专利名称：光信息记录介质的制作方法
技术领域：
本发明是关于可以使用高能量密度的激光写入(记录)或读出(再现)信息的热方式(heat mode)型信息记录介质以及信息记录方法，特别是关于适合于使用可见激光记录信息的追记型的数字通用光盘(DVD-R)等热方式型的信息记录介质。
背景技术：
使用激光只能进行一次信息记录的信息记录介质(光盘)已为人们所公知。该信息记录介质也称为追记型CD(所谓的CD-R)，与以往的CD制作相比，其优点是能够以适当的价格迅速地提供少量的CD，近年来，随着个人计算机的普及，对其需求逐渐增大。CD-R型的信息记录介质的典型结构是，在透明的圆盘状基板上顺次叠层由有机色素构成的记录层、由金等金属构成的反射层以及由树脂制成的保护层。
在光盘上记录信息，是通过照射近红外激光(通常是780nm左右波长的激光)，使记录层上局部发热变形而进行的。另一方面，信息的读出(再现)通常是，照射与记录时用的激光相同波长的激光，通过检测记录层发热变形的部位(记录部分)和未变形的部位(未记录部分)的反射率差异来进行的。
近年来，不断地要求记录密度更高的信息记录介质。在理论上人们已经知道，为了提高记录密度，缩小照射的激光的光斑直径为是一种有效的方法，另外，越是波长短的激光，越能缩小光斑直径，因而有利于高密度化。因此，人们开始研制使用比以往用的780nm更短波长的激光进行记录和再现的光盘，例如被称为追记型数字通用光盘(所谓的DVD-R)的光盘已经面市。该光盘是按下面所述制造的，即，在形成了磁道间距(トラックピッチ)比CD-R的1.6μm窄的0.8μm磁道间距的初槽(プレグル一ブ)的直径120mm或80mm的透明圆盘状基板上设置由色素构成的记录层，通常在该记录层上还设置反射层和保护层，将这样形成的两片盘或者一片盘和与该盘尺寸大致相同的圆盘状保护基板，按照该记录层朝内侧的方式用粘结剂粘合在一起。这样，DVD-R通过照射可见激光(通常是600～700nm范围波长的激光)就可以进行信息的记录和再现，可以实现比CD-R型的光盘更高密度的记录。
与以往的CD-R型相比，DVD-R型信息记录介质可以记录相当于前者数倍的信息量，因而希望其具有高的记录灵敏度，而且由于必须快速地处理特别大量的信息，因而还希望对于高速记录来说错误的发生率比较少。此外，一般地说，随时间的延长，由色素构成的记录层对于热或光来说其稳定性降低，因而还希望研制和开发对于热或光能长时期保持稳定的性能的记录层。
在特开昭63-209995公报(专利文献1)中，公开了一种在基板上设置由氧杂菁(ォキンノ一ル)色素构成的记录层的CD-R型信息记录介质。通过使用这种色素化合物，可以长期保持稳定的记录和再现性能。而且，在该文献中记载了在分子内以盐的形式导入铵的氧杂菁色素化合物。另外，在特开2000-52658公报(专利文献2)和特开2002-249674号公报(专利文献3)中记载了显示高的耐光性和耐久性、提供良好记录性能的光信息记录介质的氧杂菁色素化合物。但是，这些文献中没有记载含有氧杂菁色素的光信息记录介质在相当于DVD-R规格的8倍速的高速下记录再现信息时显示出特别优异的性能。
专利文献1特开昭63-209995公报专利文献2特开2000-52658公报专利文献3特开2002-249674公报本发明人将上述专利文献中记载的各种氧杂菁色素化合物用于DVD-R型光信息记录介质中，对其性能进行了研究。结果发现，在记录层中含有该色素化合物的DVD-R型光信息记录介质，在等倍速至4倍速的低速记录时发挥充分的性能，在8倍速以上的高速记录时显示出特别优异的记录性能，特别是在ァパレ一チャ一レシォ方面非常好，也就是说，本发明的光信息记录介质在1～4倍速的低速记录时保持良好的记录性能，同时，在8倍速以上的高速记录时也显示出良好的记录性能，从而完成了本发明。
发明内容
本发明的目的是，在1-4倍速的低速记录时保持良好的记录性能，同时，在8倍速或其以上的高速记录时也能实现高的反射率和高的调制度。本发明的另一目的是，提供在1-16倍速的很宽的记录速度下实现足够低的速度偏差的光信息记录介质。此外，本发明还有一个目的是，提供对于光和热具有坚牢性的光信息记录介质。
本发明人经过深入的研究，结果发现，上述目的可以通过下面所述的技术措施得到解决。
(1)一种光信息记录介质，该介质是包含透明基板和含有色素的记录层以及反射层的热方式追记型光信息记录介质，其特征在于，所述记录层的主要成分是有机色素，使用波长600～700nm的激光以线速度v(m/s)在该记录介质上进行记录时的最佳记录功率是25mW或其以上(优选的是30mW，更优选的是32mW或其以上，最好是60mW或其以下)，其中，以最佳记录功率记录8-16调制信号时，信号不稳定性(晃动jitter)达到最小的记录功率是(Po)，该Po由下列公式表示。
Po=P1×(v/3.5)~1.5P1×(v/3.5)]]>式中，P1是以3.5(m/s)的线速度记录时的最佳记录功率。
(2)上述第(1)项中所述的光信息记录介质，其特征在于，所述的有机色素是氧杂菁色素。
(3)上述第(2)项中所述的光信息记录介质，其特征在于，所述的氧杂菁色素是由下列通式(1)表示的结构。
通式(1)
式中，Za1和Za2分别独立地表示形成酸性核的原子团，Ma1、Ma2和Ma3分别独立地表示取代或未取代的次甲基，ka表示0～3的整数，ka为2或其以上时，存在多个Ma1和Ma2，它们可以是相同的，也可以是不同的；Q表示中和电荷的离子，y表示中和电荷所需要的数。
(4)上述第(3)项中所述的光信息记录介质，其特征在于，所述的氧杂菁色素的由Q表示的离子是下列通式(2)所示的结构。
通式(2) 式中，R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20分别独立地表示氢原子或取代基，R13和R18分别独立地表示取代基。
