专利名称：多层光记录介质的制作方法
技术领域：
本发明涉及层积多个记录再现层的多层光记录介质，特别涉及用于提高再现信号的品质的技术，其中，该记录再现层能够通过照射光来再现信息。
背景技术：
在光记录介质的领域中，借助激光光源的短波长化和光学系统的高NA化，来提高记录密度。但是，利用这些光源和光学系统的努力达到极限，为了使记录容量进一步增大， 谋求沿光轴方向多重记录信息的体积记录。例如，在Blu-ray Disc(BD:蓝光盘)规格的光记录介质中，在提出本申请时，具有两层的记录再现层的光记录介质已经实现商品化，关于 3层结构和4层结构，规格化正在进行。另外，在试验研究中，证实存在具有20层再现专用的记录再现层的多层光记录介质和具有10 16层的能够进行记录再现的录再现层的多层光记录介质。在多层光记录介质中，在对记录再现层的信息进行再现时，其他记录再现层的信号漏入或因其他记录再现层的影响产生的噪声(noise)漏入即所谓的串扰成为问题。该串扰会导致伺服信号和记录信号的恶化。该串扰包括层间串扰和共焦串扰(confocal crosstalk)这两类。层间串扰是指， 由与再现中的记录再现层相邻的记录再现层反射后的光漏入到再现光中而产生的现象。因此，在具有两层以上的记录再现层的多层光记录介质中必定成为问题。若增大层间距离，则该层间串扰会变小。共焦串扰是在具有3层以上的记录再现层的多层光记录介质中特有的现象，共焦串扰是指，在由再现中的记录再现层仅反射了一次的本来的再现光与由其他记录再现层反射了多次的杂散光(stray light)之间，彼此的光程一致而产生的现象。关于共焦串扰的产生原理，使用图15 图18进行说明。在如图15所示那样的多层光记录介质40中，为了进行再现或记录而会聚在LO记录再现层40d上的光束70因记录再现层的半透过性而分支成多个光束。在图16中示出如下现象从用于LO记录再现层40d 的记录再现的光束分支出的光束71由Ll记录再现层40c反射，并在L2记录再现层40b上聚焦，该反射光再次由Ll记录再现层40c反射而被检测出。在图17中示出如下现象从用于LO记录再现层40d的记录再现的光束分支出的光束72由L2记录再现层40b反射，并在光入射面40z上聚焦，该反射光再次由L2记录再现层40b反射而被检测出。该杂散光现象称为光入射面的内焦点光。在图18中示出如下现象从用于LO记录再现层40d的记录再现的光束分支出的光束73没有在其他记录再现层上聚焦，但依次由Ll记录再现层40c、L3记录再现层40a、L2记录再现层40b反射而被检测出。与光束70进行比较，作为杂散光的光束71 73的光量小，但由于以相等的光程和相等的光束直径入射到光检测器，所以由干涉产生的影响大，由光检测器接受到的光量因微小的层间厚度的变化而显著变动，难以检测稳定的信号。另一方面，关于杂散光，反射的次数越多，因成为各记录再现层的反射率之积，而光量越减少，因此，在实际应用上考虑三次的多面反射的杂散光即可。在这些图15 图18所示的现象中，例如，若设定Tl = T2，则光束70和光束71的光程与光束直径相一致，同时入射到光检测器(光电检测器)而被检测。同样，若设定T1+T2 =T3+TC，则光束70和光束72的光程和光束直径相一致，另外，若设定T3 = Tl，则光束70 和光束73的光程和光束直径相一致。因此，为了避免共焦串扰，通常采用使所有的层间距离不同的方法。非专利文献1 I. Ichimura et. al.，Appl. Opt.，45，1794-1803 (2006)非专利文献2 :K. Mishima et. Al. , Proc. of SPIE, 6282,628201 (2006) 0011进而，有时在各记录再现层上必须形成凹槽(grrove)/平台(land)等的循迹控制用的凹凸。此时，由于需要利用压模在各中间层上形成凹凸，所以容易在中间层的膜厚上产生误差。因此，若要预先考虑该成膜误差的影响来使各中间层的膜厚不同，则需要将膜厚差设定得大，所以存在使多层光记录介质的厚度越来越大的问题。
发明内容
本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种多层光记录介质，在使记录再现层多层化时，能够抑制由串扰引起的信号品质的恶化，并能够使多层光记录介质的设计简洁化，进而，能够使记录再现装置侧的记录再现控制简略化。通过本发明人的潜心研究、上述目的通过以下的手段来实现。即，用于达成上述目的的本发明为一种多层光记录介质，隔着中间层来层积至少8 层以上的记录再现层，该记录再现层能够通过照射光来再现信息，其特征在于，具有至少两组以上的记录再现层组，该记录再现层组由以层积顺序连续的多个所述记录再现层构成，并且在该记录再现层组中，层积状态的反射率从接近光入射面的外侧向远离该光入射面的里侧减少，在隔着所述中间层相邻的所述记录再现层组中，与在外侧的所述记录再现层组中位于最里侧的所述记录再现层的层积状态的反射率相比较，在里侧的所述记录再现层组中位于最外侧的所述记录再现层的层积状态的反射率更高。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，配置在相邻的所述记录再现层组之间的所述中间层的膜厚设定为，比隔着所述记录再现层在两侧相邻的其他中间层的膜厚更厚。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，所述中间层设定有多个膜厚，配置在相邻的所述记录再现层组之间的所述中间层的膜厚设定为所述多个膜厚中的最大膜厚。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，配置在所述记录再现层组内的所述中间层构成为在所述记录再现层组内具有大致相同的膜厚。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，隔着所述记录再现层，交替层积有具有第一膜厚的第一中间层和具有比所述第一膜厚更厚的第二膜厚的第二中间层。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，所述第二中间层配置在相邻的所述记录再现层组之间。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，具有3 组以上的所述记录再现层组，除了最外侧的所述记录再现层组以及最里侧的所述记录再现层组以外的剩余的所述记录再现层组具有偶数层的所述记录再现层。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，具有两组所述记录再现层组。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，至少一个所述记录再现层组具有4层以上的所述记录再现层。用于达成上述目的的多层光记录介质在上述发明的基础上，其特征在于，用于构成距光入射面侧最远的所述记录再现层组的所述记录再现层的数目在4层以下。根据本发明，在多层光记录介质中，能够抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。另外，还能够使记录再现装置侧的记录再现控制的简洁化。
