专利名称：使用多个扫描点的光学扫描装置的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种用于对记录载体中具有磁迹结构的信息平面进行光学扫描的装置，所述装置包含提供多个扫描光束的多路辐射源，用于将每一扫描光束聚焦到该信息平面上成一独立扫描点的物镜系统，以及用于将来自信息平面的辐射转换为电信号的对辐射灵敏的检测系统，所述电信号包含关于该信息平面扫描部分、相对于扫描磁迹的扫描点位置以及相对于该信息平面扫描光束聚焦程度的信息。
扫描信息平面被理解为指从预先记录的信息平面中读出信息和为将信息写入这样的信息平面而进行扫描。关于信息平面扫描部分的信息可包含从预记录磁迹读出的信号和(或)例如预记录在信息仍可写入的信息平面中的地址和时钟信息。
在第一段中所描述的那种装置从例如美国专利第4，298，974号中已知。该已知装置包含一排二极管激光器，在信息平面中由物镜成象为独立扫描光点。第一扫描光点用来写入信息，第二扫描光点用来读出信息和得到聚焦误差信号。这两个辐射光点位于信息平面中与局部磁迹方向成锐角延伸的线上。相对于正被读出的磁迹中心线的该读出点的中心位置借助于位于这个读出点两侧的两个辅助辐射光点确定。在美国专利第4，298，974号的说明书中注意到当使用多个写入光点时能同时写入多个磁迹。
借助多个扫描光点在信息平面内同时写入和读出相应数量的磁迹，在希望高速写入和读出时特别重要，例如，在对数字视频信息或所谓高清晰度视频信号使用光记录载体作为存储媒体的场合。在使用多个辐射光点的已知装置中，聚焦和跟踪总是相对于信息平面中一个位置确定。对该记录载体和用作为多路辐射源的所述一排二极管激光器或光纤必须有若干严格要求。该记录载体决不能斜置且必须非常平坦。并且，必须以这种方法提供记录载体，即其表面的划痕和类似物不影响生成的误差信号。与光学系统一起的多路辐射源必须相对于记录载体以这种方式调整，即使扫描光点所在直线与信息平面中磁迹方向所成角度很精确地固定。
本发明为其目的必须提供一种使用多个扫描光点以降低上述要求扫描装置，其中能进行比在已知装置中更大范围的控制。根据本发明的装置其特征在于与独立扫描光束相关的检测系统中多个检测器的每一个都适合提供含有关于相对于扫描磁迹的有关扫描光点位置和(或)相对于该信息平面的有关扫描光束聚焦信息的电信号。
既然用在第一例子中对许多信息磁迹进行读出和(或)写入的多个扫描光点也用于为聚焦和(或)跟踪的目的对信息平面多个位置产生伺服信号，则需有效利用可获得的辐射能量。
根据本发明装置的又一特征，扫描光点沿第一直线排列。
根据本发明具有许多扫描光点的装置其特征还在于扫描光点沿多条直线排列。
从而可达到所有扫描光点位于该物镜系统衍射极限区域内并有好的质量。
使用一行扫描光点装置的第一实施例其特征在于与该行外侧扫描光点有关的检测器适合于提供包含关于相对于该信息平面的有关扫描光束的聚焦程度的信息的信号。
如果该行扫描光点只与该磁迹方向成一小角度延伸，相对于该装置光轴在记录载体的磁迹方向的倾斜可从外侧扫描光束聚焦误差信号间的差异中确定。该倾斜信号不但用于校正该倾斜而且用于所谓前馈聚焦控制。
这种装置的特征在于辐射源提供在信息平面上形成第二组扫描光点的第二组扫描光束，这些光点沿横交第一扫描光点直线的第二直线排列，其特征还在于检测系统中的第二组检测器与第二组扫描光束有关，多个所述检测器适合于提供聚焦误差信号。
然后可得到其方向垂直于磁迹方向的第二倾斜信号，从而实现记录载体倾斜的完全校正。
如果根据本发明的装置其特征还在于该检测系统的全部检测器适合于提供有关扫描光束的聚焦误差信号，则可通过将独立聚焦误差信号结合得到一个代表信息平面相当大部分上平均聚焦的新的聚焦误差信号。该聚焦误差信号对扫描光束通过其进入的记录载体基片表面上的灰尘粒子、手指印和类似物的灵敏度较低。具有最后提到的特征的装置，因此特别适合于扫描薄的例如带状记录载体。
使用多路聚焦误差检测的装置其特征还在于将产生象散的元件安置在由记录载体反射的辐射光路中，其特征还在于每个适合于提供聚焦误差信号的检测器包含一个四象限检测器。