(5)上述第(1)～(4)中任一项中所述的光信息记录介质，其特征在于，[1]在形成了磁道间距0.6～0.9μm的初槽的、直径为120±3mm或80±3mm、厚度0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上设置含有色素的记录层而成的二片叠层体，各自的记录一侧向内将两片叠层体接合形成厚度为1.2±0.2mm；或者[2]由磁道间距0.6-0.9μm的初槽形成的、直径为120±3mm或80±3mm、厚度0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上设置含有色素的记录层而成的叠层体和圆盘状的保护板，按照记录层为内侧的方式接合的厚度为1.2±0.2mm。
(6)一种光信息记录方法，其特征在于，在透明基板上至少设置了含有有机色素的记录层和反射层的光信息记录介质上，以线速度v(m/s)、按最佳记录功率25mW或其以上(最好是60mW或其以下)记录波长600～700nm的激光。在上述最佳记录功率记录8-16调制信号时，信号不稳定达到最小的记录功率是Po，该Po由下列公式表示。
Po=P1×(v/3.5)~1.5P1×(v/3.5)]]>式中，P1是以3.5(m/s)的线速度记录时的最佳记录功率。
(7)一种光信息记录介质，其特征在于，该光信息记录介质是用于上述第(6)项中所述的光信息记录方法。
(8)上述第(7)项所述的光信息记录介质，其特征在于，其中所述的光信息记录介质中含有的有机色素是氧杂菁色素。
(9)上述第(8)项所述的光信息记录介质，其特征在于，所述氧杂菁色素是由下列通式(1)表示的结构。
式中，Za1和Za2分别独立地表示形成酸性核的原子团，Ma1、Ma2和Ma3分别独立地表示取代或未取代的次甲基，ka表示0～3的整数，ka为2或其以上时，存在多个Ma1和Ma2，它们可以是相同的，也可以是不同的；Q表示中和电荷的离子，y表示中和电荷所需要的数。
(10)上述第(9)项所述的光信息记录介质，其特征在于，所述的氧杂菁色素的用Q表示的离子是由下列通式(2)表示的结构。
通式(2) 式中，R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20分别独立地表示氢原子或取代基，R13和R18分别独立地表示取代基。
(11)上述第(7)～(10)中任一项中所述的光信息记录介质，其特征在于，[1]在形成了磁道间距0.6～0.9μm的初槽的、直径为120±3mm或80±3mm、厚度0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上设置含有色素的记录层而成的二片叠层体，各自的记录一侧向内将两片叠层体接合的厚度为1.2±0.2mm；或者[2]由磁道间距0.6-0.9μm的初槽形成的、直径为120±3mm或80±3mm、厚度0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上设置含有色素的记录层，将这样形成的叠层体和圆盘状的保护板，按照记录层为内侧的方式接合的厚度为1.2±0.2mm。
本发明可以提供与低速记录用的比较色素相比、双折射率的实部n大、虚部k相同或较小的色素。另外，还可以提供低速至高速的记录性能优异的光信息记录介质。
图1是表示评价光记录介质时所采用的记录策略。
具体实施例方式
下面详细地说明本发明。
本发明的光信息记录介质中使用的有机色素，以氧杂菁色素为宜。作为氧杂菁色素的具体例子可以举出F.M.Harmer著HeterocyclicCompounds-Cyanine Dyes and Related Compounds、John & Wiley & Sns、New York、London、1964版中记载的色素。
在氧杂菁色素中，优先选用由下列通式(1)表示的结构的色素。
通式(1) 在通式(1)中，Za1和Za2分别独立地表示形成酸性核的原子团。
Za1和Za2的具体例子在James编The Theory of thePhotographic Process，第4版，マクミラン社，1977年，第198页中有明确定义。具体地说可以举出吡唑啉-5-酮、吡唑烷-3，5-二酮、咪唑啉-5-酮、海因、2或4-海硫因、2-亚氨基噁唑烷-4-酮、2-噁唑烷-5-酮、2-硫噁唑烷-2，4-二酮、异绕丹酸、绕丹酸、5，6员的碳环(例如茚满-1，3-二酮)、噻吩-3-酮、噻吩-3-酮-1，1-二氧化物、吲哚满-2-酮、吲哚满-3-酮、2-氧代吲唑翁、5，7-二氧代-6，7-二氢噻唑并[3，2-a]嘧啶、3，4-二氢异喹啉-4-酮、1，3-二噁烷-4，6-二酮(例如メルドラム酸)、巴比土酸、2-硫巴比土酸、香豆素-2，4-二酮、吲唑啉-2-酮、吡啶并[1，2-a]嘧啶-1，3-二酮、吡唑并[1，5-b]喹唑啉酮、吡唑并吡啶酮、3-二氰基次甲基-3-苯基丙腈、混合(メルドラム)酸等的核，优选的是吡唑啉-5-酮、巴比土酸、2-硫巴比土酸、1，3-二噁烷-4，6-二酮。
Ma1、Ma2和Ma3分别独立地表示取代或未取代的次甲基。取代Ma1、Ma2和Ma3的取代基是取代或未取代的烷基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的芳氧基、取代或未取代的杂环基、卤原子、羧基、取代或未取代的烷氧基羰基、氰基、取代或未取代的酰基、取代或未取代的氨基甲酰基、氨基、取代的氨基、磺基、羟基、硝基、取代或未取代的磺酰基氨基、取代或未取代的氨基羰基氨基、取代或未取代的烷基磺酰基、取代或未取代的芳基磺酰基、取代或未取代的亚硫酰基以及取代或未取代的氨磺酰基。所述的取代基优选的是取代或未取代的碳原子数1～20的烷基、取代或未取代的碳原子数2～20的杂环基、取代或未取代的碳原子数1～20的烷氧基、取代或未取代的碳原子数6～20的芳基、卤原子，更优选的是取代或未取代的碳原子数1～10的烷基、取代或未取代的碳原子数1～10的烷氧基、未取代的碳原子数2～10的杂环基、卤原子，最好是取代或未取代的碳原子数1～5的烷基、未取代的碳原子数1～5的烷氧基、未取代的碳原子数2～6的杂环基以及卤原子。