图1是表示本发明第一实施方式的多层光记录介质和对该多层光记录介质进行记录再现的光读写头(optical pickup)的概略结构的图。图2是表示该多层光记录介质的层积结构的剖视图。图3是表示该多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。图4是表示该多层光记录介质的膜厚结构的图。图5是表示第二实施方式的多层光记录介质的膜厚结构的图。图6是表示该多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。图7是表示第三实施方式的多层光记录介质的膜厚结构的图。图8是表示该多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。图9是表示第四实施方式的多层光记录介质的膜厚结构的图。图10是表示该多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。图11是表示第五实施方式的多层光记录介质的膜厚结构的图。图12是表示本发明的实施例B的多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。图13是表示本发明的比较例A、以及实施例B的多层光记录介质的记录条件和再现信号品质的图表以及曲线图。 图14是表示本发明的比较例A、以及实施例B的多层光记录介质的LO记录再现层的记录信号波形的图。图15是表示多层光记录介质中的再现光和杂散光(stray light)的状态的图。图16是表示多层光记录介质中的再现光和杂散光的状态的图。图17是表示多层光记录介质中的再现光和杂散光的状态的图。图18是表示多层光记录介质中的再现光和杂散光的状态的图。图19是表示成为参考例的多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线图。图20是表示成为参考例的多层光记录介质的反射率和吸收率的图表以及曲线
5图。
具体实施例方式下面，参照附图对本发明的实施方式进行说明。在图1中示出第一实施方式的多层光记录介质10和在该多层光记录介质10的记录再现中使用的光读写头700的结构。光读写头700具有光学系统710。该光学系统710为对多层光记录介质10的记录再现层组14进行记录和再现的光学系统。从光源701出射的具有比较短的波长380 450nm(在此为405nm)的发散性的蓝色光束770，透过具有球面象差修正单元793的准直透镜753，并入射到偏振光束分离器752。入射到偏振光束分离器752的光束770透过偏振光束分离器752，进一步因透过四分之一波长板7M变换为圆偏振光后，由物镜756变换成会聚光束。该光束770会聚到在多层光记录介质10的内部形成的多个记录再现层组14中任一个记录再现层上。由偏振光束分离器752反射的光束770透过聚光透镜759变换成会聚光，并经由柱面透镜757入射到光检测器732。在透过柱面透镜757时，对光束770赋予像散。光检测器732具有未图示的四个受光部，分别输出与接受到的光量相应的电流信号。根据这些电流信号，能够生成基于像散法的聚焦误差(以下称为FE)信号、基于再现时所限定的推挽法的循轨误差(以下称为TE)信号、记录在多层光记录介质10上的信息的再现信号等。FE 信号以及TE信号被放大为所希望的电平以及进行相位补偿后，反馈供给至驱动器791以及 792，以实现聚焦控制以及循迹控制。在图2中放大表示该多层光记录介质10的剖面结构。该多层光记录介质10为外径约120mm、厚度约1. 2mm的圆盘形状，并具有8层以上的记录再现层。该多层光记录介质10从光入射面IOA侧起具有保护层11、第二记录再现层组13B、第一记录再现层组13A以及中间层组16、支撑基板12。在支撑基板12上设置有轨道间距为0. 32um的凹槽。此外，作为支撑基板12的材料，能够使用各种材料，例如，能够利用玻璃、陶瓷、树脂。在它们之中，从容易成型的观点考虑，优选树脂。作为树脂，能够举出聚碳酸酯树脂、烯烃树脂、丙烯树脂、环氧树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、硅酮树脂、氟类树脂、ABS树脂、聚氨酯树脂等。在它们之中， 从加工性等角度考虑，特别优选聚碳酸酯树脂和烯烃树脂。此外，支撑基板12由于未成为光束770的光路，所以不需要具有高的光透过性。第一、第二记录再现层组13A、i;3B分别具有以层积顺序连续的多个记录再现层。 在各记录再现层组13A、13B内，关于所属于记录再现层组的记录再现层，从接近光入射面的外侧向远离光入射面的里侧，各记录再现层的层积状态的反射率(以下称为层积反射率)减少。具体地说，第一记录再现层组13A为具有LO L3记录再现层14A 14D的4层结构，第二记录再现层组13B为具有L4 L9记录再现层14E 14J的6层结构。因此，在第一记录再现层组13A中，最接近光入射面的L3记录再现层14D的层积反射率最高，LO记录再现层13A的层积反射率最低。同样，在第二记录再现层组13B中，最接近光入射面的L9 记录再现层14J的层积反射率最高，L4记录再现层14E的层积反射率最低。
另外，该第一记录再现层组13A和第二记录再现层组1 隔着中间层而相邻，关于该相邻的记录再现层组13A、13B，与在接近光入射面的外侧的第二记录再现层组13B中位于最里侧的L4记录再现层14E的层积反射率相比较，在里侧的第一记录再现层组13A中位于最外侧的L3记录再现层14D的层积反射率高。即，从光入射面侧依次考虑，从L9记录再现层14J至L4记录再现层14E，以层积顺序使层积反射率依次下降，但在L3记录再现层 14D，使层积反射率暂时转为增加，然后再次按层积顺序使层积反射率下降，直到LO记录再现层14A为止。作为用于实现如上述那样的层积反率的膜设计，LO L9记录再现层14A 14J， 对应于光学系统710中的蓝色波长区域的光束770，使单层状态的光反射率和吸收率等最优化。具体地说，如图3所示，关于位于远离光入射面一侧的第一记录再现层组13A，所属于第一记录再现层组13A的LO L3记录再现层14A 14D作为在单层状态下的反射率 (以下称为单层反射率)设定有第一单层反射率，作为在单层状态下的吸收率(以下称为单层吸收率)设定有第一单层吸收率。