一个四象限检测器包含四个独立检测元件，其中元件间的边界线与象散元件的象散焦线成45°角延伸。从每个参与聚焦误差检测的光束可获得所谓象散聚焦误差信号。对于一束光的象散聚焦误差检测在例如美国专利第4，023，033中有描述。
另外，使用多路聚焦误差检测的装置其特征还在于将用于从每一光束形成两束子光束的光束分裂元件安置在被记录载体反射的辐射光路中，其特征还在于每个适合于提供聚焦误差信号的检测器包含两对检测元件，每对与一束子光束相关。
根据本发明的其中一行扫描光点与局部磁迹方向成一小角度延伸的装置的第二实施例，其特征在于与位于该行中心两侧的两扫描光点有关的检测器适合于提供包含关于相对于有关磁迹中心线两扫描光点中每一光点中心位置的信息的信号。
通过确定由所述扫描光点(最好是该行外侧扫描光点)提供的跟踪误差信号间的差异，可获得代表该行扫描光点与局部磁迹方向间的角度误差的信号。该信号可用来将这个角度控制到希望值。该角度误差信号也可用于所谓前馈跟踪控制。
注意到从美国专利第4，074，085号已知一种其中三个扫描光点同时扫描三条磁迹从而相对于该扫描磁迹确定每一扫描光点位置的读写装置。通过使扫描光点横交该磁迹方向作轻微振荡运动或通过给这些磁迹本身这样的振荡变化，来获得跟踪误差信号。第一扫描光点的跟踪误差信号用来借助于安置在三扫描光束公共光路中的检流计镜同时调整三扫描光点的位置。第二和第三扫描光点的跟踪误差信号借助于位于第二和第三扫描光点的扫描光束各自光路中的辅助检流计镜调整这些扫描光点的每一个光点与第一辐射点间的距离。在根据本发明装置最后提到的实施例中通过借助一个可调元件使该行扫描光点与磁迹方向间的角度合适来提供较易的校正。
该装置的第二实施例其特征还在于该检测系统的所有检测器适合于提供包含关于相对于有关磁迹中心线有关扫描光点中心位置的信息的信号。
通过将独立跟踪误差信号结合可获得平均跟踪误差信号，该信号对记录载体的进入表面上的灰尘粒子、手指印和类似物灵敏度较低。
在根据本发明的装置中，同样的辐射光点和检测器可用于得到多路聚焦误信号和多路跟踪误差信号两者。
在使用扩展辐射源和包含一个安置在该多路辐射源和物镜系统间的准直透镜的装置中，为使从辐射源来的所有光束无渐晕地到达信息平面并在该平面上形成高质量辐射光点，该装置的特征最好在于包含准直透镜和物镜系统的透镜系统被作为双远心光路系统提供，其特征还在于准直透镜系统的数值孔径正比于该多路辐射源的范围。
下面参照附图对本发明进行更详细地说明。附图中
图1示出根据本发明装置的一个实施例;
图2a、2b和2c图示了怎样获得聚焦误差信号和跟踪误差信号;
图3、4、5、6、7示出使用根据本发明的装置的不同可能性;
图8示出使用聚焦误差检测第二可能性的装置的实施例;
图9示出沿两直线排列的一组扫描光点;
图10示出包含双远心光路透镜系统的装置的实施例。
图1是具有反射信息平面2的光记录载体1的部分横截面图。该平面包含许多例如因为它们位置高于或低于信息平面的其余部分而有不同于其周围光学性质的信息磁迹3、4、5、6。若干信息磁迹(在给定实施例中为4)被相等数量的扫描光束同时扫描，图1只示出其中一个。
由组合辐射源10提供扫描光束。该辐射源由若干传输来自相等数量的独立辐射源或来自作为独立光束的一个辐射源的辐射的光波导或光纤构成。如图1所示，辐射源10可另外为多路二极管激光器。例如在“应用光学”(Vol.23，No.22，1984年11月15日，第3994页至4000页)中所描述的这样的二极管激光器包含若干p和n型例如合成Al Ga As的半导体层，特别是其中如果有电流横穿过则发生激光作用的活性转变层11。激光辐射从前侧12发出。该活性层包含例如4个活性长条，这些长条被非活性中间长条相互隔离并由4个独立电流I1、I2、I3、I4控制。因此，有例如4束独立激光束从所述长条端面13、14、15、16射出。这些导出光束由准直透镜20转变为平行光束，再由信息平面2上的物镜21聚焦到分别位于磁迹3、4、5和6上的扫描点131、141、151、和161上。
