光线(透过率90％以上)方面是透明的。
表面膜的厚度优选处于0.03～0.15毫米，更优选0.05～0.10毫米，特别优选0.07～0.09毫米范围内。通过设定在此范围内，粘合工序中表面膜的处理变得容易，而且能够获得抑制慧形像差(coma像差)这一效果。
表面膜的外径(DA)优选比基板外径(DB)小。具体讲，DB-DA值优选处于0.3毫米以上，更优选0.5毫米以上，特别优选0.7毫米以上。
考虑到覆盖记录层的外周，表面膜的外径(DA)与记录区(记录层)的外径(Dc)之差(DA-Dc)优选处于0.3毫米以上，更优选0.5毫米以上，特别优选0.7毫米以上。
而且表面膜的内径(dA)优选比基板中心孔(dB)直径大。
在这种情况下，可以一边使表面膜的内周面保持在上述基板的内周面外侧，一边进行层叠体的粘合。
具体讲，优选将(dA-dB)值设定在1毫米以上，更优选设定在3毫米以上，特别优选设定在5毫米以上。
表面膜的内径一旦过大就会占据记录区，往往使特性恶化。而且记录区一旦扩大到极限，表面膜的端面就会有少许剥离，往往会使记录区露出来。因此，记录区的内径(dc)与表面膜的内径(dA)之差(dc-dA)优选设定在1毫米以上，更优选设定在3毫米以上，特别优选设定在5毫米以上。
对于表面膜在层叠体上粘合而言，例如可以根据图1和图2所示的的方式进行。但是本发明制造方法中的粘合方法，并不受其限制。
首先，作为第一种方法，如图1所示，将层叠体3放置在旋涂器1的平台2上，使记录层30等在图中朝上。放置后，必要时在层叠体3上涂布粘结剂。此时优选事先平台2上设置吸附装置将层叠体3吸附固定，这样不会因粘合时的振动等因素产生位置移动等。
将被吸盘5吸附保持的表面膜4降下，使设置在平台2上的内周凸起11与设置在吸盘5上的内周凸起12吻合，将表面膜4置于层叠体3上。
此时被吸盘5吸附保持的表面膜4，由于其内径比基板内径大，内周面是处于保持在基板内周面外侧的情况下被粘合，所以表面膜4的一部分自基板中心孔向内侧露出，因而能减小光信息记录介质再生时的偏芯。
而且由于表面膜4的内径比基板的内径大，所以粘合位置即使有一些偏移也不会使表面膜4的一部分在基板的内径部分(中心孔)露出。
此外，作为在层叠体上粘合表面膜的第二种方法，如图2所示，将表面膜4放置在旋涂器1’的平台2上，使粘合面在图中朝上，使设置在平台2上的内周凸起11’与设置在吸盘5上的内周凸起12’吻合，将表面膜4置于层叠体3上。此时，与第一种方法同样，在平台上事先设置吸附装置。而且必要时还优选在内周凸起11’的层叠体11’a上设置与上述吸附手段不同系统的吸附装置。
图2中，与图1中符号相同的部分，具有与对应部分相同的功能。
将被吸盘5吸附保持的层叠体降下使记录层等处于内侧，使设置在平台2上的内周凸起与设置在吸盘5上的内周凸起吻合，将层叠体3置于表面膜4上。
被放置在平台2上的表面膜4，与图1的情况同样，由于其内径比基板内径大，内周面一边被保持在基板内周面外侧的情况下一边被粘合，所以表面膜4的一部分自基板的中心孔向内侧露出，因而能减小光信息记录介质再生时的偏芯。
吸盘5中作为使表面膜4吸附的方法，优选采用在吸附面上设微孔，对该孔内进行减压以吸附表面膜4的真空吸附方法，以及使表面膜4带静电靠静电引力将其吸附的静电吸附方法等。
而且事先在表面膜4的粘合面上涂布粘结剂的情况下，不必在层叠体3上涂粘结剂。
此外，如上所述，对于一边将表面膜的内周面保持在基板内周面外侧，一边将表面膜与层叠体粘合而言，加大表面膜的内径，使之大于基板内径的方法是有效的。此时如图1和图2所示，作为粘合时使用的内周凸起，最好适当选择与层叠体和表面膜的内径适合的。
将表面膜4置于层叠体3上后(图2的情况下是将层叠体3置于表面膜4上后)，使平台2旋转，让粘结剂在表面膜4和层叠体3之间全面扩展。然后，必要时照射紫外线等使粘结剂等固化，制成表面膜4与层叠体3粘合在一起的光信息记录介质。
将层叠体3的记录层(在该记录层上形成阻挡层等层的情况下，这些层)在表面膜上粘合采用气氛气体的温度和湿度(相对湿度，以下同)，分别优选18℃以上和35％RH以上。当低于18℃以上和低于35％RH以上时，粘合所需的化学上和物理上的反应不能充分进行，一旦放置在常温常湿下就会产生应力缓和作用，使制造后的光信息记录介质产生翘曲，往往不能供给实用。而且当记录层含有染料的情况下，这些应力还会对记录特性产生有害影响。
温度更优选20℃以上，特别优选22℃以上，最优选23℃以上。
而且湿度更优选32％RH以上，特别优选35％RH以上，最优选38％RH以上。
温度过高时，粘结剂和粘合剂会产生变性，或者光信息记录介质的特性发生变化，或者恢复到常温时产生翘曲，因而不好。而且当记录层含有染料的情况下，往往使记录特性的变化增大，所以特别不好。此外当记录层含有染料的情况下，染料中含水率高，往往对记录特性产生有害影响.，因而特别不好。因此，温度上限优选处于50℃以下，特别优选40℃以下，最优选35℃以下。
湿度一旦过高，机器的一部分就会结露，或者恢复到常温时产生翘曲，所以不优选。因此湿度的上限优选处于80％RH以下，更优选处于70％RH以下，特别优选处于65％RH以下。
作为粘结剂优选使用UV固化树脂、EB固化树脂、热固化树脂等，特别优选使用UV固化树脂。
粘结剂，例如优选在层叠体3的粘合面(记录层等)上以预定量涂布，粘合表面膜4后，利用旋涂器使粘结剂在层叠体3与表面膜4之间均一扩展，使之固化。
涂布粘结剂的量，应当调整到能使最终形成的粘结剂层厚度处于0.1～100微米范围内，优选处于2～50微米范围内，更优选处于5～30微米范围内。