具体地说，第一单层反射率设定为1.9%，第一单层吸收率设定为6.5%。另外，关于位于接近光入射面侧的第二记录再现层组13B，所属于第二记录再现层组1 的L4 L9记录再现层14E 14J，设定有比第一单层反射率和第一单层吸收率小的第二单层反射率和第二单层吸收率。具体地说，第二单层反射率设定为1. 1%，第二单层吸收率设定为4. 5%。这样，在本实施方式中，第一记录再现层组13A的LO L3记录再现层 14A 14D设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率，另外，第二记录再现层组13B 的L4 L9记录再现层14E 14J设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率。其结果，第一记录再现层组13A、第二记录再现层组1 都从光入射面侧起，使层积反射率减少。 另外，与第二记录再现层组13B相比较，第一记录再现层组13A的单层反射率高，所以与L4 记录再现层14E的层积反射率相比较，L3记录再现层14D的层积反射率变高。采用该膜设计的结果，LO L3记录再现层14A 14D能够以彼此几乎相同的膜材料以及膜厚形成，另外，L4 L9记录再现层14E 14J能够以彼此几乎相同的膜材料以及膜厚形成。由此，能够大幅削减制造成本。此外，LO L9记录再现层14A 14J分别为在写一次型记录膜的两外侧层积了电介质膜等的3 5层结构(省略图示)。各记录再现层的电介质膜等除了具有保护写一次型记录膜这样的基本功能外，还具有扩大形成记录标记前后的光学特性的差异或提高记录灵敏度的作用。此外，在本实施方式中，例示了具有两组记录再现层组的结构，该两组记录再现层组分别具有连续的记录再现层，且从光入射面侧开始使层积反射率依次下降，但是，具有至少两组以上即可，优选具有3组以上。此外，在照射光束770的情况下，若被电介质膜吸收的能量大，则记录灵敏度容易下降。因此，为了防止它，作为这些电介质膜的材料，最好选择在380nm 450nm(特别是 405nm)的波长区域具有低的吸收系数(k)的材料。此外，在本实施方式中，作为电介质膜的材料，使用TiO2。被电介质膜夹持的写一次型记录膜是形成不可逆的记录标记的膜，形成有记录标记的部分和除此以外的部分(空白区域)，对光束770的反射率显著不同。其结果，能够进行数据的记录和再现。写一次型记录膜以含有Bi以及0的材料为主要成分而形成。该写一次型记录膜作为无机反应膜发挥功能，反射率因由激光的热而产生的化学上或者物理上的变化而显著不同。作为具体的材料，优选以Bi-O为主要成分或者以Bi-M-O(其中，M为Mg、Ca、Y、Dy、 Ce、Tb、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Mo、W、Mn、Fe、Zn、Al、In、Si、Ge、Sn、Sb、Li、Na、K、Sr、Ba、Sc、La、 Nd、Sm、Gd、Ho、Cr、Co、Ni、Cu、Ga、Pb中选择的至少一种元素)为主要成分。此外，在本实施方式中，作为写一次型记录膜的材料，使用Bi-Ge-0。此外，在此示出了在LO L9记录再现层14A 14J中采用写一次型记录膜的情况，但是，也能够采用反复记录的相变记录膜。此时的相变记录膜优选为SbTeGe。如图4所示，中间层组16从远离光入射面IOA —侧开始依次具有第一 第九中间层16A 161。这些第一 第九中间层16A 161层积在LO L9记录再现层14A 14J之间。各中间层16A 161由丙烯类或环氧类紫外线固化型树脂构成。该中间层16A 161 的膜厚交替设定有10 μ m以上的第一距离Tl和比该第一距离大3 μ m以上的第二距离T2。 具体地说，第一距离Tl和第二距离T2优选具有3 μ m 5 μ m的差，更优选具有4 μ m以上的差。在该多层光记录介质10中，第一距离Tl为12 μ m,第二距离T2为16 μ m,从里侧开始依次为，第一中间层16A为12 μ m，第二中间层16B为16 μ m，第三中间层16C为12 μ m， 第四中间层16D为16μπι，第五中间层16Ε为12μπι，第六中间层16F为16 μ m，第七中间层16G为12 μ m，第八中间层16H为16 μ m，第九中间层161为12μπι。也就是说，两种膜厚 (16μπι、12μπι)的中间层交替层积。详细在后面叙述，但若这样设置，能够使层间串扰以及共焦串扰都降低。特别是在本实施方式中，位于第一记录再现层组13Α和第二记录再现层组1 之间的第四中间层16D设定为厚的膜厚的第二距离T2 (16 μ m)。因此，该第四中间层16D设定得比隔着L3记录再现层14D相邻的第二中间层16C和隔着L4记录再现层14E相邻的第五中间层16E的膜厚更厚。如已经叙述那样，在第一记录再现层组13A和第二记录再现层组1 之间相邻的 L3记录再现层14D和L4记录再现层14E之间，里侧的L3记录再现层14D层积反射率高(逆转)。因此，在对外侧的L4记录再现层14E进行再现时，由里侧的L3记录再现层14D反射的光容易漏入到再现光。因此，通过使位于第一记录再现层组13A和第二记录再现层组13B 之间的第四中间层16D的膜厚变大，从而能够降低层间串扰。保护层11与中间层组16同样，由光透过性的丙烯类的紫外线固化型树脂构成，并设定膜厚为50 μ m。接着，对该多层光记录介质10的制造方法进行说明。首先，通过使用了金属压模的聚碳酸酯树脂的射出成型法，制作形成有凹槽以及平台的支撑基板12。此外，支撑基板 12的制作不限于射出成型法，也可以通过2P法或其他方法制作。然后，在支撑基板12中的设置有凹槽以及平台的一侧表面上形成LO记录再现层 14A。具体地说，按电介质膜、写一次型记录膜、电介质膜的顺序使用气相生长法形成。优选使用溅射法。然后，在LO记录再现层14A之上形成第一中间层16A。第一中间层16A 如下形成，通过旋涂法等覆盖调整了粘度的紫外线固化型树脂，然后，向该紫外线固化性树脂照射紫外线进行固化。重复该顺序，从而依次层积Ll记录再现层14B、第二中间层16B、 L2记录再现层14C、第三中间层16C···。直至L9记录再现层14J完成后，在L9记录再现层14J上形成保护层11，从而完成多层光记录介质10。此外，保护层11如下形成，例如通过旋涂法等覆盖调整了粘度的丙烯类或环氧类的紫外线固化型树脂，然后对其照射紫外线进行固化。此外，在本实施方式中， 说明了上述制造方法，但本发明并不限于上述制造方法，也能够采用其他的制造技术。接着，对该多层光记录介质10的作用进行说明。该多层光记录介质10具有第一、第二记录再现层组13A、13B，各自的记录再现层的层积反射率从接近光入射面的外侧向里侧减少。进而，关于该第一、第二记录再现层组 13AU3B,与在第二记录再现层组13B中位于最里侧的L4记录再现层14E的层积反射率相比，在里侧的第一记录再现层组13A中位于最外侧的L3记录再现层14D的层积反射率变