Ma1、Ma2和Ma3优选的是未取代的次甲基、未取代的碳原子数1～5的烷基、未取代的碳原子数1～5的烷氧基、取代或未取代的碳原子数2～6的杂环基以及被卤原子取代的次甲基。
ka表示0～3的整数，优选的是1～2的整数。ka为2以上时，存在多个Ma1和Ma2，它们可以是相同的，也可以是不同的。
Q表示中和电荷的离子，y表示中和电荷所需要的数。
某些化合物是阳离子、阴离子或者具有离子电荷与否，取决于该化合物的取代基。在通式(1)中，由Q表示的离子根据相对的色素分子的电荷有时表示阳离子，有时表示阴离子，另外，在色素分子无电荷的情况下，不存在Q。Q表示的离子没有特别的限制，可以是由无机化合物构成的离子，也可以是由有机化合物构成的离子。此外，由Q表示的离子的电荷可以是1价，也可以是多价。由Q表示的阳离子，例如可以举出钠离子、钾离子等金属离子，季铵离子、氧离子、锍离子、磷离子、硒离子、碘翁离子等翁离子。另一方面，由Q表示的阴离子例如可以举出氯离子、溴离子、氟离子等卤素阴离子，硫酸根离子、磷酸根离子、磷酸氢根离子等杂多酸离子、琥珀酸根离子、马来酸根离子、富马酸根离子、芳香族磺酸根离子等有机多价阴离子，四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子等。
由Q表示的阳离子，优选的是翁离子，更优选的是季铵离子。在季铵离子中，特别优先选用特开2000～52658中的由通式(I～4)表示的4，4’-二吡啶翁阳离子和特开2002～59652中所述的4，4’-二吡啶翁阳离子。
在通式(1)所示的色素中，由Q表示的离子最好是下列通式(2)表示的结构。
通式(2) 式中，R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20分别独立地表示氢原子或取代基，R13和R18分别独立地表示取代基。作为取代基的例子可以举出卤原子、烷基(包含环烷基、二环烷基)、链烯基(包含环链烯基、二环链烯基)、炔基、芳基、杂环基、氰基、羟基、硝基、羧基、烷氧基、芳氧基、甲硅烷氧基、杂环氧基、酰氧基、氨基甲酰氧基、烷氧基羰氧基、芳氧基羰氧基、氨基(包含苯胺基)、酰氨基、氨基羰基氨基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、氨磺酰基氨基、烷基及芳基磺酰基氨基、巯基、烷硫基、芳硫基、杂环硫基、氨磺酰基、磺基、烷基及芳基亚硫酰基、烷基及芳基磺酰基、酰基、芳氧基羰基、烷氧基羰基、氨基甲酰基、芳基及杂环偶氮基、亚氨基、膦基、氧膦基、氧膦基氧基、氧膦基氨基、甲硅烷基。
更具体地说，R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20分别独立地表示卤原子(例如氯原子、溴原子、碘原子)、烷基[直链、支链、环状的取代或未取代的烷基，它们是烷基(优选的是碳原子数1～30的烷基，例如甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、正辛基、二十烷基、2-氯乙基、2-氰基乙基、2-乙基己基)、环烷基(优选的是碳原子数3～30的取代或未取代的环烷基，例如环己基、环戊基、4-正十二烷基环己基)、二环烷基(优选的是碳原子数5～30的取代或未取代的二环烷基，即从碳原子数5～30的二环链烷中去掉一个氢原子的一价的基，例如二环[1，2，2]庚烷-2-基、二环[2，2，2]辛烷-3-基)、此外还包括环结构多的三环结构。下文中所述的取代基中的烷基(例如烷硫基中的烷基)也表示这样的烷基]，链烯基[直链、支链、环状的取代或未取代的链烯基，它们是链烯基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的链烯基，例如乙烯基、烯丙基、异戊二烯基、香叶基、油基)、环链烯基(优选的是碳原子数3～30的取代或未取代的环链烯基，即将碳原子数3～30的环链烯的氢原子去掉一个后的一价的基，例如2-环戊烯-1-基、2-环己烯-1-基)、二环链烯基(取代或未取代的二环链烯基，优选的是碳原子数5～30的取代或未取代的二环链烯基，即将具有一个双键的二环链烯的氢原子去掉一个后的一价的基，例如二环[2，2，1]庚-2-烯-1-基、二环[2，2，2]辛-2-烯-4-基)]，炔基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的炔基，例如乙炔基、丙炔基、三甲基甲硅烷基乙炔基)、芳基(优选的是碳原子数6～30的取代或未取代的芳基，例如苯基、对甲苯基、萘基、间氯苯基、邻十六酰基氨基苯基)、杂环基(优选的是从5或6员的取代或未取代的、芳香族或非芳香族的杂环化合物中去掉一个氢原子的一价的基，更优选的是碳原子数3～30的5或6员的芳香族杂环基，例如2-呋喃基、2-噻嗯基、2-嘧啶基、2-噻唑基)、氰基、羟基、硝基、羧基、烷氧基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的烷氧基，例如甲氧基、乙氧基、异丙氧基、叔丁氧基、正辛氧基、2-甲氧基乙氧基)、芳氧基(优选的是碳原子数6～30的取代或未取代的芳氧基，例如苯氧基、2-甲基苯氧基、4-叔丁基苯氧基、3-硝基苯氧基、2-四癸酰基氨基苯氧基)、甲硅烷氧基(优选的是碳原子数3～20的甲硅烷基氧基，例如三甲基甲硅烷基氧基、叔丁基二甲基甲硅烷基氧基)、杂环氧基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