使用UV固化树脂作为粘结剂的情况下，可以将粘结剂，直接或者使其溶解在甲基乙基酮、乙酸乙酯等适当溶剂中制成涂布液后，用分配器供给层叠体3表面。而且为了放置制成的光信息记录介质翘曲，构成粘结剂的UV树脂优选固化收缩率小的。这样的UV固化树脂，例如可以举出大日本油墨化学工业株式会社制造的“SD-640”等UV固化树脂。
如上所述，也可以使用粘合面上涂布了粘结剂的作为表面膜4。
作为该粘结剂可以使用丙烯系粘结剂以及、天然橡胶、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯共聚物(SIS)、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯共聚物(SBS)等橡胶系粘结剂。
优选在表面莫的粘合面上预先涂布粘结剂。粘结剂的涂布量，优选与粘结剂的情况相同。
而且作为平台2，并不限于在上述的旋涂器1上设置的平台2，只要是在表面膜4与层叠体3粘合时能固定保持其平面状态的，都可以使用。
通过以上粘合工序，可以制成再生时的偏芯得到抑制的实施方式5涉及的光信息记录介质。
然而，在粘合工序中与表面膜4粘合的层叠体3，可以经过层叠体制造工序加以制造。具体讲，可以利用经过在形成200～400nm道间距和10～150nm深度纹道并有中心孔的基板上，形成能用波长500nm以下的激光光线记录信息的记录层的记录层形成工序等方法制造。
其中也可以设置在基板与记录层之间形成光线反射层的光线反射层形成工序，或者适当设置在记录层上形成阻挡层等各种层形成工序。
以下以层叠体制造工序的具体实例说明在基板上形成光线反射层和记录层的层叠体的制造方法(层叠体制造工序)。<层叠体制造工序>(光线反射层形成工序)光线反射层形成工序，是在后述的基板的纹道形成面上形成光线反射性物质组成的光线反射层的工序。
作为上述基板，可以任意选择使用过去作光信息记录介质的基板材料用的各种材料。
具体讲，可以举出玻璃，聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯系树脂，聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯系树脂，环氧树脂，无定形聚烯烃，聚酯，铝等金属等，也可以根据需要将其并用。
上述材料中，从耐湿性、尺寸稳定性和价格方面考虑，优选无定形聚烯烃和聚碳酸酯，更优选聚碳酸酯。而且基板厚度优选1.1±0.3毫米。
在基板表面上可以形成随纹用导引沟槽或者表示地址信息等信息的凹凸(纹道)。预制纹道的道间距必须处于200～400nm范围内，优选处于250～350nm范围内。而且预制纹道的深度(沟槽深度)必须处于10～150nm范围内，优选处于50～100nm范围内。
在设定为上述的道间距和沟槽深度条件下，能够获得比已有的CD-R(密纹光盘)和DVD-R(数字万用光盘)更高的记录密度。
其中为改善平面性和提高粘着力起见，在设有后述光线反射层的基板表面上，优选形成底涂层。
作为该底涂层材料，例如可以举出聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羟甲基丙烯酰胺、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、氯磺酰化聚乙烯、硝基纤维素、聚氯乙烯、氯代聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、醋酸乙烯酯-氯乙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物质，以及硅烷偶合剂等表面改性剂。
将上述材料溶解或者分散在适当溶剂中制成涂布液后，可以利用旋涂法、浸涂法、挤压涂布法等涂布方法在基板表面上涂布的方式，形成底涂层。底涂层的厚度，一般处于0.005～20微米范围内，优选处于0.01～10微米范围内。
光线反射层，可以利用气相沉积、溅射或离子镀法在基板上形成对激光光线反射率高的光线反射性物质的方法形成。光线反射层的厚度一般处于10～300微米范围内，优选处于50～200微米范围内。
其中上述反射率优选处于70％以上。
作为反射率高的光线反射性物质，可以举出Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金属和准金属或不锈钢。这些光线反射性物质可以单独使用或者两种以上组合使用，或者以合金形式使用。这些物质中优选Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al和不锈钢。特别优选Au、Ag、Al或其合金，最优选Au、Ag或其合金。(记录层形成工序)记录层形成工序，是在上述光线反射层上形成能用波长500nm以下激光光线记录信息的记录层的工序。该记录层优选含有作记录物质用的染料。
作为该记录层含有的染料，只要是能用波长500nm以下的激光光线记录信息的染料就无特别限制，例如花青染料、羰基化醇(oxonol)染料、金属络合物染料、偶氮染料、酞青染料等。
而且也可以适当使用特开平4-74690、特开平8-127174、特开平11-53758、特开平11-334204、特开平11-334205、特开平11-334206、特开平11-334207等号公报、特开2000-43423、特开2000-108513和特开2000-158818等号公报中记载的染料。
记录层，可以采用将染料等记录物质，与粘合剂一起溶解在适当溶剂中制成涂布液，然后将此涂布液涂布在基板表面形成的光线反射层上形成涂膜后干燥的方法形成。涂布液中记录物质的浓度，一般处于0.01～15重量％范围内，优选处于0.1～10重量％范围内，更优选处于0.5～5重量％范围内，最好处于0.5～3重量％范围内。