尚ο通过这样，在各记录再现层组13A、13B中，各记录再现层的层积反射率向里侧依次降低，因此在特定的记录再现层的再现中，能够抑制与其在里侧相邻的记录再现层的反射光漏入到再现光。其结果，由于能够减小中间层的厚度，所以能够增大记录再现层组13A、 13B内的记录再现层的叠层数。另一方面，如图19的参考例所示，若要对全部LO L9记录再现层14A 14J从光入射面侧开始依次使层积反射率减少，则最接近光入射面的L9记录再现层14J和距光入射面最远的LO记录再现层14A的层积反射率之差过大，难以使叠层数增大。另外，例如，如图20的参考例所示，若要对所有的LO L9记录再现层14A 14J， 使层积反射率彼此近似，则需要凌乱地设定LO L9记录再现层14A 14J的单层反射率和吸收率，使制造工序极其复杂化。结果，容易受到制造误差的影响，需要具有包含误差的余量的设计，难以使叠层数增大。因此，在本实施方式中，使LO L9记录再现层14A 14J分组化为多个记录再现组13A、13B，在各记录再现层组13A、13B内，从接近光入射面的外侧向里侧使层积反射率依次降低，但关于在记录再现层组13A、13B的边界相邻的L4记录再现层14E和L3记录再现层14D，里侧的L3记录再现层14D的层积反射率变高。结果，在第一记录再现层组13A中， 以层积反射率设定得高的L3记录再现层14D为基准，向里侧使层积反射率依次降低，所以能够减小最接近光入射面的L9记录再现层14J和距光入射面最远的LO记录再现层14A之间的层积反射率的差。具体地说，关于所有的LO L9记录再现层14A 14J，其中最大的层积反射率在最小的层积反射率的5倍以内。优选在4倍以内，期望在3倍以内。在此，虽然实际上层积了 10层，但小于3倍0.5倍以下)。另外，通过采用该层积结构，在各记录再现层组13A、13B内，能够层积具有相同的膜材料以及膜厚的记录再现层，所以无需对每个记录再现层设置各不相同的成膜条件，能够大幅减轻设计负担、制造负担。另外，在各记录再现层组13A、13B内，由于层积实质上相同的记录再现层，所以能够减小记录再现装置侧的记录再现条件的偏差，能够使记录再现控制(记录策略)简洁化。顺便说一下，若使单层反射率和单层吸收率不同的各种记录再现层复杂地重合，则由于必须凭经验找到最佳的记录再现控制，所以伴有相当的困难。另外，层积反射率逆转的L4记录再现层14E和L3记录再现层14D之间，容易如上述那样产生层间串扰，但是在本实施方式中，位于第一记录再现群13A和第二记录再现层组13B之间的第四中间层16D设定为两种膜厚的中间层中的厚的中间层即16μπι。因此，利用第四中间层16D的膜厚也能够抑制层间串扰。进而，在该多层光记录介质10中，具有第一膜厚(12μπι)的中间层和具有比第一膜厚更厚的第二膜厚(16 μ m)的中间层隔着记录再现层14A 14J交替层积。另外，若利用如图15 图18所示那样的共焦串扰现象进行说明，则例如与光束70 相比较，通常作为多面反射光的光束71 73的光量小，但是由于以相等的光程和相等的光束直径入射到光检测器，所以由干涉产生的影响比较大。因此，由光检测器接受的光量因微小的层间厚度的变化而显著变动，所以难以检测稳定的信号。接着，对该多层光记录介质10的设计方法进行说明。在多层光记录介质10中，交替使用两种膜厚的中间层，该两种膜厚在ΙΟμπι以上的范围。由此能够同时降低层间串扰和共焦串扰的影响。另外，利用该两种膜厚中的厚的中间层，还能够降低在第一记录再现层组13Α和第二记录再现层组1 的边界的层间串扰。因此，虽然考虑所属于各记录再现层组13A、13B的记录再现层的叠层数和中间层的数目，来交替配置两种中间层，但是位于记录再现层组13A、i;3B之间的中间层为膜厚厚的中间层。。对于接近光入射面侧的L4记录再现层14E L9记录再现层14J，通过使用相同结构的记录再现层，来提高便利性。对于远离光入射面侧的记录再现层14A L3记录再现层 14D，与外侧的6层相比较，单层反射率变高，但是该4层都使用相同结构的记录膜，能够提高便利性。在层积相同结构的记录再现层的情况下，当然，在所层积的状态下从各记录再现层向光检测器732返回的反射光量，与记录再现层的透过的平方成正比地从光入射面越向里侧单调减少，而且，到达各记录再现层的激光功率也与透过成正比地减少。对记录再现层组的分组化的例子进行说明。首先，对光入射面一侧的记录再现层设计特定的成膜条件(第二成膜条件)，从光入射面侧开始依次进行层积。该记录再现层的叠层数增加到满足特定条件为止，该特定条件是指，在向记录再现层照射具有不会引起再现恶化程度的再现功率的光时，从各记录再现层反射返回到光检测器732的反射光量， 接近由评价装置能够处理的极限值，或者接近在记录再现层上形成记录标记(记录层的变性)所需的激光功率的极限值(即，记录灵敏度的极限值)。并且，如果里侧的记录再现层达到这些反射光量和记录灵敏度的极限值，则首先将这些记录再现层作为记录再现层组进行分组化。在本实施方式中，将L9记录再现层14J L4记录再现层14E作为第二记录再现层组13B进行分组化。接着，进行相比第二记录再现层组1 在里侧层积的记录再现层的设计。如果保持与第二记录再现层组13B相同的成膜条件，就会超过上述反射光量和记录灵敏度的极限值。因此，为了不超过它，设计单层状态的反射率和吸收率变高的下一成膜条件(第一成膜条件)。将采用了该成膜条件的记录再现层向里侧依次层积。与上述第二记录再现层组 13B同样，记录再现层的叠层数能够增加到达到了评价装置能够处理的反射光量为止，或达到激光功率的极限值为止，或者达到成为目标的叠层数为止。如果达到上述目的，则将这些记录再现层作为记录再现层组进行分组化。在本实施方式中，将L3记录再现层14D LO记录再现层14A作为第一记录再现层组13A进行分组化。此外，在第一实施方式中，目标为 10层，所以分组化到第一记录再现层组13A即可。详细在后面叙述，但在以更多的叠层数为目标的情况下，确定单层的状态的反射率和吸收率变得更高那样的新的成膜条件，进一步向里侧层积，对新的记录再现层组进行分组化。其结果，若对记录再现层的材料结构发生切换的前后的记录再现层、例如L4记录再现层14E和L3记录再现层14D进行比较，则关于从各记录再现层返回到光检测器732的反射光量，相比L4记录再现层14E，L3记录再现层14D变高。另外，该反射光量之差与各记录再现层组13A、13B内的以相同的成膜条件构成的记录再现层彼此之间的差相比变大。 