的杂环氧基，例如1-苯基四唑-5-氧基、2-四氢吡喃氧基)、酰氧基(优选的是甲酰氧基、碳原子数2～30的取代或未取代的烷基羰氧基、碳原子数6～30的取代或未取代的芳基羰氧基，例如甲酰氧基、乙酰氧基、三甲基乙酰氧基、硬脂酰氧基、苯甲酰氧基、对甲氧基苯基羰氧基)、氨基甲酰氧基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的氨基甲酰氧基，例如N，N-二甲基氨基甲酰氧基、N，N-二乙基氨基甲酰氧基、吗啉代羰氧基、N，N-二正辛基氨基羰氧基、N-正辛基氨基甲酰氧基)、烷氧基羰氧基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的烷氧基羰氧基，例如甲氧基羰氧基、乙氧基羰氧基、叔丁氧基羰氧基、正辛基羰氧基)、芳氧基羰氧基(优选的是碳原子数7～30的取代或未取代的芳氧基羰氧基，例如苯氧基羰氧基、对甲氧基苯氧基羰氧基、对正十六烷氧基苯氧基羰氧基)、氨基(优选的是氨基、碳原子数1～30的取代或未取代的烷氨基、碳原子数6～30的取代或未取代的芳基氨基，例如氨基、甲氨基、二甲基氨基、苯胺基、N-甲基苯胺基、二苯基氨基)、酰胺基(优选的是甲酰胺基、碳原子数1～30的取代或未取代的烷基羰基氨基、碳原子数6～30的取代或未取代的芳基羰基氨基，例如甲酰胺基、乙酰胺基、三甲基乙酰胺基、月桂酰胺基、苯甲酰胺基、3，4，5-三正辛氧基苯基羰基氨基)、氨基羰基氨基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的氨基羰基氨基，例如氨基甲酰胺基、N，N-二甲氨基羰基氨基、N，N-二乙氨基羰基氨基、吗啉代羰基氨基)、烷氧基羰基氨基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的烷氧基羰基氨基，例如甲氧基羰基氨基、乙氧基羰基氨基、叔丁氧基羰基氨基、正十八烷氧基羰基氨基、N-甲基甲氧基羰基氨基)、芳氧基羰基氨基(优选的是碳原子数7～30的取代或未取代的芳氧基羰基氨基，例如苯氧基羰基氨基、对氯苯氧基羰基氨基、间正辛氧基苯氧基羰基氨基)、氨磺酰基氨基(优选的是碳原子数0～30的取代或未取代的氨磺酰基氨基，例如氨磺酰基氨基、N，N-二甲氨基氨磺酰基氨基、N-正辛氨基氨磺酰基氨基)、烷基和芳基磺酰基氨基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的烷基磺酰基氨基、碳原子数6～30的取代或未取代的芳基磺酰基氨基，例如甲基磺酰基氨基、丁基磺酰基氨基、苯基磺酰基氨基、2，3，5-三氯苯基磺酰基氨基、对甲基苯基磺酰基氨基)、巯基、烷硫基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的烷硫基，例如甲硫基、乙硫基、正十六烷硫基)、芳硫基(优选的是碳原子数6～30的取代或未取代的芳硫基，例如苯硫基、对氯苯硫基、间甲氧基苯硫基)、杂环硫基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的杂环硫基，例如2-苯并噻唑基硫基、1-苯基四唑-5-基硫基)、氨磺酰基(优选的是碳原子数0～30的取代或未取代的氨磺酰基，例如N-乙基氨磺酰基、N-(3-十二烷氧基丙基)氨磺酰基、N，N-二甲基氨磺酰基、N-乙酰基氨磺酰基、N-苯甲酰基氨磺酰基、N-(N’-苯基氨基甲酰基)氨磺酰基)、磺基、烷基和芳基亚硫酰基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的烷基亚硫酰基、碳原子数6～30的取代或未取代的芳基亚硫酰基，例如甲基亚硫酰基、乙基亚硫酰基、苯基亚硫酰基、对甲基苯基亚硫酰基)、烷基和芳基磺酰基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的烷基磺酰基、碳原子数6～30的取代或未取代的芳基磺酰基，例如甲磺酰基、乙磺酰基、苯磺酰基、对甲基苯磺酰基)、酰基(优选的是甲酰基、碳原子数2～30的取代或未取代的烷基羰基、碳原子数7～30的取代或未取代的芳基羰基、碳原子数4～30的取代或未取代的在碳原子上与羰基结合的杂环羰基，例如乙酰基、三甲基乙酰基、2-氯乙酰基、硬脂酰基、苯甲酰基、对正辛氧基苯基羰基、2-吡啶基羰基、2-呋喃基羰基)、芳氧基羰基(优选的是碳原子数7～30的取代或未取代的芳氧基羰基，例如苯氧基羰基、邻氯苯氧基羰基、间硝基苯氧基羰基、对叔丁基苯氧基羰基)、烷氧基羰基(例如碳原子数2～30的取代或未取代的烷氧基羰基，例如甲氧基羰基、乙氧基羰基、叔丁氧基羰基、正十六烷氧基羰基)、氨基甲酰基(优选的是碳原子数1～30的取代或未取代的氨基甲酰基，例如氨基甲酰基、N-甲基氨基甲酰基、N，N-二甲基氨基甲酰基、N，N-二正辛基氨基甲酰基、N-(甲磺酰基)氨基甲酰基)、芳基和杂环偶氮基(优选的是碳原子数6～30的取代或未取代的芳基偶氮基、碳原子数3～30的取代或未取代的杂环偶氮基，例如苯偶氮基、对氯苯偶氮基、5-乙硫基-1，3，4-噻二唑-2-基偶氮基)、亚氨基(优选的是N-琥珀酰亚氨基、N-邻苯二甲酰亚氨基)、膦基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的膦基，例如二甲基膦基、二苯基膦基、甲基苯氧基膦基)、氧膦基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的氧膦基，例如氧膦基、二辛氧基氧膦基、二乙氧基氧膦基)、氧膦基氧基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的氧膦基氧基，例如二苯氧基氧膦基氧基、二辛氧基氧膦基氧基)、氧膦基氨基(优选的是碳原子数2～30的取代或未取代的氧膦基氨基，例如二甲氧基氧膦基氨基、二甲氨基氧膦基氨基)、甲硅烷基(优选的是碳原子数3～30的取代或未取代的甲硅烷基，例如三甲基甲硅烷基、叔丁基二甲基甲硅烷基、苯基二甲基甲硅烷基)。
