专利名称：移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法
技术领域：
本发明是关于一种移动体装置、物体处理装置、曝光装置、平板显示器的制造方法、及元件制造方法，更详言之，是关于使物体沿既定二维平面移动的移动体装置、对保持于该移动体装置的物体进行既定处理的物体处理装置、于保持于前述移动体装置的物体形成既定图案的曝光装置、使用前述曝光装置的平板显示器的制造方法、以及使用前述曝光装置的元件制造方法。
背景技术：
以往，在制造液晶显示元件、半导体元件(集成电路等)等电子元件(微型元件)的微影制程中，主要使用例如步进重复方式的投影曝光装置(所谓步进机)、或步进扫描方式的投影曝光装置(所谓扫描步进机(亦称扫描机))等。此种曝光装置，曝光对象的物体(玻璃板或晶圆(以下总称为“基板”))载置于基板载台装置上。之后，形成于光罩(或标线片)的电路图案，通过经由投影透镜等光学系统的曝光用光的照射而转印至基板(参照例如专利文献I)。近年来，曝光装置的曝光对象物即基板、特别是液晶显示元件用的矩形玻璃板的尺寸例如为一边三公尺以上等，有大型化的倾向，伴随于此，基板载台装置亦大型化，其重量亦增大。因此，被期望开发出一种载台装置，能将曝光对象物(基板)高速且高精度地导弓丨，且小型、轻量。专利文献专利文献1:美国发明专利申请公开第2010/0018950号
发明内容
根据本发明的第I态样，提供一种移动体装置，其具备:第I移动体，可保持沿与水平面平行的既定二维平面配置的物体的端部，并且于至少前述二维平面内的第I方向以既定行程移动；以及第2移动体，包含在前述第I移动体于前述第I方向的可移动范围内从下方支承前述物体的物体支承构件，并且能与前述第I移动体一起移动于在前述二维平面内与前述第I方向正交的第2方向。根据所述装置，通过第I移动体于第I方向以既定行程移动，保持于该第I移动体的物体，则在被物体支承构件从下方支承的状态下于第I方向以既定行程移动。又，具有物体支承构件的第2移动体由于与第I移动体一起移动于第2方向，因此能将物体往第I方向及/或第2方向任意移动。由于物体在其可移动范围内随时被物体支承构件从下方支承，因此可抑制因自重导致的弯曲。是以，与将物体载置于具有与该物体相同程度面积的保持构件上并驱动该保持构件的情形相较，能使装置的重量以及尺寸缩减。根据本发明的第2态样，提供一种物体处理装置，其具备:本发明的移动体装置；以及执行装置，为了进行与前述物体相关的既定处理，从与前述保持装置相反的侧对该物体中保持于前述保持装置的部分执行既定动作。根据本发明的第3态样，提供一种曝光装置，其具备:本发明的移动体装置；以及通过能量束使前述物体曝光据以将既定图案形成于该物体上的图案形成装置。根据本发明的第4态样，提供一种平板显示器的制造方法，其包含:使用上述第I曝光装置曝光作为前述物体而用于平板显示器装置的基板；以及显影曝光后的前述基板。根据本发明的第5态样，提供一种元件制造方法，其包含:使用本发明的曝光装置曝光前述物体；以及显影曝光后的前述物体。根据本发明的第6态样，提供一种第2曝光装置，通过能量束使物体曝光据以将既定图案形成于该物体上，其具备:第I移动体，可保持沿与水平面平行的既定二维平面配置的前述物体的端部，并且于至少前述二维平面内的第I方向以既定行程移动；第2移动体，包含在前述第I移动体于前述第I方向的可移动范围内从下方支承前述物体的物体支承构件，并且能与前述第I移动体一起移动于在前述二维平面内与前述第I方向正交的第2方向；以及曝光系统，通过前述能量束使前述物体曝光。根据本发明的第7态样，提供一种平板显示器的制造方法，其包含:使用上述第2曝光装置曝光作为前述物体而用于平板显示器装置的基板；以及显影曝光后的前述基板。根据本发明的第8态样，提供一种元件制造方法，其包含:使用上述第2曝光装置曝光前述物体；以及显影曝光后的前述物体。