增大记录再现层的材料结构发生切换的前后的记录再现层的反射光量差，会导致在里侧的第一记录再现层组13A中，能够对多个记录再现层进行分组化。另一方面，在反射光量低的 L4记录再现层14E中，因从单层反射率以及向光检测器732的返回光量大的L3记录再现层 14D接受的层间杂散光，对信号品质和伺服特性的影响显著变大。因此，上述反射光量的差小于光入射面侧的第二记录再现层组13B内的最大层积反射率和最小层积反射率的差也很重要。另外，在本实施方式中，预先考虑到层间串扰，所以将两种中间层的膜厚内的厚的膜厚即16 μ m的中间层配置在L4记录再现层14E和L3记录再现层14D之间。接着，对本发明的第二实施方式的多层光记录介质110，参照图5以及图6进行说明。此外，对于在以下的说明中使用的构件的附图标记，通过使后两位与在第一实施方式的多层光记录介质的说明中使用的附图标记一致，从而省略剖面结构等的图示。该多层光记录介质110从光入射面的里侧开始依次层积16层记录再现层即LO L15记录再现层114A 114P。另外，在这些LO L15记录再现层114A 114P之间，层积第一 第十五中间层116A 1160。进而，该多层光记录介质110具有第一、第二记录再现层组113A、113B。第一、第二记录再现层组113A、li;3B分别具有以层积顺序连续的多个记录再现层，从接近光入射面的外侧向远离光入射面的里侧，各记录再现层的层积反射率减少。具体地说，第一记录再现层组113A为具有LO L4记录再现层114A 114E的5 层结构，第二记录再现层组113B为具有L5 L15记录再现层114F 114的11层结构。该第一记录再现层组113A和第二记录再现层组11 隔着中间层而相邻。关于该相邻的记录再现层组113A、113B，与在接近光入射面的外侧的第二记录再现层组11 中位于最里侧的L5记录再现层114F的层积反射率相比较，在里侧的第一记录再现层组113A中位于最外侧的L4记录再现层114E的层积反射率高。作为用于实现这种层积反射率的膜设计，所属于第一记录再现层组113A的LO L4记录再现层114A 114E作为在单层状态下的反射率(以下称为单层反射率)设定有第一单层反射率，作为在单层状态下的吸收率(以下称为单层吸收率)设定有第一单层吸收率。具体地说，第一单层反射率设定为1.5%，第一单层吸收率设定为6.9%。另外，关于接近光入射面侧的第二记录再现层组113B，所属于第二记录再现层组 113B的L5 L15记录再现层114F 114P设定有比第一单层反射率和第一单层吸收率小的第二单层反射率和第二单层吸收率。具体地说，第二单层反射率设定为0. 7%，第二单层吸收率设定为4.5%。这样，在本实施方式中，第一记录再现层组113A的LO L4记录再现层114A
11114E设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率，另外，第二记录再现层组11 的 L5 L15记录再现层114F 114P设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率。其结果，第一记录再现层组113A、第二记录再现层组11 都从光入射面侧依次使层积反射率下降。与第二记录再现层组113B相比较，第一记录再现层组113A的单层反射率高，所以与 L5记录再现层114F的层积反射率相比较，L4记录再现层114E的层积反射率变高。中间层116A 1160的膜厚交替设定有10 μ m以上的第一距离Tl (12 μ m)和比该第一距离大3μπι以上的第二距离Τ2(16μπι)。在该多层光记录介质110中，从里侧开始依次为，第一中间层116Α为16 μ m，第二中间层116B为12 μ m，第三中间层116C为16μπι，第四中间层116D为12 μ m，第五中间层116E为16 μ m，第六中间层116F为12 μ m、···，两种膜厚(16 μ m、12 μ m)的中间层交替层积。进而，在第二实施方式中，位于第一记录再现层组113A和第二记录再现层组11 之间的第五中间层116E设定为厚的膜厚的第二距离Τ2(16μπι)。因此，该第五中间层116Ε 设定为，比隔着L4记录再现层114Ε或者L5记录再现层114F在两侧相邻的第四中间层 116D、第六中间层116F的膜厚厚。如已经叙述那样，在L4记录再现层114Ε和L5记录再现层114F之间，由于里侧的L4记录再现层114Ε的层积反射率变高(逆转)，所以容易产生层间串扰。因此，增大位于L4记录再现层114Ε和L5记录再现层114F之间的第五中间层 116Ε的膜厚，来使层间串扰降低。在该第二实施方式中，最接近光入射面的L15记录再现层114Ρ和最远离光入射面的LO记录再现层114Α的层积反射率之差变小。具体地说，关于所有LO L15记录再现层 114Α 114Ρ，其中最大的层积反射率为最小的层积反射率的5倍以内。优选为4倍以内， 期望在3倍以内。实际上，虽然为16层结构，但小于4倍。另外，通过采用该层积结构，在各记录再现层组113Α、113Β内，能够层叠具有相同的膜材料以及膜厚的记录再现层，所以能够大幅减轻设计负担、制造负担。另外，由于在各记录再现层组113Α、113Β内，层积几乎相同特性的记录再现层，所以在记录再现装置侧也使记录再现条件的偏差变小，能够使记录再现控制简洁化。接着，针对本发明的第三实施方式的多层光记录介质210，参照图7以及图8进行说明。此外，对于在以下的说明中使用的构件的附图标记，使后两位与在第一实施方式的多层光记录介质的说明中使用的附图标记一致，从而省略剖面结构等图示。该多层光记录介质210从光入射面的里侧开始依次层积有20层记录再现层即 LO L19记录再现层214Α 214Τ。另外，在这些LO L19记录再现层214Α 214Τ之间层积有第一 第十九中间层216Α 216S。进而，该多层光记录介质210具有第一、第二记录再现层组213Α、213Β。第一、第二记录再现层组213Α、2 ;3Β分别具有以层积顺序连续的多个记录再现层。从接近光入射面的外侧向远离光入射面的里侧，各记录再现层的层积反射率减少。具体地说，第一记录再现层组213Α为具有LO L5记录再现层214Α 214F的6 层结构，第二记录再现层组21 为具有L6 L19记录再现层214G 214T的14层结构。该第一记录再现层组213A和第二记录再现层组21 隔着中间层而相邻。关于该相邻的记录再现层组213A、213B，与在接近光入射面的外侧的第二记录再现层组21 中位于最里侧的L6记录再现层214G的层积反射率相比较，在里侧的第一记录再现层组213A中位于最外侧的L5记录再现层214F的层积反射率高。