磁记录头和具有该磁记录头的盘装置的制造方法_4

文档序号:9289048阅读:来源:国知局
70b和第二入射面72a而进入第二 波导68b。在此,由于第二波导68b的折射率高于第一波导68a的折射率,因此,在第一发射 面70b和第二入射面72a中发生折射,第二入射面72a上的折射角Fb变得小于第一发射面 70b上的入射角la。据此,在第二波导68b的芯部的内壁表面上反射的激光的反射角Rb变 得小于相对于壁面的垂线的70°至80°的角度。例如,当第一波导68a由折射率为1. 8的 氧化镁制成,并且第二波导68b由折射率为2. 5的氧化钛制成时,第一波导68a中的反射角 Ra = 80°更改为第二波导68b中的反射角Rb = 76°,并且第一波导68a中的反射角Ra = 70°更改为第二波导68b中的反射角Rb = 62°。
[0076] 据此,在限制第一波导68a中的激光传播损耗的同时,可有效地将能量从第二波 导68b传播到近场光产生元件65。
[0077] 在第三实施例中,磁头33和HDD的其它部件与上述第一实施例相同。而且在如上 配置的第三实施例中,可获取能够以高效率和稳定性实现热辅助记录的磁记录头以及包括 该磁记录头的盘装置。
[0078] 在第三实施例中,如图12所7K,近场光产生兀件65的第三入射面65b可与第二波 导68b的第二发射面72b接触或接合。进一步地,除了第二入射面72a和第二发射面72b 之外的第二波导68b的外周面被低折射率材料制成的覆层80覆盖。
[0079] 尽管已经描述了特定实施例,但是这些实施例仅通过举例的方式呈现,并非旨在 限制本发明的范围。实际上,此处描述的新颖实施例可通过多种其它方式实现;而且,在不 偏离本发明的精神的情况下,可对此处描述的实施例做出多种形式上的省略、替换和更改。 所附权利要求及其等同物旨在涵盖这些落在本发明的精神和范围内的形式或修改。
[0080] 例如,可根据需要修改形成头部的每个元件的材料、形状和大小。进一步地,在磁 盘中,可根据需要增加磁盘和磁头的数量,并且可以多种方式更改磁盘大小。
【主权项】
1. 一种磁记录头,包括: 磁极,其向记录介质施加记录磁场; 发光元件,其被配置为产生光以加热所述记录介质的记录表面;以及 波导,其位于所述发光元件的前侧以将入射光导入所述发光元件,其中 所述波导包括: 第一波导,其具有光进入的入射面,以及 第二波导,其具有面向所述第一波导的第一表面,以及面向所述发光元件并且基本垂 直于所述记录介质的所述记录表面延伸的第二表面,来自所述第一波导的光通过该第一表 面进入,进入所述发光元件的光通过该第二表面, 所述第二波导的折射率不同于所述第一波导的折射率。2. 根据权利要求1所述的磁记录头,其中所述第二波导的所述第一和第二表面相互垂 直。3. 根据权利要求1所述的磁记录头,其中所述第二波导的所述第一和第二表面相互平 行。4. 根据权利要求3所述的磁记录头,其中所述第一和第二波导分别沿着垂直于所述记 录介质的所述记录表面的方向延伸,但是不沿着所述方向对齐。5. 根据权利要求1所述的磁记录头,其中 所述发光元件被设置在所述第二波导与所述磁极之间。6. 根据权利要求1所述的磁记录头,进一步包括: 低折射率层,其被设置在所述发光元件与所述第二波导的所述第二表面之间,所述低 折射率层的折射率低于所述第二波导的折射率。7. 根据权利要求1所述的磁记录头,其中 所述发光元件与所述第二波导的所述第二表面接触和接合。8. 根据权利要求1所述的磁记录头,进一步包括: 覆层,其由折射率低于所述第二波导的折射率的材料制成,并且覆盖所述第二波导中 除所述第二表面以外的周边。9. 