为获得所希望的大信息密度，扫描光点必须小，例如它们必须有1μm量级的半值宽度，横交该磁迹方向的周期t也必须小，例如1.5μm。由于物理原因激光元件13、14、15和16的周期非常大，例如为90μm量级。尽管透镜系统20、21用数量级为例如1∶7的放大率使激光元件成象，但这对实现所希望的定位(每个扫描光点在有关磁迹中心)还不够充分。因此将该合成二极管激光器相对于记录载体以这样方式安置，即连接扫描光点中心的直线1以与该磁迹方向t成角度α延伸以致于在(横交磁迹方向的)r方向上该扫描光点间的距离有所希望的值，例如1.5μm。
扫描光点131、141可用于写入信息。为该目的借助于要写入的信息信号分别控制和强度调制激光元件13、14。该调制光束以已知方法在磁迹3、4等区域中提供可光学检测的变化。例如，可将孔熔入该信息层材料中，或该材料反射系数可局部改变。
该写入信息区域可由同样用于写入的扫描光束读出。为读出，该光束应该有比用于写入远为低的强度以致于读出光束不会改变信息层。将一分束元件22以部分透射镜或棱镜或带有λ/4波片的对偏振灵敏的光束分裂器的组合形式安置在光路中，其中λ是扫描光束的波长。通过元件22的部分扫描光束由会聚透镜23聚焦到对辐射灵敏的组合检测系统30的表面上的扫描点132、142、152和162等上。该系统包含多个与扫描光束相等数量的检测器31、32、33、34等。每一检测器件将有关扫描光束的强度调制转变为可用已知方法处理的电信号以重新得到记录在该记录载体上的信息。
通过在磁迹方向相对移动记录载体和扫描光点，在圆盘形记录载体的情况下，例如通过使其关于垂直于该信息平面的轴进行旋转，形成扫描，从而扫描第一例如4磁迹组。接着将扫描光点和记录载体在r方向上移动4倍于磁迹周期的距离，然后扫描第二4磁迹组，等等。
当写入和读出具有例如1μm量级的微小信息细节的信息结构时，须使用大数值孔径的物镜系统。这样物镜的焦深很小。既然信息平面2和物镜系统21间的距离可能发生变化(该变化大于焦深)，则必须提供能检测这些变化以致能校正聚焦的设施。
如美国专利第4，023，033号中所描述，通过借助于例如柱面透镜24提供反射光束象散和使用所谓四象限检测器可检测相对于信息平面的扫描光束的聚焦误差。图示在图2a、2b和2c中的这种检测器包含四个独立检测元件321、322、323和324，其中边界线38和39与该光束的象散焦线成约45°角。这些焦线平行和垂直于透镜24的柱面轴线25。为足够清楚地示出该透镜，在图1中将柱面轴线25垂直于该图平面示出。实际上该柱面轴线关于透镜系统22、23的光轴旋转45°。
如果扫描光束在信息平面上锐聚焦，辐射光点142是圆形且所有检测元件接收同样的辐射量。如果信息平面2和物镜间的距离太大，则象散焦线向上移动，辐射光点142是具有图2b所示取向的椭圆。检测元件321和323则比检测元件322和324接收更多的辐射。如果所述距离太小，则辐射光点142具有如图2c所示的形状，检测元件322和324接收比检测元件321和323更多的辐射。通过确定检测元件321和323的输出信号之和与检测元件322和324的输出信号之和间的差异可获得聚焦误差信号。借助该信号例如通过沿其轴移动该物镜能校正聚焦。
除了该扫描光束聚焦偏差外，也可能检测扫描光点中心和扫描磁迹中心线间的偏差。最后提到的偏差使被读出信息信号的调制深度下降，相邻磁迹间的串扰上升。这样也被称为跟踪误差的偏差可通过沿径向(x方向)移动整个读出头或仅移动该物镜系统而得到校正。
可通过使用包含两个其边界线朝磁迹方向延伸的检测元件的检测器并确定这些检测元件输出信号间的差异来获得该校正信号，即跟踪误差信号。这些检测元件可形成根据图2a、2b和2c的检测器部分。如果边界线39平行于磁迹方向，由检测元件321和324输出信号之和与检测元件322和323输出信号之和间的差异给出跟踪误差信号。