作为用于实现该层积反射率的膜设计，所属于第一记录再现层组213A的LO L5 记录再现层214A 214F作为在单层状态下的反射率(以下称为单层反射率)设定有第一单层反射率，作为在单层状态下的吸收率(以下称为单层吸收率)设定有第一单层吸收率。 具体地说，第一单层反射率设定为1. 7 %，第一单层吸收率设定为6. 9%。另外，关于位于光入射面侧的第二记录再现层组213B，所属于第二记录再现层组 213B的L6 L19记录再现层214G 214T设定有比第一单层反射率和第一单层吸收率小的第二单层反射率和第二单层吸收率。具体地说，第二单层反射率设定为0. 7%，第二单层吸收率设定为3. 7%。这样，在本实施方式中，在第一、第二记录再现层组213A、2i;3B的各组内，设定为大致相同的单层反射率和单层吸收率。其结果，第一记录再现层组213A、第二记录再现层组21 都从光入射面侧开始依次使层积反射率下降。另外，与第二记录再现层组 213B相比较，第一记录再现层组213A的单层反射率高，所以与L6记录再现层214G的层积反射率相比较，L5记录再现层214F的层积反射率变高。中间层216A 216S的膜厚交替设定有10 μ m以上的第一距离Tl (12 μ m)和比该第一距离大3 μ m以上的第二距离T2 (16 μ m)。在该多层光记录介质210中，从里侧开始依次为，第一中间层216A为12 μ m，第二中间层216B为16 μ m，第三中间层216C为12μπι，第四中间层216D为16μm，第五中间层216E为12 μ m，第六中间层216F为16 μ m、···，两种膜厚(16 μ m、12 μ m)的中间层交替层积。进而，在第三实施方式中，位于第一记录再现层组213A和第二记录再现层组21 之间的第六中间层216F设定为厚的膜厚的第二距离Τ2(16μ m)，如已经叙述那样，L5记录再现层214F和L6记录再现层214G之间，里侧的L5记录再现层214F的层积反射率变高 (逆转)，所以容易产生层间串扰。因此，通过增大位于L5记录再现层214F和L6记录再现层214G之间的第六中间层216F的膜厚，来降低层间串扰。在第三实施方式中，能够减小最接近光入射面侧的L19记录再现层214T和距光入射面最远的LO记录再现层214A的层积反射率之差。具体地说，对于所有LO L19记录再现层214A 214T，其中最大的层积反射率为最小的层积反射率的5倍以内。优选在4倍以内，期望在3倍以内。实际上，虽然为20层结构，但小于4倍。另外，通过采用该层积结构，从而在各记录再现层组213A、213B内，由于层积具有相同的膜材料以及膜厚的记录再现层，所以能够大幅减轻设计负担、制造负担。另外，在各记录再现层组213A、213B内，层积大致同样的记录再现层，所以在记录再现装置侧也使记录再现条件的偏差变小，能够使记录再现控制简洁化。接着，针对本发明的第四实施方式的多层光记录介质310，参照图9以及图10进行说明。此外，对于在以下的说明中使用的构件的附图标记，使后两位与在第一实施方式的多层光记录介质的说明中使用的附图标记一致，从而省略剖面结构等的图示。该多层光记录介质310从光入射面的里侧开始依次层积20层记录再现层即LO L19记录再现层314A 314T。另外，在这些LO L19记录再现层314A 314T之间，层积有第一 第十九中间层316A 316S。进而，该多层光记录介质310具有第一、第二、第三记录再现层组313A、313B、 313C。第一 第三记录再现层组313A 313C分别具有以层积顺序连续的多个记录再现层，从接近光入射面的外侧向远离光入射面的里侧，使各记录再现层的层积反射率减少。具体地说，第一记录再现层组313A为具有LO L3记录再现层314A 314D的4 层结构，第二记录再现层组31 为具有L4 L9记录再现层314E 314J的6层结构，第三记录再现层组313C为具有LlO L19记录再现层314K 314T的10层结构。该第一记录再现层组313A和第二记录再现层组31 隔着第四中间层316D而相邻。关于该相邻的记录再现层组313A、313B，与接近光入射面的外侧的第二记录再现层组 313B中位于最里侧的L4记录再现层314E的层积反射率相比较，在里侧的第一记录再现层组313A中位于最外侧的L3记录再现层314D的层积反射率高。另外，第二记录再现层组 313B和第三记录再现层组313C隔着第十中间层316J而相邻，关于该相邻的记录再现层组 3i;3B、313C，与在接近光入射面的外侧的第三记录再现层组313C中位于最里侧的LlO记录再现层314K的层积反射率相比较，在里侧的第二记录再现层组31 中位于最外侧的L9记录再现层314J的层积反射率高。此外，作用用于实现这种层积反射率的膜设计，所属于第一记录再现层组313A的 LO L3记录再现层314A 314D作为在单层状态下的反射率(以下称为单层反射率)设定有第一单层反射率，作为在单层状态下的吸收率(以下称为单层吸收率)有设定有第一单层吸收率。具体地说，第一单层反射率设定为1.6%，第一单层吸收率设定为6.9%。另夕卜，关于第二记录再现层组313B，所属于第二记录再现层组31 的L4 L9记录再现层 314E 314J，设定有比第一单层反射率和第一单层吸收率小的第二单层反射率和第二单层吸收率。具体地说，第二单层反射率设定为0.9%，第二单层吸收率设定为4.4%。进而，关于第三记录再现层组313C，所属于第三记录再现层组313C的LlO L19记录再现层 314K 314T，设定有比第二单层反射率和第二单层吸收率小的第三单层反射率和第三单层吸收率。具体地说，第三单层反射率设定为0. 5%，第三单层吸收率设定为3. 0%。这样，在本实施方式中，在各第一 第三记录再现层组313A 313C的组内设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率。其结果，在各记录再现层组313A 313C内，从光入射面侧开始使层积反射率依次降低。另外，与第三记录再现层组313C相比较，第二记录再现层组31 的单层反射率设定得高，而且，与第二记录再现层组31 相比较，第一记录再现层组313A的单层反射率设定得高，所以在记录再现层组313A 313C的边界部分，与外侧的层积反射率相比较，里侧的层积反射率高。另外，中间层316A 316S的膜厚交替设定有10 μ m以上的第一距离Tl (12 μ m)和比该第一距离大3 μ m以上的第二距离T2 (16 μ m)。在该多层光记录介质310中，从里侧开始依次为，第一中间层316A为12 4 111，第二中间层3168为16 μ m，第三中间层316C为12 μ m， 第四中间层316D为16μm，第五中间层316E为12 μ m，第六中间层316F为16 μ m、···，两种膜厚(16 μ m、12 μ m)的中间层交替层积。