图1为概略显示第I实施形态的液晶曝光装置的构成的图。图2为图1的液晶曝光装置所具有的基板载台装置的俯视图。图3为图2的A-A线剖面图。图4为基板载台装置所具有的定点载台装置的剖面图(图3的一部分放大图)。图5㈧及图5(B)用以说明曝光处理时的基板载台装置的动作图(其I及其2)。图6㈧及图6(B)用以说明曝光处理时的基板载台装置的动作图(其3及其4)。图7㈧及图7(B)用以说明曝光处理时的基板载台装置的动作图(其5及其6)。图8㈧及图8(B)用以说明曝光处理时的基板载台装置的动作图(其7及其8)。图9为第2实施形态的基板载台装置的俯视图。图10为从+X侧观看图9的基板载台装置的图。图11为第3实施形态的基板载台装置的俯视图。图12㈧为图11的B-B线剖面图，图12⑶为从+X侧观看图11的基板载台装置的侧视图。图13 (A)为图11的基板载台装置所具有的基板支承构件的剖面图，图13⑶为显示第3实施形态的基板支承构件的变形例的图。
具体实施例方式《第I实施形态》以下，根据图1 图8(B)说明第I实施形态。图1为概略显示第I实施形态的液晶曝光装置10的构成。液晶曝光装置10用于液晶显示装置(平板显示器)的矩形玻璃基板P(以下单称为基板P)为曝光对象物的步进扫描方式的投影曝光装置、亦即所谓扫描机。液晶曝光装置10如图1所示，具备照明系统Ι0Ρ、保持光罩M的光罩载台MST、投影光学系统PU支承上述光罩载台MST及投影光学系统PL等的装置本体30、保持基板P的基板载台装置PST、以及此等的控制系统等。以下的说明中，将在曝光时光罩M与基板P相对投影光学系统PL分别相对扫描的方向设为X轴方向、将在水平面内与X轴方向正交的方向设为Y轴方向、将与X轴及Y轴正交的方向设为Z轴方向，且将绕X轴、Y轴、及Z轴的旋转(倾斜)方向分别设为θχ、0y、及ΘΖ方向。又，将在X轴、Y轴、以及Z轴方向的位置分别作为X位置、Y位置、以及Z位置来说明。照明系统Ι0Ρ，与例如美国发明专利第6，552，775号说明书等所揭示的照明系统为相同构成。亦即，照明系统IOP是将从未图示的光源(例如水银灯)射出的光分别经由未图示的反射镜、分色镜、快门、波长选择过滤器、各种透镜等，作为曝光用照明光(照明光)IL照射于光罩Μ。照明光IL是使用例如i线(波长365nm)、g线(波长436nm)、h线(波长405nm)等的光(或者上述i线、g线、h线的合成光)。又，照明光IL的波长，可通过波长选择过滤器，依照例如被要求的解析度适当进行切换。于光罩载台MST例如通过真空吸附固定有光罩M，该光罩M是于其图案面(图1的下面)形成有电路图案等。光罩载台MST，以非接触状态搭载于固定于装置本体30—部分即镜筒定盘31上的一对光罩载台导件35上，能通过包含例如线性马达的光罩载台驱动系统(未图示)以既定行程被驱动于扫描方向(X轴方向)，且分别适当被微幅驱动于Y轴方向及Qz方向。光罩载台MST在XY平面内的位置信息(包含Θ z方向的旋转信息)，是通过包含未图示的雷射干涉仪的光罩干涉仪系统予以测量。投影光学系统PL是在光罩载台MST的图1下方支承于镜筒定盘31。本实施形态的投影光学系统PL具有与例如美国发明专利第6，552，775号说明书所揭示的投影光学系统相同的构成。亦即，投影光学系统PL包含光罩M的图案像的投影区域配置成交错格子状的多支投影光学系统(多透镜投影光学系统)，是发挥与具有以Y轴方向为长边方向的长方形的单一像场的投影光学系统同等的功能。本实施形态中的多支投影光学系统均使用例如以两侧远心的等倍系统形成正立正像者。又，以下将投影光学系统PL的配置成交错格子状的多个投影区域总称为曝光区域IA(参照图2)。因此，在以来自照明系统IOP的照明光IL照明光罩M上的照明区域后，通过光罩M的照明光IL，使该照明区域内的光罩M的电路图案的投影像(部分正立像)经由投影光学系统PL形成于照明光IL的照射区域(曝光区域IA)，该区域IA与表面涂布有光阻(感应剂)的基板P上的照明区域共轭。接着，通过光罩载台MST与基板载台装置PST的同步驱动，使光罩M相对照明区域(照明光IL)移动于扫描方向(X轴方向)，且使基板P相对曝光区域IA(照明光IL)移动于扫描方向(X轴方向)，藉此进行基板P上的一个照射区域(区划区域)的扫描曝光，以将光罩M的图案(光罩图案)转印于该照射区域。亦即，本实施形态中，是通过照明系统IOP及投影光学系统PL将光罩M的图案生成于基板P上，通过照明光IL对基板P上的感应层(光阻层)的曝光将该图案形成于基板P上。装置本体30包含前述的镜筒定盘31、从下方分别支承镜筒定盘31的+Y侧及-Y侧端部附近的一对横柱架32、以及从下方支承一对横柱架32的基板载台架台33。