作为涂布液的溶剂，可以举出乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酸溶纤剂等酯类，甲基乙基酮、环己酮、甲基异丁基酮等酮类，二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯代烃类，二甲基甲酰胺等酰胺类，甲基环己烷等烃类，四氢呋喃、乙醚、二氧六圜等醚类，乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、二丙酮醇等醇类，2，2，3，3-四氟丙醇等含氟溶剂，乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、丙二醇单甲醚等二醇醚类等。
上述溶剂，考虑到使用记录物质的溶解性能，可以单独使用或者两种以上组合使用。而且还可以根据需要在涂布液中添加抗氧化剂、UV吸收剂、增塑剂、润滑剂等各种添加剂。
使用粘合剂的情况下，作为所述的粘合剂实例，例如可以举出明胶、纤维素衍生物、糊精、松香、橡胶等天然有机高分子物质，聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚异戊二烯等烃类树脂，聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氯乙烯一聚醋酸乙烯酯共聚物等乙烯基系树脂，聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系树脂，聚乙烯醇、氯代聚乙烯、环氧树脂、丁醛树脂、橡胶衍生物、酚醛树脂等热固性树脂的初期缩合物等合成有机高分子。作为记录层材料并用粘合剂的情况下，粘合剂的用量相对于记录物质而言一般处于0.01倍～50倍量(重量比)范围内，优选处于0.1倍～5倍量(重量比)范围内。经这样调整的涂布液中记录物质的浓度，一般处于0.01～10重量％范围内，优选处于0.1～5重量％范围内。
作为涂布方法，可以举出喷涂法、旋涂法、浸涂法、辊涂法、刮涂法、刀涂法、丝网印刷法等。记录层可以是单层或多层。而且记录层的厚度一般处于20～500nm范围内，优选处于30～300nm范围内，更优选处于50～100nm范围内。
为提高该记录层的耐光性，可以使记录层含有各种褪色防止剂。
作为褪色防止剂，一般可以采用单态氧猝灭剂。而作为单态氧猝灭剂可以利用已经公知的专利说明书等出版物上述载的那些。
其具体实例，例如可以举出特开昭58-175693、同59-81194、同60-18387、同60-19586、同60-19587、同60-35054、同60-36190、同60-36191、同60-44554、同60-44555、同60-44389、同60-44390、同60-54892、同60-47069、同63-229995、特开平4-25492、特公平1-38680和同6-26028等号各公报，和德国专利350399号说明书、以及日本化学会志1992年10月第1141页等上述载的物质。
上述单态氧猝灭剂等褪色防止剂的用量，相对于染料而言一般处于0.1～50重量％范围内，优选处于3～40重量％范围内，更优选处于5～25重量％范围内。
形成记录层后，也可以形成由Zn、Si、Ti、Te、Sm、Mo、Ge中一种以上元素的氧化物、氮化物、碳化物、硫化物等材料组成的层作为阻挡层。作为上述阻挡层的构成材料，也可以像ZnS-SiO2那样混合化。阻挡层可以采用溅射法、气相沉积法、离子镀法等形成，其厚度优选处于0.1～100nm范围内。
根据以上方式可以制造形成光线反射层和记录层等的层叠体。〔2〕实施方式2和6本发明的光信息记录介质(实施方式6)，是在形成预定纹道的基板上形成记录层等制成层叠体(层叠体制作工序)，调整从基板外周面粘合的位置，将预定大小的表面膜与上述层叠体粘合使上述记录层处于内侧，(粘合工序)的方法制造的。
以下以该粘合工序为中心，就本发明的光信息记录介质(实施方式6)及其制造方法(实施方式2)作详细说明。<粘合工序>
粘合工序，是在实施方式1和实施方式5中说明的层叠体的记录层上，为保护该记录层等光信息记录介质的内部，粘合作表层用表面膜的工序。表面膜与层叠体之间的粘合优选用粘结剂或粘接剂进行。
上述表面膜的材料和厚度，与实施方式和实施方式5中说明的相同。而且上述表面膜的外径(DA)与基板外径(DB)之间的关系，以及表面膜的外径(DA)与记录区(记录层)的外径(Dc)之差(DA-DC)，也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
此外，表面膜的内径(dA)与基板中心孔直径(dB)之间的关系(dA-dB)，也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。而且表面膜的内径(dA)与记录区内径(dC)之差(dA-dC)，也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
将表面膜与层叠体粘合时，在实施方式2中是从基板外周面调整表面膜的粘合位置。粘合位置的调整，例如可以根据图3所示的方式进行。
首先如图3所示，将层叠体3置于旋涂器1的平台2上，使记录层30等在图中朝上。
在被放置的层叠体3上涂布粘结剂。然后使吸盘5吸附保持的表面膜4降下放置在记录层30上。
其中在吸盘5吸附面的周围设置图中向下方突出的定位卡盘5a。
一边使定位卡盘5a的内周面与基板3a的外周面接触或者接近，一边使表面膜4下降到层叠体3上。这样通过从基板3a的外周面调整粘合位置，与过去利用基板(层叠体)中心孔和表面膜中心孔来决定位置的方法相比，由于能以高精度将其粘合，所以表面膜的一部分不会从基板的中心孔向内侧露出，因而能够减小光信息记录介质再生时的偏芯。