一种盘装置,包括: 盘状记录介质,其包括磁记录层; 驱动单元,其支撑并旋转所述记录介质; 磁记录头,其包括向记录介质施加记录磁场的磁极,被配置为产生光以加热所述记录 介质的记录表面的发光元件,以及位于所述发光元件的前侧以将入射光导入所述发光元件 的波导;以及 进入所述波导并由所述波导引导的所述入射光的光源, 其中所述波导包括: 第一波导,其具有光进入的入射面,以及 第二波导,其具有面向所述第一波导的第一表面,以及面向所述发光元件并且基本垂 直于所述记录介质的所述记录表面延伸的第二表面,来自所述第一波导的光通过该第一表 面进入,进入所述发光元件的光通过该第二表面, 所述第二波导的折射率不同于所述第一波导的折射率。10. 根据权利要求9所述的盘装置,其中所述第二波导的所述第一和第二表面相互垂 直。11. 根据权利要求9所述的盘装置,其中所述第二波导的所述第一和第二表面相互平 行。12. 根据权利要求11所述的盘装置,其中所述第一和第二波导分别沿着垂直于所述记 录介质的所述记录表面的方向延伸,但是不沿着所述方向对齐。13. 根据权利要求9所述的盘装置,其中 所述发光元件被设置在所述第二波导与所述磁极之间。14. 根据权利要求9所述的盘装置,进一步包括: 低折射率层,其被设置在所述发光元件与所述第二波导的所述第二表面之间,所述低 折射率层的折射率低于所述第二波导的折射率。15. 根据权利要求9所述的盘装置,其中 所述发光元件与所述第二波导的所述第二表面接触和接合。16. 根据权利要求9所述的盘装置,进一步包括: 覆层,其由折射率低于所述第二波导的折射率的材料制成,并且覆盖所述第二波导中 除所述第二表面以外的周边。17. -种用于盘装置的磁记录头,该盘装置包括含有磁记录层的盘状记录介质、支撑并 旋转所述记录介质的驱动单元、以及光源,所述磁记录头包括: 主磁极,其向所述记录介质施加记录磁场; 发光元件,其被配置为产生光以加热所述记录介质的记录表面;以及 波导,其位于所述发光元件的与所述主磁极相反的一侧,所述波导包括第一波导以及 第二波导,该第一波导具有来自所述光源的光进入的入射面,该第二波导具有面向所述第 一波导的第一表面、以及面向所述发光元件并且基本垂直于所述记录介质的所述记录表面 延伸的第二表面,来自所述第一波导的光通过该第一表面进入,进入所述发光元件的光通 过该第二表面, 其中所述第二波导的折射率小于所述第一波导的折射率。18. 根据权利要求17所述的磁记录头,进一步包括: 低折射率层,其介于所述发光元件与所述第二波导的所述第二表面之间, 其中所述低折射率层的折射率低于所述第二波导的折射率。19. 根据权利要求18所述的磁记录头,进一步包括: 覆层,其由折射率低于所述低折射率层的折射率的材料制成,并且覆盖所述第二波导 中除所述第二表面以外的周边。20. 根据权利要求19所述的磁记录头,其中所述覆层具有覆盖所述第一波导的周边的 部分。
【专利摘要】本发明涉及磁记录头和具有该磁记录头的盘装置。一种磁记录头:包括磁极,其向记录介质施加记录磁场;发光元件,其被配置为产生光以加热所述记录介质的记录表面;以及波导,其位于所述发光元件的前侧以将入射光导入所述发光元件。所述波导包括第一波导和第二波导,该第一波导具有光进入的入射面,该第二波导具有面向所述第一波导的第一表面、以及面向所述发光元件并且基本垂直于所述记录介质的所述记录表面延伸的第二表面,来自所述第一波导的光通过该第一表面进入,进入所述发光元件的光通过该第二表面。所述第二波导的折射率不同于所述第一波导的折射率。
【IPC分类】G11B5/48, G11B5/31
【公开号】CN105006237
【申请号】CN201410668942
【发明人】山田裕一
【申请人】株式会社东芝
【公开日】2015年10月28日
【申请日】2014年11月20日
【公告号】US9087531
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