在上述官能基中，具有氢原子的官能基也可以将其去除，再用上述基取代。这样的官能基的例子可以举出烷基羰基氨基磺酰基、芳基羰基氨基磺酰基、烷基磺酰基氨基羰基、芳基磺酰基氨基羰基。作为具体的例子可以举出甲磺酰基氨基羰基、对甲基苯基磺酰基氨基羰基、乙酰基氨基磺酰基、苯甲酰基氨基磺酰基。
R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20优选的全部是氢原子。R13和R18优选的是分别独立地表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环基。其中更优选的是取代或未取代的芳基，最好是取代的芳基。R13和R18是取代的芳基时，取代基优选的是羟基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烷基、卤原子。
本发明中使用的氧杂菁色素的最优选的结构是由下列通式(3)表示的结构。
通式(3) 在通式(3)中，R1、R2、R3和R4分别独立地表示取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的杂环基。
R1和R2、R3和R4也可以彼此结合形成环结构。
R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29和R30分别独立地表示氢原子或取代基。在R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29和R30中，彼此邻接的2个取代基也可以彼此结合形成环结构。
取代基的例子可以举出上述通式(2)的R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20中所述的取代基。
R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29以及R30的优选的分别独立地表示氢原子、羟基、氰基、卤原子、取代或未取代的芳基、取代或未取代的烷基。
作为R21、R22、R23、R24、R25、R26、R27、R28、R29以及R30的优选的例子，R23、R28是羟基，并且R22、R27是取代或未取代的苯基，更优选的例子是，其它为氢原子。
下面举出本发明的由通式(1)(包括(3))表示的化合物的优选的具体例子，但本发明不限于这些例子。
化合物R1R2R3R4R21R22R23R24R25R26R27R28R29R301 -H -OH -H -H-H -OH -H-H2 ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″3 ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″4 ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″5 -H-H -H-OH -H -H -H-OH6 ″ ″-H -H -H-OH -H -H -H-OH
化合物 R1R2R3R4R21R22R23R24R25R26R27R28R29R307 -H -OH -H -H -H -OH -H -H8 ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″ ″9 ″″ ″ ″″ ″ ″ ″10 -OH -H -H -H -OH -H -H -H11 -H -H -H -OH -H -H -H-OH12 ″ ″ -H -H -H -OH -H -H -H -OH
色素 RaRbL13 -COOC2H5-H -H14 -COOC2H5-CH3-H15 -COOC2H5 -H16 -CONHCH3-C2H5 色素 R XL17 -C2H5-H18 -C3H7-H19-H20 -H21 -C4H9 -CH3
一般的氧杂菁色素，可以通过该活性亚甲基化合物与次甲基源(用于在次甲基染料中导入次甲基的化合物)的缩合反应来合成。这种化合物的详细情况可以参阅下列文献特公昭39～22069号、特公昭43～3504号、特公昭52～38056号、特公昭54～38129号、特公昭55～10059号、特公昭58～35544号、特开昭49～99620号、特开昭52～92716号、特开昭59～16834号、特开昭63～316853号、特开昭64～40827号，以及英国专利第1133986号、美国专利第3247127号、4042397号、4181225号、5213956号、5260179号的说明书。此外，在特开昭63～209995号、特开平10～309871号、特开2002～249674号中也有记载。
本发明的由上述通式(1)和(3)表示的色素化合物，可以单独使用，也可以2种或其以上并用。另外，本发明的色素化合物还可以与其它色素化合物并用。并用的色素例如可以举出偶氮染料(包括与金属离子的配位的偶氮染料)、甲撑吡咯染料、花青染料等。
本发明中使用的色素，其热分解温度在100～350℃的范围内为宜，优选的是150～300℃，最好是200～300℃。
本发明中使用的色素的无定型膜的光学性能是，双折射率的系数n(实部折射率)、k(虚部消光系数)为，2.0≤n≤3.0、0.005≤k≤0.30，优选的是，2.1≤n≤2.7、0.01≤k≤0.15，最好是，2.15≤n≤2.50、0.03≤k≤0.10。