吸盘5中作为将表面膜4吸附的手段，优选采用在吸附面上设微孔，对该孔内进行减压以吸附表面膜4的真空吸附手段，以及使表面膜4带静电靠静电引力将其吸附的静电吸附手段等。
而且为使表面膜4脱离，也可以停止对上述微孔内减压，少许加压等。
其中事先在表面膜4的粘合面上涂布粘结剂的情况下，不必在层叠体3上涂粘结剂。
定位卡盘5a，也可以设计成在吸盘5的吸附面周围全体遍布的形式，而且还可以设计成处于其中一部分的形式。定位卡盘5a的长度(与吸附面垂直方向上的长度)，可以在不影响操作性能的范围内适当设定。
而且定位卡盘5a的内周面，优选具有与层叠体3的基板3a外周相同的曲率。
将表面膜4置于层叠体3上后使平台2旋转，让粘结剂在表面膜4和层叠体3之间全面铺开。然后，必要时照射紫外线等使粘结剂等固化，制成表面膜4与层叠体3粘合在一起的光信息记录介质。
将层叠体3的记录层(在该记录层上形成阻挡层等层的情况下，这些层)在表面膜上粘合时气氛气体的温度和湿度，与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
而且粘结剂和粘接剂，也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
作为平台2，也与实施方式1和实施方式5中说明的同样，并不限于在上述的旋涂器1上设置的平台2，也就是说只要是在表面膜4与层叠体3粘合时能固定保持其平面状态的都可以使用。
通过以上粘合工序，可以制成再生时的偏芯得到抑制的实施方式6涉及的光信息记录介质。
粘合工序中与表面膜4粘合的层叠体3，可以经过层叠体制造工序制造，该层叠体制造工序也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。〔3〕实施方式3和实施方式7本发明的光信息记录介质(实施方式7)，是利用基板上形成记录层等制成层叠体(层叠体制作工序)，以该层叠体的上述记录层为内侧，将调放置在平台上的表面膜粘合(粘合工序)的方法制造的。
以下以该粘合工序为中心，就本发明的光信息记录介质(实施方式7)及其制造方法(实施方式3)作详细说明。<粘合工序>
粘合工序，是在基板上形成记录层等层叠体(实施方式1和实施方式5中说明的层叠体)的记录层上，为保护该记录层等光信息记录介质内部，粘合作表层用表面膜的工序。表面膜与层叠体之间的粘合优选用粘结剂或粘接剂进行。
上述表面膜的材料和厚度，与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
为了在与层叠体粘合时不产生皱纹等，应当事先将表面膜放置在平台上。这样将表面膜事先放置，可以确保该表面膜的粘合面的平面性，放置与层叠体粘合时产生皱纹等。
表面膜与层叠体的粘合，可以根据以下说明的方式进行。
首先如图4所示，将表面膜53置于旋涂器51的平台52上，然后滴下粘结剂50。
在平台52表面上设有小孔径的孔52a，将这些小孔与图中未示出的排气系统连接。排气系统的中途设有阀门(图中未示出)，通过用这些阀门调节排气量可以调节表面膜的吸附力。
在平台52表面上形成的孔52a，其孔径一旦过大吸附时表面膜53的吸附部分就会在凹陷，往往使制成的光盘表面产生凹凸。因此，孔52a的直径优选处于3毫米以下，更优选处于2毫米以下，特别优选处于1毫米以下。
而且小孔52a优选在平台52的至少设置表面膜53的区域内形成，而且优选至少在非记录区的部分设置以便在旋转使光盘不会飞出。
在放置表面膜53的状态下粘合层叠体54。层叠体54在附图中记录层被粘合在下侧。通过平台52旋转，使粘结剂50在表面膜53与层叠体54之间全面扩展，利用照射紫外线使粘结剂50固化，制成表面膜53与层叠体54粘合在一起的光信息记录介质。
其中事先在表面膜53的粘合面上涂布粘结剂的情况下，不必在层叠体54上涂粘结剂。
将层叠体的记录层(该记录层上形成阻挡层的情况下，这些层)在表面膜53上粘合时气氛气体的温度和湿度，与实施方式1和5中说明的相同。
而且粘结剂和粘接剂，也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
此外事先在表面膜的光线入射面一侧，一旦设置由聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、聚氯乙烯膜聚偏氯乙烯膜形成的保护膜，真空吸附痕迹就很难附着在光线入射面上，能够防止划伤。
制成的光信息记录介质必须自平台向上取出，但是由于平台的孔内处于真空状态而使其紧密附着，难于取下。这种情况下自排气系统向孔内流入气体将光信息记录介质压出后，容易将其取出。此时使用的气体，优选流经除尘过滤器或干燥工序将其制成纯净状态，使光信息记录介质不被污染。
作为上述以外的吸附方法，也可以采用使表面膜带静电，靠静电引力将其吸附置于平台上的静电吸附法等。
而且作为平台，并不限于在上述的旋涂器上设置的平台，只要是在表面膜与层叠体粘合时能固定保持其平面状态的，都可以使用。
通过以上粘合工序，可以制成弯曲的产生得到抑制、能够充分供给实用的实施方式7涉及的光信息记录介质。
其中在粘合工序中与表面膜粘合的层叠体，是经过层叠体制造工序制造的，该层叠体制造工序也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。〔4〕实施方式4和实施方式8本发明的光信息记录介质(实施方式8)，是利用基板上形成记录层等制成层叠体的上述记录层上，粘合表面膜的粘合工序制造的。