进而，在本实施方式中，位于第一记录再现层组313A和第二记录再现层组31 之间的第四中间层316D设定为厚的膜厚的第二距离Τ2(16μπι)。另外，位于第二记录再现层组31 和第三记录再现层组313C之间的第十中间层316J也设定为厚的膜厚的第二距离 T2 (16 μ m)。为了实现它，优选除了位于最里侧的第一记录再现层组313A和最接近外侧的第三记录再现层组313C外，位于中间的第二记录再现层组31 的叠层数为偶数(在本实施方式中为6层)。如已经叙述那样，在L3记录再现层314D和L4记录再现层314E之间，里侧的L3记录再现层314D的层积反射率变高(逆转)，所以容易产生层间串扰。同样，在L9记录再现层314J和LlO记录再现层314K之间，里侧的L9记录再现层314J的层积反射率变高(逆转)，所以容易产生层间串扰。因此，通过增大位于L3记录再现层314D和L4记录再现层 314E之间的第四中间层316D和位于L9记录再现层314J和LlO记录再现层314K之间的第十中间层316J的膜厚，能够积极地降低层间串扰。特别在实施方式中，虽然层积了 20层，但能够减小最接近光入射面的L19记录再现层314T和最远离光入射面的LO记录再现层314A的层积反射率之差。具体地说，关于所有的LO L19记录再现层314A 314T，其中最大的层积反射率为最小的层积反射率的5 倍以内。优选在4倍以内，期望在3倍以内。特别是由于使记录再现层组为三组，所以虽然为20层结构，但小于3倍。另外，通过采用该层积结构，在各记录再现层组313A、313B、313C内，由于层积具有相同的膜材料以及膜厚的记录再现层，所以能够大幅减轻设计负担、制造负担。另外，由于在各记录再现层组313A、313B、313C内层积大致同样的记录再现层，所以在记录再现装置侧也使记录再现条件的偏差变小，能够使记录再现控制简洁化。接着，针对本发明的第五实施方式的多层光记录介质410，参照图11进行说明。此夕卜，对于在以下的说明中使用的构件的附图标记，使后两位与在第一实施方式的多层光记录介质的说明中使用的附图标记一致，从而省略剖面结构等的图示。该多层光记录介质410从光入射面的里侧开始依次层积16层记录再现层即LO L15记录再现层414A 414P。另外，在这些LO L15记录再现层414A 414P之间，层积有第一 第十五中间层416A 4160。进而，该多层光记录介质410具有第一、第二记录再现层组413A、413B。第一、第二记录再现层组413A、4i;3B分别具有以层积顺序连续的多个记录再现层，从接近光入射面的外侧向远离光入射面的里侧，使各记录再现层的层积反射率减少。具体地说，第一记录再现层组413A为具有LO L4记录再现层414A 414E的5 层结构，第二记录再现层组41 为具有L5 L15记录再现层414F 414P的11层结构。该第一记录再现层组413A和第二记录再现层组41 隔着中间层而相邻，但关于该相邻的记录再现层组413A、413B，与在接近光入射面的外侧的第二记录再现层组41 中位于最里侧的L5记录再现层414F的层积反射率相比较，在里侧的记录再现层组413A中位于最外侧的L4记录再现层414E的层积反射率高。此外，虽然没有特别图示，但是作为用于实现这种层积反射率的膜设计，所属于第一记录再现层组413A的LO L4记录再现层 414A 414E的单层反射率设定为1. 5%，单层吸收率设定为6. 9%。另外，关于位于接近光入射面侧的第二记录再现层组413B，所属于第二记录再现层组41 的L5 L15记录再现层414F 414P的单层反射率设定为0. 7%，单层吸收率设定为4. 5%。这样，在本实施方式中，第一记录再现层组413A的LO L4记录再现层414A 414E设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率，另外，第二记录再现层组41 的 L5 L15记录再现层414F 414P设定为彼此大致相同的单层反射率和单层吸收率。其结果，第一记录再现层组413A、第二记录再现层组41 都从光入射面侧开始依次使层积反射
15率下降。与第二记录再现层组41 相比较，第一记录再现层组413A的单层反射率高，所以与L5记录再现层414F的层积反射率相比较，L4记录再现层414E的层积反射率高。中间层416A 4160的膜厚采用IOym以上的第一距离Tl (12 μ m)和比该第一距离大3 μ m以上的第二距离T2 (16 μ m)。特别在该多层光记录介质410中，仅是位于第一记录再现层组413A和第二记录再现层组41 之间的第五中间层416E，设定为厚的膜厚的第二距离T2 (16 μ m)。其他中间层的膜厚设定为第一距离Tl (12 μ m)。即，各记录再现层组413A、4i;3B的内部的中间层的膜厚全部统一为12 μ m。结果，第五中间层416E的膜厚设定得大于隔着L4记录再现层414E或者L5记录再现层414F在两侧相邻的第四中间层416D以及第六中间层416F。如已经叙述那样，在L4 记录再现层414E和L5记录再现层414F之间，由于里侧的L4记录再现层414E的层积反射率变高(逆转)，所以容易发生层间串扰。因此，通过增大位于L4记录再现层414E和L5记录再现层414F之间的第五中间层416E的膜厚，来使层间串扰降低。〈实施例以及比较例〉关于第一实施方式的多层光记录介质10 (管理记号B/2Block型)，使构成外侧6 层的记录膜在单层状态下的反射率为0. 7%，吸收率为4. 5%，使构成里侧4层的记录膜在单层状态下的反射率为1.4%，吸收率为6.5%，以此来进行制造。在图12中示出该实施例的多层光记录介质的层积反射率、层积吸收率的状态。对于该多层光记录介质10，使用光读写头90 —边控制记录功率一边记录信息，对其再现光进行了评价。另一方面，对于作为比较例的多层光记录介质(管理记号A/Normal型)，如以往那样，以层积状态下的返回到光检测器732的反射光量和到达各记录再现层的激光功率在各记录再现层几乎同样的方式，来设计各记录再现层。此外，该比较例的层积反射率、层积吸收率的状态设定为与图M所示的相同，中间层的结构与上述实施例相同。此外，作为光读写头90的记录功率条件，在实施例中，在各记录再现层组13A、13B 内，控制为从外侧越向里侧，越使记录功率增加。另一方面，从第二记录再现层组13B向第一记录再现层组13A切换时，使记录功率减少。具体地说，关于第二记录再现层组13B，以最接近光入射面的L9记录再现层14J的记录功率设定为22. OmW，最里侧的L4记录再现层 14E为30. Omff的方式，依次使记录功率增加。另一方面，在第一记录再现层组13A中，以最接近光入射面的L3记录再现层14D设定为比L4记录再现层14E的记录功率小的22. 