在使用多个扫描光点的光学扫描装置中，至今通常使用一个扫描光点用于写入和(或)读出信息以产生跟踪误差信号和聚焦误差信号。这最好是该行的中心扫描光点。然而，应考虑到下列现象和缺点。
1.既然不仅是中心扫描光束而且所有别的扫描光束都必须在该信息面上锐聚焦，则对于该扫描装置不应有记录载体的任何倾斜，因为这样的倾斜导致扫描光束离焦和这些光束的象差。并且，该记录载体必须满足非常严格的平稳要求。
2.扫描光点中心与相关磁迹中心线间的偏差仅可为例如0.1μm。直线1和磁迹方向t间的角度α因此应该非常精确地调整。例如，如果盘形记录载体有0.1μm的偏心，如果这些扫描光点位于距旋转轴线100mm处则磁迹方向和扫描光点线1间的角度将变化超过0.1mrad。如果外侧扫描光点的距离例如为200μm，结果跟踪误差为0.1μm。如果辐射光点和旋转轴线间的距离较小，外侧扫描光点跟踪误差甚至更大。
3.如果只使用一个扫描光点产生跟踪误差信号和聚焦误差信号，该记录载体的局部缺陷对得到的信号有很大影响，这将导致误差校正。例如，为减小记录载体前表面上划痕和类似物对信号的影响，必须使用厚的记录载体基片以使这些划痕离焦点充分远。如果在带形记录载体中使用薄的基片，则必须对该带材料纯度和带表面质量有非常严格的要求。
如果本发明所提出的，通过使用多个扫描光束来产生聚焦误差信号和(或)跟踪误差信号能检测上述现象，并消除它们的缺点、降低对记录载体的要求。
根据本发明装置的第一实施例中使用一行的两个外侧扫描光点来获得聚焦误差信号，如图3中对有5个扫描光点和5个检测器的情况的示意性图示。标号40代表一个电子电路，其中图1中第一扫描光点13的聚焦误差信号被确定。该电路包含将检测元件312和314的输出信号施加于其上的加法器41，将检测元件311和313的输出信号施加于其上的第二加法器42和将加法器41和42的输出信号施加于其上、其输出提供聚焦误差信号Sf31的微分放大器43。将该行最后扫描光点的检测器35与完全类似于电路40并提供聚焦误差信号Sf35的电路50相连接。将信号Sf31和Sf35施加到微分放大器44。该放大器的输出信号Ssk，t便是该记录载体在磁迹方向倾斜的数值。
这个信号可用来确保例如通过相对于平行于该信息平面的直线稍微倾斜该物镜或整个扫描头使扫描光束的主光线再变得垂直于该信息平面。
该倾斜信号Ssk，t也可用于前馈聚焦控制。这意味着及时检测到扫描光束焦点趋于该信息平面太远。这在聚焦控制中能预先考虑，从而导致及时校正。
如图4所示，将第二组扫描光点沿垂直于第一组扫描光点直线11的直线12排列并可使用有关第二组检测器。第二组扫描光点可仅包含例如位于类似第一组的外侧扫描光点位置处的两个扫描光点。图4中，用于第二组两个扫描光点的检测器由标号61和65表示。这些检测器与电路70和75相连用于产生聚焦误差信号Sf61和Sf65。这些信号可施加于微分放大器74。这个放大器提供一个辅助信号Ssk，z其为在方向r(横交于磁迹方向)倾斜的度量。
在根据本发明的装置中，与直线1的所有辐射点有关的检测器适合于产生聚焦误差信号，如图5借助31到35五个检测器例子所示。将每个检测器与电路40、46、47、48、50相连用于提供聚焦误差信号Sf31-Sf35。将这些信号施加于电路80，最好是加法器或别的放大系数为1/5的运算放大器。电路80提供一平均聚焦误差信号Sfm，该信号对基片表面上的划痕和类似物和(或)基片的缺限灵敏度较低。图5中示出的装置特别适合于扫描诸如带形或薄片形记录载体的薄的记录载体。
在该装置有另一实施例中，该行外侧扫描光点用来如图6作为例子所示的对5个扫描光点产生两个跟踪误差信号。将两个外侧检测器91和95分为两个检测元件，其中边界线平行于由与该相关检测器有关的扫描光点扫描的磁迹。将检测元件911和912的输出信号施加到微分放大器100，该放大器的输出信号则是第一外侧扫描光点的跟踪误差信号Sr，91。类似地，借助于微分放大器101从检测元件951和952的输出信号得到第二外侧扫描光点的跟踪误差信号Sr，95将信号Sr，91和Sr，95施加于另一微分放大器102，其输出信号Sr，m则代表图1中扫描光点连线1与磁迹方向t间的角度误差。信号Sr，m则代表图1中扫描光点连线1与磁迹方向t间的角度误差。信号Sr，m可用来消除所述角度误差，但也可用于所谓前馈跟踪控制。该前馈意味着及时检测到辐射光点的中心要从该磁迹中心偏离。这能在跟踪控制中预先考虑，从而导致及时校正。