以下以该粘合工序为中心，就本发明的光信息记录介质(实施方式8)及其制造方法(实施方式4)作详细说明。<粘合工序>粘合工序，是在实施方式1和实施方式5中说明的层叠体的记录层上，为保护该记录层等光信息记录介质的内部，粘合作表层用表面膜的工序。表面膜与层叠体之间的粘合优选用粘结剂或粘接剂进行。
上述表面膜的材料和厚度，与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
其中表面膜优选与层叠体具有大体相同尺寸的。实用大体相同尺寸的表面膜，能够抑制使用卷状品情况下容易产生的翘曲现象。
在该表面膜粘合面的反面，设置剥离膜。剥离膜优选在与表面膜粘合的状态下至少其中一部分自表面膜向外侧露出。
设置这种露出部分，将表面膜在后述的层叠体上粘合后，能使剥离膜容易与该露出部分剥离。其结果由于剥离时不会损伤表面膜的断面，因而能够制成供给实用的光信息记录介质。
图5A、图5B、图6A和图6B表示能够优选在本发明制造方法中使用的一种带剥离膜的表面膜实例。
图5A表示从带有中心孔300的表面膜100的未设剥离膜200的一面观察时的视图，图5B是图5A表示表面膜100的A-A断面视图。如图5A和图5B所示，园盘状表面膜100被设置在剥离膜200上，剥离膜200的一部分从表面膜100向外突出，形成露出部分200a。因此如图5B所示，在露出部分以外各处表面膜100与剥离膜200的断面对齐。
形成露出部分200a的位置和个数是将表面膜100与层叠体粘合后，剥离剥离膜200时，根据其剥离条件适当设置，没有特别的限制。
但是，露出部分200a具有剥离时以该露出部分200a为起点剥离的作用，形成被剥离装置把持的部分。因此，考虑到稳定地进行剥离这一操作，多个露出部分中至少有一个在如图5A所示圆周方向上的最大长度L1优选处于1毫米以上，更优选处于5毫米以上。
从同样观点出发，在半径方向上的最大长度L2优选优选处于0.5毫米以上，更优选处于1毫米以上，特别优选处于2毫米以上。
而且若L2过长，则处理中带有弯曲，往往使倾斜值增大。因此上述L2优选处于50毫米以下，更优选处于20毫米以下，特别优选处于10毫米以下，最好处于处于5毫米以下。
如图6A和图6B所示，露出部分202a也可以设置在带有中心孔302的表面膜102的全部外周上。如图6A所示，由于表面膜102的中心和剥离膜202的中心一致，所以露出部分202a在半径方向上的宽度一定。
因此如本身是图6A中B-B断面视图的图6B所示，表面膜102的端面位置处于剥离膜202的内径一侧。
之所以特别优选图2所示的实施方式，是因为将表面膜102剥离的情况下从任何地方都能剥离，无需只从表面膜102旋转方向上的位置着手的缘故。
另外，表面膜102的中心与剥离膜202的中心无需一致，正如上述那样，可以使露出部分202a圆周方向上的长度(图5A中的L1)和半径方向上的长度(图5A中的L2)分别处于上述所需的范围内。
无论是图5A、图5B、图6A和图6B所示的哪种实施方式中，虽然也可以在剥离膜上设置与表面膜的中心孔处于同一位置具有同一形状的孔或者具有更小直径的孔，但是考虑到实际的操作性，优选不设置这种孔。
将层叠体的记录层(该记录层上形成阻挡层等层的情况下，这些层)在表面膜上粘合时气氛气体的温度和湿度，与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
而且粘结剂和粘接剂，也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。其中粘结剂优选事先涂布在表面膜的粘合面上。粘结剂的涂布量优选与实施方式1和实施方式5中说明的相同。
其中将表面膜在层叠体的记录层上粘合时，上述温度和上述湿度所需维持的时间，至少应当规定为从在记录层上粘合表面膜之时直到粘合后因粘结剂或粘接剂固化而使表面膜固定在记录层上为止的一段时间。
而且作为优选的实施方式，优选在粘合之前，使层叠体和表面膜粘合时的温度和湿度保持在大体同一条件下。
将表面膜粘合在层叠体上使粘结剂固化后，将剥离膜剥离。其中在本发明的制造方法中，由于在剥离膜上设置了露出部分，所以能以这种露出部分为起点，容易将剥离膜剥离。而且由于剥离起点的位置处于表面膜端面的外侧，所以不会损伤该表面膜的端面。因而能高效制造适于实用的光信息记录介质。
通过以上粘合工序，可以制成抑制弯曲产生、能充分供给实用的实施方式8涉及的光信息记录介质。
其中在粘合工序中与表面膜粘合的层叠体，是经过层叠体制造工序制造的，该层叠体制造工序也与实施方式1和实施方式5中说明的相同。《记录再生方法》以下说明本发明的光信息记录介质(与实施方式5～实施方式8对应的光信息记录介质)的信息记录方法和记录信息的再生方法。
在该光信息记录介质中记录信息，例如可以进行如下。
首先，一边使光信息记录介质以一定线速度旋转，一边从表面膜一侧照射记录用500nm以下的激光光线。在这种激光光线的报社下，记录层吸收该光线使局部温度上升，产生物理或化学变化(例如产生凹坑)使其光学特性发生变化。利用这种光学特性的变化记录信息。
作为发射500nm以下波长激光光线的激光光源，例如可以举出发生390～415nm波长的蓝紫色半导体激光器和发射中心波长为430nm蓝紫色激光光线的SHG激光器。
而且为了提高记录密度，拾音用一对物镜的数值孔径(NA)优选处于0.7以上，更优选处于0.85以上。
另一方面记录信息的再生，可以采用一边使光信息记录介质以上述同一固定线速度旋转，一边从表面膜一侧照射与信息记录用激光同一波长或者更短波长的激光光线，检出其反射光线的方式进行。
其中上述基板在厚度1.1毫米、外径120毫米、内径15毫米内具有螺线状纹道(沟槽深度30纳米，宽15纳米，道间距340纳米)。