本发明的信息记录介质，具有由上述通式(1)和(3)表示的色素化合物作为记录层，只要在上述条件下具有特定的最佳记录功率即可，没有特别的限制，优选的是在基板上至少顺序叠层设置含有有机色素的记录层及光反射层的光信息记录介质，在上述条件下具有特定的最佳记录功率。
将本发明的光信息记录介质用于CD～R的情况下，优选的是，在形成了磁道间距1.4～1.8μm的初槽的厚度1.2±0.2mm的透明圆盘状基板上顺次具有含有上述通式(1)(优选的是(3))所示的色素化合物的记录层、光反射层以及保护层而构成。另外，在用于DVD～R的情况下，优选的是以下所述的2种方式。
一种光信息记录介质，构成为在形成了磁道间距0.6～0.9μm的初槽的、厚度为0.6±0.1mm的透明圆盘状基板上设置有含有上述通式(1)所示的色素化合物的记录层和光反射层而成的二片叠层体，将其接合成使各自的记录层成为内侧，并形成厚度1.2±0.2mm。
一种光信息记录介质，构成为在形成了磁道间距0.6～0.9μm的初槽的、厚度0.6±0.1mm的透明圆盘状基板上设置有含有由上述通式(1)表示的色素化合物的记录层和光反射层，将这样形成的叠层体和与该叠层体的圆盘状基板相同形状的透明圆盘状保护基板按照记录层成为内侧的方式接合，形成厚度1.2±0.2mm。另外，构成为在上述DVD～R型光信息记录介质中，还可以在光反射层上进一步设置了保护层。
本发明的光信息记录介质，优选的是用来作为8倍速或其以上的高速信息记录和再现用的介质，更优选的是用来作为10倍速或其以上的高速信息记录和再现用的介质，特别优选的是用来作为12倍速或其以上的高速信息记录和再现用的介质，最优选的是用来作为16倍速或其以上的高速信息记录和再现用的介质。
数据的传输速度在80Mbps或其以上为宜，优选的是110Mbps或其以上，更优选的是130Mbps，最好是170Mbps或其以上。
本发明的信息记录介质，例如可以使用下面所述的材料和方法制造。
基板(也包括保护基板)可以从以往用来作为信息记录介质基板的各种材料中任意选择。作为基板的材料例如可以举出玻璃；聚碳酸酯，聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂；聚氯乙烯、氯乙烯共聚物等氯乙烯类树脂；环氧树脂，无定型聚烯烃以及聚酯等。根据需要，也可以将这些材料并用。另外，这些材料可以以薄膜状或者具有刚性的基板的形式使用。在上述材料中，从耐湿性、尺寸稳定性和价格等方面考虑优先选用聚碳酸酯。
在设置了记录层的一侧的基板表面上，还可以设置中间涂层，以改善平面性、提高粘附力以及防止记录层变质。所述的中间涂层的材料例如可以举出聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸-甲基丙烯酸共聚物、苯乙烯-马来酸酐共聚物、聚乙烯醇、N-羟甲基丙烯酰胺、苯乙烯-乙烯基甲苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝基纤维素、聚氯乙烯、氯化聚烯烃、聚酯、聚酰亚胺、醋酸乙烯-氯乙烯共聚物、乙烯-醋酸乙烯共聚物、聚乙烯、聚丙烯、聚碳酸酯等高分子物质，以及硅烷偶联剂等表面改性剂。将上述物质溶解或分散于适当的溶剂中，制成涂布液，然后采用旋涂法、浸涂法、挤涂法等涂布方法将该涂布液涂布在基板表面上，即可形成中间涂层。
另外，在基板(或底涂层)上，形成有追迹用的沟槽或表示地址信号等信息的凹凸(プレグル一ブ)。该凹凸最好是在将聚碳酸酯等树脂材料注射成形或挤出成形时直接在基板上在上述磁道间距处形成。另外，凹凸的形成还可以通过设置凹凸层来进行。凹凸层的材料可以使用丙烯酸的单酯、二酯、三酯和四酯中的至少一种单体(或低聚物)与光聚合引发剂的混合物。凹凸层的形成例如也可以按下面所述的方法进行，首先，在精密制作的母模(原模)上涂布由上述丙烯酸酯和聚合引发剂构成的混合液，在该涂布液层上载置基板后，通过介有基板或母模照射紫外线，使涂布层固化，将基板和涂布层粘合固定，然后将基板从母模上剥离即可。
在基板(或底涂层)的形成了凹凸的表面上设置含有上述有机色素、最好是含有本发明的由上述通式(1)表示的色素化合物的记录层。
记录层中还可以含有提高耐光性的各种防退色剂。所述防退色剂的有代表性的例子可以举出特开平3～224793号中所述的通式(III)、(IV)或(V)表示的金属配位体、二亚胺鎓盐(diimmonum)、胺翁盐以及特开平2～300287号和特开平2～300288号中所示的亚硝基化合物、特开平10～151861中所示的TCNQ衍生物等。
记录层的形成可以按下面所述进行，即，将本发明的色素及根据需要使用的淬火剂、粘合剂等溶解在溶剂中制成涂布液，将该涂布液涂布在基板表面上形成涂膜，然后进行干燥。用于形成色素记录层的涂布液中的溶剂可以举出乙酸丁酯、乳酸乙酯、乙酸溶纤剂等酯；甲基乙基酮、环己酮、甲基异丁基酮等酮；二氯甲烷、1，2-二氯乙烷、氯仿等氯化烃；二甲基甲酰胺等酰胺；环己烷等烃；四氢呋喃、乙醚、二噁烷等醚；乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、双丙酮醇等醇；2，2，3，3-四氟丙醇等含氟溶剂；乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、丙二醇一甲醚等乙二醇醚类等。考虑到所使用的化合物的溶解性，上述溶剂可以单独使用1种或者2种或其以上组合使用。根据使用目的，还可以在涂布液中添加防氧化剂、紫外线吸收剂、增塑剂、润滑剂等各种添加剂。