5mff, 最里侧的LO记录再现层14A为30. Omff的方式，依次使记录功率增加。即，记录功率的关系与记录再现层组14的层积反射率相反。另外，记录信号的线密度为25GB，记录速度为 BDlX (36Mbps)。此外，在比较例的多层光记录介质中，与各记录再现层的特性相配合，适当控制为大致相同的记录功率。在图13中示出在实施例和比较例以相同的再现功率3. OmW对这样记录的信号进行再现时的再现信号的评价结果。从该结果可知，得到在实施例的多层光记录介质10和比较例的多层光记录介质中，关于Jitter (抖动率)能够得到毫无逊色的结果。特别可知，位于各记录再现层组13A、 13B的边界的L4记录再现层14E和L3记录再现层14D也能够得到耐得住实用的信号品质。特别是关于L4记录再现层14E，如在设计方法中说明那样，实质上使层积反射率下降到接近可评价的下限为止，所以反射光量少。尽管如此，但聚焦、循迹伺服稳定，包含Jitter在内的信号特性与其他记录再现层相比较也没有出现大幅恶化。另外可知，关于光入射面的里侧的记录再现层组(L0 L3记录再现层14A 14D)，相比比较例，实施例的信号品质变得良好。接着，关于该实施例和比较例，针对共焦串扰的影响最显著的最里侧的LO记录再现层14A，在图14中示出记录了 1周(圈)时的信号照片。在比较例的照片(A-LO)中，观测到在1周的记录信号中由共焦串扰引起的反射率的变动显著。因此，从图13的曲线图也可知，在比较例中LO记录再现层的Jitter特性恶化。另一方面，从实施例的照片(B-LO)可知，在LO记录再现层14A大幅抑制如在比较例观测到那样的反射率变动。特别从图13的曲线图也可知，虽然向光检测器732的反射光量小，但以相同的再现功率，Jitter特性得以改善。以上，在本实施方式中，说明了记录再现层为10 20层，并由相同特性的记录再现层构成的记录再现层组为2 3组的情况，但本发明并不限于此。在记录再现层为8层以上的情况下，通过应用本发明，能够大幅减轻设计负担。此时，至少一个记录再现层组(特别是最接近光入射面的记录再现层组)具有4层以上的记录再现层，而能够使叠层数增大。 另外，关于至少两个记录再现层组(特别是最接近光入射面的记录再现层组和第二接近光入射面的记录再现层组)，都优选具有3层以上的记录再现层。另外，在本发明中，只要评价机的限制、例如球面象差补正范围、激光功率等允许， 就能够增加记录再现层的叠层数，进而，根据评价机上的限制，也能够使记录再现层组的数目增加到4组以上。进而，在本实施方式中，示出了采用两种膜厚的中间层的情况，但本发明并不限于此，只要适当设定中间层的厚度即可。例如，只要反射率变动的影响在评价机允许的范围， 也可以在记录再现层组内不交替设置而使中间层的膜厚相同(参照第五实施方式)。在该情况下，为了降低切换位置的层间杂散光的影响，期望仅在记录再现层组切换的位置将中间层的膜厚设定得大。进而，在作为中间层设定有多个膜厚的情况下，优选将其中的最大的膜厚设定为配置在记录再现层组之间的中间层的膜厚。此外，已经在第四实施方式进行了说明，但在交替配置两种膜厚的中间层的情况下，在构成三组以上的记录再现层组时，就在第二接近入射面侧的记录再现层组和位于其之后的记录再现层组中至少除了最远离入射面侧的记录再现层组以外的各记录再现层组而言，各自的记录再现层数优选为偶数层。这样，能够使记录再现层组被切换的中间层的膜厚总是为厚的膜厚。此外，本发明的多层光记录介质并不限于上述的实施方式，在不脱离本发明的宗旨的范围内，能够进行各种变更。本发明的多层光记录介质能够应用于各种规格的光记录介质。
权利要求
1.一种多层光记录介质，隔着中间层来层积至少8层以上的记录再现层，该记录再现层能够通过照射光来再现信息，其特征在于，具有至少两组以上的记录再现层组，该记录再现层组由以层积顺序连续的多个所述记录再现层构成，并且在该记录再现层组中，层积状态的反射率从接近光入射面的外侧向远离该光入射面的里侧减少，在隔着所述中间层相邻的所述记录再现层组中，与在外侧的所述记录再现层组中位于最里侧的所述记录再现层的层积状态的反射率相比较，在里侧的所述记录再现层组中位于最外侧的所述记录再现层的层积状态的反射率更高。
2.如权利要求1所述的多层光记录介质，其特征在于，配置在相邻的所述记录再现层组之间的所述中间层的膜厚设定为，比隔着所述记录再现层在两侧相邻的其他中间层的膜厚更厚。
3.如权利要求1或2所述的多层光记录介质，其特征在于， 所述中间层设定有多个膜厚，配置在相邻的所述记录再现层组之间的所述中间层的膜厚设定为所述多个膜厚中的最大膜厚。
4.如权利要求1至3中任一项所述的多层光记录介质，其特征在于，配置在所述记录再现层组内的所述中间层构成为在所述记录再现层组内具有大致相同的膜厚。
5.如权利要求1至4中任一项所述的多层光记录介质，其特征在于，隔着所述记录再现层，交替层积有具有第一膜厚的第一中间层和具有比所述第一膜厚更厚的第二膜厚的第二中间层。
6.如权利要求5所述的多层光记录介质，其特征在于， 所述第二中间层配置在相邻的所述记录再现层组之间。
7.如权利要求1至6中任一项所述的多层光记录介质，其特征在于， 具有3组以上的所述记录再现层组，除了最外侧的所述记录再现层组以及最里侧的所述记录再现层组以外的剩余的所述记录再现层组具有偶数层的所述记录再现层。
8.如权利要求1至6中任一项所述的多层光记录介质，其特征在于， 具有两组所述记录再现层组。
9.如权利要求1至8中任一项所述的多层光记录介质，其特征在于， 至少一个所述记录再现层组具有4层以上的所述记录再现层。
10.如权利要求1至9中任一项所述的多层光记录介质，其特征在于，用于构成距光入射面侧最远的所述记录再现层组的所述记录再现层的数目在4层以下。
全文摘要
本发明提供一种多层光记录介质，抑制层间串扰和共焦串扰，并使多层光记录介质的设计简洁化。另外，还实现记录再现装置侧的记录再现控制的简洁化。在层积8层以上的记录再现层的多层光记录介质中，具有至少2组以上的记录再现层组(13A、13B)。各记录再现层组(13A、13B)由以层积顺序连续的多个记录再现层构成，层积状态的反射率从接近光入射面的外侧向远离该光入射面的里侧减少。另外，在相邻的记录再现层组(13A、13B)中，与在光入射面侧的记录再现层组(13B)中位于最里侧的记录再现层(14E)的层积状态的反射率相比较，在里侧的记录再现层组(13A)中位于最外侧的记录再现层(14D)的层积状态的反射率高。
文档编号G11B7/242GK102456369SQ201110328418
公开日2012年5月16日 申请日期2011年10月21日 优先权日2010年10月21日
发明者丑田智树, 井上素宏, 小须田敦子, 平田秀树, 菊川隆 申请人:Tdk股份有限公司