将下记化学式表示的2克染料(化合物1)加入100毫升2，2，3，3-四氯丙醇中溶解，制成染料涂布液。用旋涂法一边使转速在300～4000转/分钟范围内变化，一边在23℃和50％RH条件下将制成的染料涂布液涂布在反射层上。然后在23℃和50％RH条件下保存1小时，形成了记录层(沟槽内的厚度100纳米，纹间部分的厚度70纳米)。
化合物1其中记录层在自基板中心44毫米以上的区域内形成。
形成记录层后，在净化炉(clean-oven)中实施退火处理。退火处理是将基板在垂直硬纸板垛(スタツクボ—ル)上用隔板支持隔开，一边于40℃保持1小时的方式进行的。
然后利用RF溅射法在记录层上形成由ZnS/SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(重量比))形成的阻挡层(厚度50纳米)，制成层叠体(层叠体制造工序)。阻挡层的形成条件如下。
功率4千瓦压力2×10-2hPa时间10秒钟将制成的层叠体放置在旋涂器的平台上使阻挡层朝上。将粘结剂(大日本油墨株式会社制造，SD318)在阻挡层上分布成环状。
如图1所示，一边用真空吸盘5输送由聚碳酸酯制成的表面膜4(帝人制造pure ace外径119.5毫米，内径37毫米，厚度75微米)一边使之降下，使设置在平台2上的内周凸起11与设置在吸盘5上的内周凸起12吻合，将表面膜放置在层叠体上。
然后以300～5000转/分钟转速使之旋转30秒钟，使粘结剂扩展到整个表面并甩去多余的粘结剂。一边使之旋转一边照射紫外线使粘结剂固化，将层叠体与表面膜粘合(粘合工序)后，制成光信息记录介质。
观察制成的光信息记录介质的粘合层(由粘结剂形成的层)后，发现厚度为25微米，无气泡，密着性良好。表层与粘着层的总厚度约为100微米。〔实施例2〕将涂布了粘结剂的表面膜放置在旋涂器的平台上，如图2所示，一边用吸盘5保持层叠体，一边将层叠体放置在表面膜上，除此之外与实施例1同样制造了光信息记录介质。〔对照例1〕使用内径15毫米的表面膜沿着中心凸起(内周部分)将层叠体和表面膜粘合起来，除此之外与实施例1同样制成了光信息记录介质。〔光信息记录介质的评价〕利用带有尺寸测定功能的显微镜(olympas株式会社制造，MMCAL21型)分别测定了实施例1、2和对照例1制成光信息记录介质的偏芯。
实施例1和2制成的光信息记录介质的偏芯，分别为18微米和16微米，与此相比，对照例1制成的光信息记录介质的偏芯为120微米。
这是因为对照例1制成的光信息记录介质中，表面膜的一部分向基板的中心孔露出，与此相比实施例1和2制成的光信息记录介质中，未向中心孔露出，因而可以说能以优良精度将表面膜粘合在层叠体上。<实施例3和对照例2>〔实施例3〕在氩气气氛中利用DC溅射法(Unaxis公司制造，Cube)，在用注射成形法制成的聚碳酸酯制成基板的有纹道面上形成了银反射层(厚度100纳米)。
其中上述基板在厚度1.1毫米、外径120毫米、内径15毫米内具有螺线状纹道(沟槽深度30纳米，宽15纳米，道间距340纳米)。
将上述化学式表示的2克染料(化合物1)加入100毫升2，2，3，3-四氯丙醇中溶解，制成染料涂布液。用旋涂法一边使转速在300～4000转/分钟范围内变化，一边在23℃和50％RH条件下将制成的染料涂布液涂布在反射层上。然后在23℃和50％RH条件下保存1小时，形成了记录层(沟槽内的厚度100纳米，纹间部分的厚度70纳米)。
其中记录层在自基板中心44毫米以上的区域内形成。
形成记录层后，在净化炉中实施退火处理。退火处理是一边将基板在垂直硬纸板垛上用隔板支持隔开，一边于40℃保持1小时的方式进行的。
然后利用RF溅射法在记录层上形成由ZnS/SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(重量比))形成的阻挡层(厚度50纳米)，制成层叠体(层叠体制造工序)。阻挡层的形成条件如下。
功率4千瓦压力2×10-2hpa时间10秒钟将制成的层叠体放置在旋涂器的平台上使阻挡层朝上。将粘结剂(大日本油墨株式会社制造，SD318)在阻挡层上分布成环状。
一边用真空吸盘输送由聚碳酸酯制成的表面膜(帝人制造pure ace外径119.5毫米，内径17毫米，厚度75微米)，一边沿着基板的外周面调整粘合位置并将表面膜降下，将表面膜放置在阻挡层上。
其中粘合位置的调整，是使设置在真空吸盘外周的定位卡盘的内周部分接近基板外周面的方式进行的。
然后以300～5000转/分钟转速使之旋转30秒钟，使粘结剂扩展到整个表面并甩去多余的粘结剂。一边使之旋转一边照射紫外线使粘结剂固化，将层叠体与表面膜粘合(粘合工序)后，制成光信息记录介质。
对制成的光信息记录介质的粘合层(由粘结剂形成的层)观察后，发现厚度为25微米，无气泡，密着性良好。表层与粘着层的总厚度约为110微米。〔对照例2〕借助于层叠体和内径15毫米的表面膜的中心凸起(内周部分)，调整表面膜的粘合位置后粘合，除此之外与实施例同样制成了光信息记录介质。〔光信息记录介质的评价〕利用带有尺寸测定功能的显微镜(olympas株式会社制造，MMCAL21型)分别测定了实施例3和对照例2制成的光信息记录介质的偏芯。
实施例3制成的光信息记录介质的偏芯为22微米，与此相比对照例2制成的光信息记录介质的偏芯超过100微米。这是因为对照例2制成的光信息记录介质中表面膜的一部分朝基板的中心孔露出，与此相比实施例3制成的光信息记录介质中则未向中心孔露出，因而可以说能以优良精度将表面膜粘合在层叠体上。<实施例4和对照例3>〔实施例4〕在氩气气氛中利用DC溅射法(Unaxis公司制造，Cube)，在用注射成形法制成的，厚度1.1毫米、外径120毫米、内径15毫米内具有螺线状纹道(沟槽深度30纳米，宽15纳米，道间距340纳米)的，聚碳酸酯制成基板有纹道的面上形成了银反射层(厚度100纳米)。