除检测器91和95外，图6中检测器92、93和94也适合于提供跟踪误差信号。类似于根据图5的聚焦误差检测，然后可获得一个平均跟踪误差信号，该信号对基片表面上灰尘、划痕和类似物和(或)基片上的缺陷灵敏度较低。
如图7所示，如果对每个检测器分别提供两个辅助加法器110、111和112、113以及微分放大器100、101，则可用同样的外侧检测器31和35得到两个聚焦误差信号Sf31、Sf35以及两个跟踪误差信号Sr31、Sr35。可以参照图3和6所述的同样方法利用所述信号。图7的检测器32、33和34也适用于类似图5提供聚焦误差信号和(或)提供跟踪误差信号以致于又可获得平均聚焦误差信号或平均跟踪误差信号。
图8示出获得该聚焦误差信号的另一种可能性。该图中所示装置大部分与图1中所示的对应。然而，柱面透镜由光楔26所取代。为充分清楚地示出该光楔，将其棱27垂直于图面在图8中示出该光楔。实际上，该光楔是关于透镜系统22、23的光轴旋转90°。该光楔将来自记录载体的每一光束分裂，例如将b1分为两束子光束b′1、b″1以致于记录载体上每一辐射光点13、14、15、16在检测系统30上成象为两个辐射光点133、144、...、163、164。该检测系统包括用于每对辐射光点的4个对辐射灵敏的元件，如图8所示。当辐射光束b1正确聚焦时，辐射光点133和134分别相对于检测元件317、318以及检测元件315和316对称安置。当辐射光束b1离焦时，辐射光点133和134在横交检测元件315、316、317、和318的边界线的相反方向上移动。光束b1的聚焦误差信号由下式给出Sf，l＝(S5+S8)-(S6+S7)其中S5、S6、S7和S8代表检测器315、316、317和318的输出信号。
光束b1的跟踪误差信号也可从信号S5、S6、S7和S8中得出。该信号Sr，l由下式给出Sr，l＝(S5+S6)-(S7+S8)用图8的其它检测元件可类似获得其它光束b2、b3和b4的聚焦误差信号和跟踪误差信号。
物镜21的有效图象区域，即充分平的并且其中扫描光点具有衍射极限质量的图象区域大小有限。如果同时使用许多扫描光束来写入和(或)读出许多磁迹，外侧扫描点间的距离可能变得如此大以致于如果中心扫描光点位于该图象区域的中心则外侧光点位于有效图象区域的边缘或超出该有效图象区域。
为避免这个，可将扫描光点排列成两行或多行，如图9所示。磁迹3、5、7和9的扫描光点131、151、171和191位于第一直线l1上，而扫描光点141、161和181位于第二直线l2上。每个扫描光点131...191能用来如前所述产生聚焦误差信号和(或)跟踪误差信号。
注意到本发明不限于前述的聚焦误差检测和跟踪误差检测模式。例如通过周期性地将扫描光点横交该磁迹移动一个比该磁迹宽度小得多的距离，可另外获得跟踪误差信号，如在美国专利第3，126，535中所描述的。例如通过沿光轴周期性移动扫描光点可另外获得聚焦误差信号，如在美国专利第3，848，095中所描述的。
当使用许多扫描光束时，由多路二极管激光器提供的光束是发散光束这个事实将起作用。这些光束必须由准直透镜20转变为平行光束。没有任何进一步的措施，该准直透镜除了非对称部分将不接收外侧发散扫描光束的中心部分。这导致所述光束非对称充满物镜21以致于信息平面2上的外侧扫描光点具有非对称强度分布。
根据本发明的另一方面，通过使用一个透镜系统20、21的远焦、双远心光路实施例可避免这一点，如图10所示。准直透镜20的数值孔径NA20以这种方式增大使外侧扫描光束恰好被充分接收，即对这些光束在准直透镜上不发生渐晕。