所述的粘合剂例如可以举出明胶、纤维素衍生物、葡聚糖、松脂、橡胶等天然有机高分子物质；聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚异丁烯等烃类树脂；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚氯乙烯-聚醋酸乙烯共聚物等乙烯基树脂；聚丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸树脂；聚乙烯醇、氯化聚乙烯、环氧树脂、丁醛树脂、橡胶衍生物、酚醛树脂等热固性树脂的初期缩合物等合成有机高分子。作为记录层的材料并用粘合剂的情况下，相对于色素来说粘合剂的用量一般是0.01～50倍量(质量比)范围，优选的是0.1～5倍量(质量比)范围。这样制备的涂布液的色素浓度一般是0.01～10％(质量)范围，优选的是0.1～5％(质量)范围。
涂布的方法可以举出喷涂法、旋涂法、浸涂法、辊涂法、刮涂法、刮均辊法、丝网印刷法等。记录层可以是单层的，也可以是多层的，记录层的层厚度一般是20～500nm的范围，优选的是50～300nm的范围。
为了提高信息再现时的反射率，在上述记录层上设置反射层。作为反射层材料的光反射性物质，是对于激光的反射率高的物质，这种材料的例子可以举出Mg、Se、Y、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Mn、Re、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Ir、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Si、Ge、Te、Pb、Po、Sn、Bi等金属和类金属或者不锈钢，其中优选的是Cr、Ni、Pt、Cu、Ag、Au、Al和不锈钢，特别优选的是Ag。这些物质可以单独使用或者2种或其以上组合使用，也可以制成合金使用。通过蒸镀、溅射或离子镀上述反射性物质，可以在记录层上形成反射层。
反射层的层厚度一般是10～300nm的范围，优选的是50～200nm的范围。
为了以物理和化学方式保护记录层等，在反射层上还可以设置保护层。在基板的未设置记录层的一侧，为了提高耐划伤性和耐湿性的目的，也可以设置该保护层。保护层所使用的材料，例如，可以举出SiO、SiO2、SgF2、SnO2、Si3N4等无机物质、热塑性树脂、热固性树脂、UV固化性树脂等有机物质。保护层，例如可以通过在反射层上和/或基板上叠层通过塑料挤出加工得到的薄膜而形成，或者也可以采用真空蒸镀、溅射、涂布等方法形成，另外，在热塑性树脂和热固性树脂的情况下，还可以通过将它们溶解在适当的溶剂中制成涂布液，然后涂布该涂布液并进行干燥而形成。在U V固化性树脂的情况下，还可以通过将其直接涂布或者溶解于适当的溶剂中制成涂布液后涂布，然后照射紫外线使之固化而形成。根据使用目的，在这些涂布液中还可以添加防静电剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂等各种添加剂。保护层的层厚度一般是0.1～100μm的范围。通过以上工艺过程，可以制成在基板上设置了记录层和反射层以及必要时还有保护层的叠层体。如上所述，制作2片叠层体，使这2片叠层体各自的记录层朝内侧，用粘结剂将它们贴合在一起，可以制造具有2个记录层的DVD～R型信息记录介质。另外，将所得到的叠层体和与该叠层体的基板大致相同尺寸的圆盘状保护基板按照记录层朝内侧的方式用粘结剂贴合在一起，可以制造仅仅一侧具有记录层的DVD～R型的信息记录介质。
本发明的信息记录方法，是使用上述信息记录介质例如按下面所述进行。首先，使信息记录介质以一定的线速度或一定的角速度旋转，与此同时由基板一侧照射半导体激光等记录用的激光。经过光照射，在记录层与反射层的界面上形成空洞(空洞是伴随记录层或反射层的变形或者这两层的变形而形成的)，或基板突起变形，或者在记录层中由于变色、缔合状态的变化导致折射率改变，从而进行信息记录。所述的记录光，对于CD～R型，使用具有770～790nm波长半导体激光束，对于DVD～R型，使用具有600～700nm(优选的是620～680nm，更优选的是630～660nm)振荡波长的半导体激光。按上面所述记录的信息，可以通过使信息记录介质按与上述相同的恒定线速度旋转，同时由基板一侧照射具有与记录时相同波长的半导体激光并检测其反射光而进行信息再现。
实施例实施例1下面叙述光信息记录介质的实施例。
光信息记录介质的制作采用注塑成形，将聚碳酸酯树脂成形为具有螺旋状凹槽(深130nm、宽310nm、磁道间距0.74μm)的厚度度0.6mm、直径为120mm的基板。将本发明的化合物(3)1.25g溶解于2，2，3，3-四氟丙醇100ml中，制成涂布液，采用旋涂法将该涂布液涂布在上述基板的形成凹槽的表面上，形成了色素层。
接着，在各色素涂布面上溅射银，形成膜厚度约150nm的反射层，然后使用紫外线固化树脂(ダィキュァクリァSD 640，大日本ィンキ化学工业制造)作为粘结剂与0.6mm厚度的空白基板贴合，制成光盘。
比较例1使用下述比较化合物(1)代替色素化合物(3)，除此之外与实施例1同样操作，制成光盘。
比较化合物(1) 光信息记录介质的评价使用DDU 1000和多信号发生器(パルステック公司制造，激光波长＝660nm、开口率0.60)，将线速度从DVD～R的标准线速度3.5m/s改变至35m/s，记录8～16调制信号。
所使用的记录策略(strategy)采用表1和图1中所示的策略。
表1
表2中示出此时的最佳记录功率和信号不稳定的测定结果。
表2
与比较例1相比，实施例1在1倍速、8倍速、10倍速记录时信号不稳定性比较低，反射率高。在比较例1中，AR达到8X、10X的高速记录时，信号不稳定性急剧噁化。另外，在实施例1中，最佳记录功率在B记录策略的情况下是34.7，在比较例1中，在A记录策略附近晃动最小，最佳记录功率为8.6以下的值。
实施例2代替色素化合物(3)，使用下面表3中记载的色素化合物4、5、7、10、13、19、20、27、32、3与34并用、比较化合物(1)，除此之外与实施例1同样操作，制成光盘试样202～212。与实施例1完全同样操作，评价记录再现的性能，在1X至10X下显示出优异的记录再现特性。表3中示出以35.0m/s的线速度记录时的结果。与比较化合物相比，本发明的色素反射率高，晃动低，可以得到足够的调制度。