将上述化学式表示的2克染料(化合物1)加入100毫升2，2，3，3-四氯丙醇中溶解，制成染料涂布液。一边使转速在300～4000转/分钟范围内变化，一边在23℃和50％RH条件下将制成的染料涂布液用旋涂法涂布在反射层上。然后在23℃和50％RH条件下保存1小时，形成了记录层(沟槽内的厚度100纳米，纹间部分的厚度70纳米)。
形成记录层后，在净化炉中实施退火处理。退火处理是一边将基板在垂直硬纸板垛上用隔板支持隔开，一边于40℃保持1小时的方式进行的。
然后利用RF溅射法在记录层上形成由ZnS/SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(重量比))形成的阻挡层(厚度50纳米)，制成层叠体(层叠体制造工序)。阻挡层的形成条件如下。
功率4千瓦压力2×10-2hPa时间10秒钟将聚碳酸酯制成的表面膜(帝人制造pure ace外径120毫米，内径15毫米，厚度85微米)放置在旋涂器的平台上，在表面膜上将粘结剂(大日本油墨株式会社制造，SD318)分布成环状，固定喷嘴使光盘大体旋转一周。其中表面膜的固定采用图4所示的原理，利用真空吸附方式进行。
然后将基板重叠设置得与内周凸起吻合，让转速在2000～7000转/分钟范围内变化使之旋转，将粘结剂扩展到整个表面并甩去多余的粘结剂。一边使之旋转一边照射紫外线使粘结剂固化，将基板粘合(粘合工序)制成光信息记录介质。
对制成的光信息记录介质的粘合层(由粘结剂形成的层)观察后，发现厚度为25微米，无气泡，密着性良好。表层与粘着层的总厚度约为110微米。〔对照例3〕除放置层叠体，在其上重叠粘合表面膜之外，与实施例同样制成了光信息记录介质。〔光信息记录介质的评价〕利用DLD4000(日本EM株式会社制造)就实施例4和对照例3制造的光信息记录介质测定了光信息记录介质全体的弯曲状态(径向倾斜值)。
结果发现，实施例4和对照例3制造的光信息记录介质分别为0.62o和0.85o，实施例4中发生的弯曲得到抑制。<实施例5、6和对照例4、5>〔实施例5〕在氩气气氛中利用DC溅射法在用注射成形法制成的，厚度1.1毫米、外径120毫米、内径15毫米内具有螺线状纹道(沟槽深度30纳米，宽15纳米，道间距340纳米)的，聚碳酸酯制成基板的有纹道面上形成了银反射层(厚度100纳米)。
将2克上述化学式表示的染料(化合物1)加入100毫升2，2，3，3-四氯丙醇中溶解，制成染料涂布液。一边使转速在300～4000转/分钟范围内变化，一边在23℃和50％RH条件下将制成的染料涂布液用旋涂法涂布在反射层上。然后在23℃和50％RH条件下保存1小时，形成了记录层(沟槽内的厚度100纳米，纹间部分的厚度70纳米)。
形成记录层后，在净化炉中实施退火处理。退火处理是一边将基板在垂直硬纸板垛上用隔板支持隔开，一边于40℃保持1小时的方式进行的。
然后利用RF溅射法在记录层上形成由ZnS/SiO2(ZnS∶SiO2＝8∶2(重量比))形成的阻挡层(厚度50纳米)，制成层叠体(层叠体制造工序)。阻挡层的形成条件如下。
功率4千瓦压力2×10-2hpa时间10秒钟在25℃和50％RH湿度下，将一面有剥离膜。另一面上涂布了粘结剂的聚碳酸酯制表面膜(外径120毫米，内径15毫米，厚度80微米)的粘结剂涂布面与层叠体的阻挡层沿着内周凸起设置粘合。粘合后立即从露出部分(剥离膜的外周部分)将剥离膜剥离，制成光信息记录介质。其中剥离膜的中心与表面膜的中心一致。
光信息记录介质制造时剥离膜的剥离，能够容易进行，没有损伤表面膜的端面。
而且用DLD4000(日本EM株式会社制造)测定了光信息记录介质全体的弯曲状态(径向倾斜值)后发现，其数值为0.4o，产生弯曲的受到抑制。〔实施例6〕除使用外径240毫米的剥离膜外，与实施例1同样制成了光信息记录介质。
制造光信息记录介质时剥离膜的剥离，能够容易进行，没有损伤表面膜的端面。
而且径向倾斜值为0.7°，虽然不如实施例会，但弯曲的产生受到抑制。〔对照例4〕除剥离膜外径与表面膜相同外，与实施例1同样制成了光信息记录介质。
由于剥离膜外径与表面膜的外径相同，所以光信息记录介质制造时很难将剥离膜剥离，表面膜的端面受到了损伤。〔对照例5〕除剥离膜的外径和内径与表面膜相同外，与实施例1同样制成了光信息记录介质。
由于剥离膜的外径与表面膜的外径相同，所以光信息记录介质制造时很难将剥离膜剥离，表面膜的端面受到了损伤。
综上所述，根据本发明可以提供一种再生时偏芯降低的光信息记录介质及其制造方法，而且还能提供一种弯曲的产生得到抑制的光信息记录介质及其制造方法，此外也能提供一种弯曲的产生得到抑制而且不损伤表面膜端面的适于实用的光信息记录介质及其制造方法。
权利要求
1.一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中包括在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及一边使表面膜的内周面保持在所述的基板的内周面的外侧，一边将所述的表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序。
2.根据权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的表面膜的厚度为0.03～0.15毫米。
3.根据权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的表面膜的内径比所述的基板的内径增大。
