专利名称：防污染离子分析器的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种半导体器件制造装置，特别涉及一种半导体器件制造装置中的防污染离子分析器。
背景技术：
现有半导体集成电路制造技术中，随着集成度越来越高和电路规模越来越大，要求电路中单元器件尺寸越来越小，于是对半导体器件制造设备提出了更高的要求。离子分析器是半导体器件制造的关键设备之一，它的性能优劣，直接决定了半导体器件的质量好坏。在使用离子分析器制造过程中，由于离子束对离子分析器金属管壁的碰撞、溅射，会产生中性金属粒子，这些粒子折射到半导体晶片上，最终造成半导体受金属粒子的污染，会使阈电压降低，直接影响到半导体器件的性能。
发明内容
本实用新型克服现有技术的缺点，提供了一种无粒子污染，安装、维护方便的防污染离子分析器。
本实用新型技术方案如下在离子分析器中的离子束受电场作用偏转后运行方向的金属管壁下部内侧壁安装一短石墨板，再将另一长石墨板与之相接安装，上述长、短石墨板采用弹簧卡紧装置固定；在相应的金属管壁上部内侧壁安装石墨条，并被固定在活动盖板上，该活动盖板采用螺钉固定于离子分析器管壁上。这样，既保证了离子束不会直接碰撞金属管壁，以至产生金属粒子，污染半导体器件，而且石墨板和石墨条拆装方便，便于维护。
图1为本实用新型的水平剖视图；图2为本实用新型的A-A剖视图。
图中1-离子分析器；2-金属管壁；3-线圈；4-活动盖板；5-石墨条；6-长石墨板；7-短石墨板；8-弹簧卡紧装置；9-分析器出口；10-分析器入口；11-离子分析器侧壁具体实施方式
以下结合附图对本实用新型的结构和工作原理做进一步说明如附图1、2所示，在离子分析器1中的离子束受电场作用发生偏转而易于与金属管壁2发生碰撞的金属管壁2的下部内壁上设置短石墨板7，在与之相邻的另一斜面上设置有长石墨板6，两石墨板接触光滑、紧密，并分别通过弹簧卡紧装置8夹紧固定。该弹簧卡紧装置8一端固定在离子分析器1的侧壁11，另一端为自由状态，当安装短石墨板7和长石墨板6时，弹簧卡紧装置8自身的张力将两块石墨板紧贴离子分析器1的金属管壁2固定在侧壁11与弹簧之间。在离子分析器1出口处的上部内壁设置有活动盖板4，活动盖板4上安装有石墨条5，该活动盖板4采用螺钉固定于离子分析器1的金属管壁2上。
本实用新型所述防污染离子分析器工作时，自离子分析器1的入口处10射入离子束，离子束在线圈3产生的电场作用下发生偏转，自分析器出口9处射出。由于在离子分析器1的离子束受电场作用发生偏转而易与金属管壁2发生碰撞的金属管壁2的内壁上设置有长石墨板6、短石墨板7、石墨条5，故离子束不会直接碰撞金属管壁2，也就不会产生金属粒子以至污染半导体晶片。使用本实用新型时，可以自活动盖板4处先安装长石墨板6和短石墨板7，然后安装带有石墨条5的活动盖板4，而不必将离子分析器从设备中拆除，真正做到了操作简便，维护方便。
权利要求1.一种防污染离子分析器(1)，包括离子分析器入口(10)，金属管壁(2)，线圈(3)，离子分析器出口(9)，其特征在于离子分析器出口(9)上部金属管壁(2)的内壁上设有活动盖板(4)，该活动盖板(4)上固定有石墨条(5)，活动盖板(4)采用螺钉固定于金属管壁(2)上；在离子分析器出口(9)下部金属管壁(2)的内壁上安装有长石墨板(6)和短石墨板(7)，并由若干弹簧卡紧装置(11)固定；弹簧卡紧装置(11)一端固定在侧壁(11)上，另一自由端与长石墨板(6)和短石墨板(7)相接触。
专利摘要本实用新型公开了一种防污染离子分析器，属于半导体器件制造领域。所述的离子分析器出口(9)上部金属管壁(2)的内壁上设有活动盖板(4)，该活动盖板(4)上固定有石墨条(5)，活动盖板(4)采用螺钉固定于金属管壁(2)上；在离子分析器出口(9)下部金属管壁(2)的内壁上安装有长石墨板(6)和短石墨板(7)，并由若干弹簧卡紧装置(11)固定；弹簧卡紧装置(11)一端固定在侧壁(11)上，另一自由端与长石墨板(6)和短石墨板(7)相接触。采用本实用新型可有效防止离子束碰撞轰击金属管壁(2)产生金属粒子而造成半导体器件污染，并且石墨板安装简便，维护方便。
文档编号H01L21/66GK2796095SQ20052001126
公开日2006年7月12日 申请日期2005年3月31日 优先权日2005年3月31日
发明者郭建辉 申请人:北京中科信电子装备有限公司