图10图示了由辐射源13和14出射的两光束b1和b2的辐射光路，这些光束在记录载体信息平面2中形成辐射光点131和141。这些光点在检测系统30的平面内成象为辐射光点132和142。透镜系统20、21是双远心光路系统，即光束b1和b2的主光线垂直于辐射源平面以及信息平面2。对于双远心光路系统，它保持物方孔径位于物方焦平面内，象方孔径位于象方焦平面内。
接收和聚焦光束的大小由物镜系统21的数值孔径NA21决定，准直透镜的数值孔径NA20形成合成辐射源10的扩展，其所有辐射都必须被接收。这样来选择NA20使对于该辐射源外侧光束刚好不发生渐晕。
在使用一排其总长约为1mm的二极管激光器以及焦距为17mm量级的准直透镜的实施例中，当反射光束直径约为3mm时，准直透镜的数值孔径为NA20＝0.12，而对于一根光束约为0.09的NA20就足够了。
图10所示的布置不但用于一排辐射源而且用于多排辐射源，如图9所示。
权利要求
1.一种用于对在记录载体中的信息平面进行光学扫描的装置，该平面具有磁迹结构，所述装置包含提供多个扫描光束的多路辐射源、用于将每一束扫描光束聚焦到信息平面上独立扫描光点的物镜系统和用于将来自信息平面的辐射转变为含有关于信息平面扫描部分、相对于扫描磁迹的扫描光点位置以及相对于信息平面扫描光束聚焦程度的信息的电信号的对辐射灵敏的检测系统，其特征在于与独立扫描光束有关的检测系统中多个检测器的每一个都适合于提供包含关于相对于扫描磁迹的有关扫描光点位置和(或)相对于信息平面的有关扫描光束聚焦的信息的电信号。
2.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述扫描光点沿第一直线排列。
3.如权利要求1所述的装置，其特征在于所述扫描光点沿多条直线排列。
4.如权利要求2所述的装置，其特征在于与该行外侧扫描光点有关的检测器适合于提供含有关于相对于信息平面有关扫描光点的聚焦程度信息的电信号。
5.如权利要求4所述的装置，其特征在于所述辐射源提供在信息平面上形成第二组扫描光点的第二组扫描光束，这些光点沿横交于扫描光点第一直线的第二直线排列，其特征还在于检测系统中第二组检测器与第二组扫描光束有关，多个所述检测器适合于提供聚焦误差信号。
6.如权利要求2、3、4或5所述的装置，其特征在于检测系统的所有检测器适合于提供有关扫描光束的聚焦误差信号。
7.如权利要求2、3、4、5或6所述的装置，其特征在于将一产生象散的元件安置在由记录载体反射的辐射光路中，其特征还在于每个适合于提供聚焦误差信号的检测器包含一个四象限检测器。
8.如权利要求2、3、4、5或6所述的装置，其特征在于将用于从每一光束形成两束子光束的光束分裂元件安置在由记录载体反射的辐射光路中，其特征还在于每个适合于提供聚焦误差信号的检测器包含两对检测元件，每一对与一束子光束有关。
9.如权利要求1、2、3、4、5、6、7或8所述的装置，其中一行扫描光点以与局部磁迹方向成一小角度延伸，其特征在于与位于该行中心两侧的两个扫描光点有关的检测器适合于提供含有关于相对于有关磁迹中心线的两扫描光点的每一中心位置的信息的信号。
10.如权利要求9所述的装置，其特征在于检测系统的所有检测器适合于提供包含关于相对于有关磁迹中心线的有关扫描光点中心位置的信息的信号。
11.如权利要求1-10所述的装置，含有一个安置在多路辐射源和物镜系统间的准直透镜，其特征在于该包含准直透镜系统和物镜系统的透镜系统被作为双远心光路系统提供，其特征还在于该准直透镜的数值孔径正比于该多路辐射源的范围。
全文摘要
描述了一种使用多个扫描光点(13、14、15、16)用于同时对光记录载体(1)的多个信息磁迹进行扫描的光学扫描装置。另外，相对于该磁迹该行扫描光点的诸如倾斜信号和角度误差信号的伺服信息可通过使用用于产生多个跟踪误差信号和(或)聚焦误差信号的多个扫描光点(13……，16)获得。
文档编号G11B7/09GK1053962SQ9110076
公开日1991年8月21日 申请日期1991年2月2日 优先权日1990年2月6日
发明者威廉·G·奥法伊, 约瑟夫·P·H·本索普 申请人:菲利浦光灯制造公司