4.根据权利要求1所述的光信息记录介质的制造方法，其中将所述的表面膜和所述的层叠体粘合时的温度处于18℃以上，湿度处于35％RH以上。
5.一种光信息记录介质，其特征在于是经历在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及一边使所述的表面膜的内周面保持在所述的基板的内周面的外侧，一边将所述的表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序制造的。
6.一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中包括在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及根据上述基板的外周面调节粘合的位置，将内径比所述的基板的内径大的表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序。
7.根据权利要求6所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的表面膜的厚度为0.03～0.15毫米。
8.根据权利要求6所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的表面膜的内径与所述的基板的中心孔直径之差大于1毫米。
9.根据权利要求6所述的光信息记录介质的制造方法，其中将所述的表面膜和所述的层叠体粘合时的温度处于18℃以上，湿度处于35％RH以上。
10.一种光信息记录介质，其特征在于是经历在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及根据所述的基板的外周面调节粘合的位置，将内径比所述的基板的内径大的表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序制造的。
11.一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中包括在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及将表面膜放置在平台上，在所述的表面膜上粘合所述的层叠体使所述的记录层变成内侧的粘合工序。
12.根据权利要求11所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的表面膜的厚度为0.03～0.15毫米。
13.根据权利要求11所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的平台的表面备有孔。
14.根据权利要求11所述的光信息记录介质的制造方法，其中将所述的表面膜和所述的层叠体粘合时的温度处于18℃以上，湿度处于35％RH以上。
15.一种光信息记录介质，其特征在于是经过在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层，制作层叠体的层叠体制作工序，以及将表面膜放置在平台上，在所述的表面膜上粘合所述的层叠体使所述的记录层变成内侧的粘合工序制造的。
16.一种光信息记录介质的制造方法，是在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层制成层叠体，将表面膜粘合在所述的层叠体的所述的记录层上，制造光信息记录介质的方法，其特征在于在所述的表面膜粘合面的反面设置剥离膜，在所述的剥离膜上设置其至少一部分从所述的表面膜向外侧露出的露出部分，将所述的表面膜粘合在所述的层叠体上后，从所述的露出部分将所述的剥离膜剥离。
17.根据权利要求16所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的表面膜的厚度为0.03～0.15毫米。
18.根据权利要求16所述的光信息记录介质的制造方法，其中所述的露出部分处于所述的表面膜全部外周上。
19.根据权利要求16所述的光信息记录介质的制造方法，其中将所述的表面膜和所述的层叠体粘合时的温度处于18℃以上，湿度处于35％RH以上。
20.一种光信息记录介质，是在形成道间距200～400nm、沟槽深度10～150nm纹道的基板上，用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层制成层叠体，将表面膜粘合在所述的层叠体的所述的记录层上制造的光信息记录介质，其特征在于是采用在所述的表面膜粘合面的反面设置剥离膜，在所述的剥离膜上设置其至少一部分从所述的表面膜向外侧露出的露出部分，将所述的表面膜粘合在所述的层叠体上后从所述的露出部分将所述的剥离膜剥离的方法制造的。
全文摘要
提供一种光信息记录介质的制造方法，其特征在于其中具有用波长500nm以下激光光线形成能记录信息的记录层制成层叠体的层叠体制造工序，以及具有以下任一粘合工序一边使表面膜的内周面保持在基板的内周面的外侧，一边将表面膜与所述的层叠体粘合的粘合工序，根据基板的外周面调节粘合的位置，将表面膜与层叠体粘合的粘合工序，将表面膜放置在平台上，在表面膜上粘合层叠体的粘合工序，以及将设置剥离膜的表面膜粘合在层叠体上后，从表面膜向外侧露出的剥离膜，从露出部分将剥离膜剥离的粘合工序。另外，本发明还提供一种用上述任何方法制造的光信息记录介质。
文档编号G11B7/244GK1450541SQ0311024
公开日2003年10月22日 申请日期2003年4月7日 优先权日2002年4月8日
发明者宇佐美由久 申请人:富士胶片株式会社