表3
此外，以12倍速和16倍速记录3T和14T的单一频率信号时，得到与1倍速～10倍速同等的C/N比、调制度和晃动。这表明，至少在10～16倍速或者更高的记录速度下可以得到良好的性能。
权利要求
1.一种光信息记录介质，是包含透明基板和含有色素的记录层以及反射层的热方式追记型光信息记录介质，其特征在于，该记录层的主要成分是有机色素，使用波长600-700nm的激光以线速度v(m/s)在该记录介质上进行记录时的最佳记录功率是25mW或其以上(优选的是30mW，更优选的是32mW或其以上，最好是60mW或其以下)，其中，以最佳记录功率记录8-16调制信号时，信号不稳定性最小的记录功率是(Po)，该Po由下列公式表示。Po=P1×(v/3.5)~1.5P1×(v/3.5)]]>式中，P1是以3.5(m/s)的线速度记录时的最佳记录功率。
2.根据权利要求1所述的光信息记录介质，其特征在于，所述有机色素是氧杂菁色素。
3.根据权利要求2所述的光信息记录介质，其特征在于，所述氧杂菁色素是由下列通式(1)表示的结构。通式(1) 式中，Za1和Za2分别独立地表示形成酸性核的原子团，Ma1、Ma2和Ma3分别独立地表示取代或未取代的次甲基，ka表示0～3的整数，ka为2或其以上时，存在多个Ma1和Ma2，它们可以是相同的，也可以是不同的；Q表示中和电荷的离子，y表示中和电荷所需要的数。
4.根据权利要求3所述的光信息记录介质，其特征在于，所述氧杂菁色素的由Q表示的离子是下列通式(2)所示的结构通式(2) 式中，R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20分别独立地表示氢原子或取代基，R13和R18分别独立地表示取代基。
5.根据权利要求1～4中任一项中所述的光信息记录介质，其特征在于[1]在形成了磁道间距0.6～0.9μm的初槽的、直径为120±3mm或直径为80±3mm、厚度为0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上，设置含有色素的记录层而成的二片叠层体，各自的记录一侧向内接合在一起形成厚1.2±0.2mm；或者[2]在由磁道间距0.6～0.9μm的初槽形成的、直径为120±3mm或直径为80±3mm、厚0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上，设置含有色素的记录层而成的叠层体和圆盘状的保护板，按照记录层为内侧的方式接合的厚度为1.2±0.2mm。
6.一种光信息记录方法，其特征在于，在透明基板上至少设置了含有有机色素的记录层和反射层的光信息记录介质上，以线速度v(m/s)、按最佳记录功率25mW或其以上记录波长600～700nm的激光，在上述最佳记录功率记录8-16调制信号时，信号不稳定性最小的记录功率是(Po)，该Po由下列公式表示Po=P1×(v/3.5)~1.5P1×(v/3.5)]]>式中，P1是以3.5(m/s)的线速度记录时的最佳记录功率。
7.一种光信息记录介质，其特征在于，该光信息记录介质是用于上述权利要求6所述的光信息记录方法的。
8.根据权利要求7所述的光信息记录介质，其特征在于，所述光信息记录介质中含有的有机色素是氧杂菁色素。
9.根据权利要求8所述的光信息记录介质，其特征在于，所述氧杂菁色素是由下列通式(1)表示的结构通式(1) 式中，Za1和Za2分别独立地表示形成酸性核的原子团，Ma1、Ma2和Ma3分别独立地表示取代或未取代的次甲基，ka表示0～3的整数，ka为2或其以上时，存在多个Ma1和Ma2，它们可以是相同的，也可以是不同的；Q表示中和电荷的离子，y表示中和电荷所需要的数。
10.根据权利要求9所述的光信息记录介质，其特征在于，所述氧杂菁色素的用Q表示的离子是由下列通式(2)表示的结构通式(2) 式中，R11、R12、R14、R15、R16、R17、R19和R20分别独立地表示氢原子或取代基，R13和R18分别独立地表示取代基。
11.根据权利要求7～10中任一项中所述的光信息记录介质，其特征在于[1]在形成了磁道间距0.6～0.9μm的初槽的、直径为120±3mm或直径为80±3mm、厚度为0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上，设置含有色素的记录层而成的二片叠层体各自的记录一侧向内接合在一起形成厚度为1.2±0.2mm；或者[2]由磁道间距0.6～0.9μm的初槽形成的、直径为120±3mm或直径为80±3mm、厚度为0.6±0.1mm的透明圆盘状基板的设置了该初槽一侧的表面上设置含有色素的记录层而成的叠层体和圆盘状的保护板，按照记录层为内侧的方式接合的厚度为1.2±0.2mm。
全文摘要
本发明提供了一种光信息记录介质，该记录介质在1－4倍速的低速记录时具有良好的记录性能，同时，在8倍速以上的高速记录时也能实现高的反射率和高的调制度，对于光和热的可靠性高。本发明的光信息记录介质的其特征在于，所述记录层的主要成分是有机色素，使用波长600－700nm的激光以线速度v(m/s)在该记录介质上进行记录时的最佳记录功率是25mW以上(优选的是30mW，更优选的是32mW以上，最好是60mW以下)，其中，以最佳记录功率记录8－16调制信号时，信号不稳定最小的记录功率是(Po)，该Po由下列公式表示；Po=P1×
文档编号G11B7/257GK1627400SQ20041009797
公开日2005年6月15日 申请日期2004年12月2日 优先权日2003年12月8日
发明者御子柴尚, 柴田路宏 申请人:富士胶片株式会社