基板载台架台33包含以X轴方向为长度方向的俯视矩形的板状构件(参照图2)所构成的本体部33a、分别支承一对横柱架32的一对支承部33b、以及连接一对支承部33b与本体部33a的一对连接部33c。本体部33a、一对支承部33b、以及一对连接部33c形成为一体。一对支承部33b分别从下方被支承于设置于洁净室的地11上的防振装置34上。藉此，支承于装置本体30的上述光罩载台MST及投影光学系统PL与地11于振动上分离。于本体部33a上面，如图2所示固定有一对Y固定子37。一对Y固定子37由与Y轴平行延伸的构件构成，于X轴方向以既定间隔彼此平行配置。一对Y固定子37分别具有包含排列于Y轴方向的多个永久磁石的磁石单元。又，于本体部33a上面且为+X侧的Y固定子37的+X侧及-X侧，分别彼此平行地固定有与Y轴平行延伸的Y线性导引构件38。又，于本体部33a上面且为-X侧的Y固定子37的+X侧及-X侧，亦分别彼此平行地固定有与Y轴平行延伸的Y线性导引构件38。此外，图2(及图5(A) 图8(B))中，省略了基板载台架台33中的一对支承部33b及一对连接部33c (分别参照图1)的图示。如图2所示，基板载台装置PST具备Y步进定盘50、基板支承构件60、多台空气悬浮装置70、以及定点载台80等。Y步进定盘50，由以X轴方向为长度方向的俯视矩形且与XY平面平行的板状构件构成，配置于本体部33a上方。Y步进定盘50的宽度(Y轴方向的尺寸(长度))设定为与基板P宽度(Y轴方向的尺寸(长度))为相同程度(实际上微较长)。又，Y步进定盘50的长度方向的尺寸(长度)设定为涵盖基板P在X轴方向的移动范围的尺寸(长度)，本实施形态中，设定为例如基板P的X轴方向尺寸的2.5倍程度。由图2及图3可知，于Y步进定盘50的中央部形成有于Y轴方向较长的长孔状开口部50a。于Y步进定盘50的下面，如图3所示，一对Y可动子57分别对向于一对Y固定子37而固定。各Y可动子57具有包含未图示线圈的线圈单元。Y步进定盘50通过由一对Y固定子37与一对Y可动子57构成的例如两个(一对)Y线性马达而在基板载台架台33上于Y轴方向被以既定行程驱动。又，于Y步进定盘50的下面固定有多个Y滑件58。Y滑件58由XZ剖面为倒U字状构件构成，以可低摩擦滑动地卡合于Y线性导引构件38。Y滑件58如图1所示，相对一支Y线性导引构件38设有例如两个。因此，本实施形态中，于Y步进定盘50的下面，与例如四支Y线性导引构件38对应地固定有例如合计为八个的Y滑件58 (图3中，八个Y滑件58中的四个隐藏于其他四个的纸面深侧)。返回图2，于Y步进定盘50的上面的+Y侧端部附近及-Y侧端部附近，分别彼此平行地固定有与X轴平行延伸的X线性导件54。基板支承构件60，如图2所示由俯视U字形构件构成，从下方支承基板P。基板支承构件60包含一对X支承构件61与连结一对X支承构件61的一个连结构件62。一对X支承构件61，分别由以X轴方向为长度方向的YZ剖面矩形(参照图1)的棒状构件构成，于Y轴方向以既定间隔(较基板P的Y轴方向的尺寸短些许的间隔)彼此平行配置。一对X支承构件61各自的长度方向尺寸，设定为较基板P的X轴方向的尺寸长些许。基板P的+Y侧及-Y侧的端部附近被一对X支承构件61由下方支承。于一对X支承构件61各自的上面具有未图示的吸附垫。一对X支承构件61从下方通过例如真空吸附而吸附保持基板P的Y轴方向的两端部附近。于-Y侧的X支承构件61的-Y侧侧面安装有具有与Y轴正交的反射面的Y移动镜68y (棒反射镜)。如图1所示，一对X支承构件61在Y轴方向的间隔，与一对X线性导件54的间隔对应。于一对X支承构件61各自的下面，固定有由YZ剖面逆U字状构件构成、能以低摩擦可滑动地卡合于对应的X线性导件54的X滑件64。此外，虽图1中因在纸面深处方向重叠而未图不，但X滑件64相对一支X线性导件54设有例如两个。连接构件62由以Y轴方向为长度方向的XZ剖面矩形(参照图3)的棒状构件构成，连结一对X支承构件61的-X侧端部相互间。此处的连接构件62，由图1及图3可知，搭载于一对X支承构件61各自的上面上，其下面的Z位置与基板P下面的Z位置大致相同。又，如图2所示，于连接构件62的-X侧侧面，安装有具有与X轴正交的反射面的X移动镜68x(棒反射镜)。又，基板支承构件60，虽未图示，但其通过例如固定于Y步进定盘50上面的一对固定子(例如包含排列于X轴方向的多个永久磁石的磁石单元)与固定于一对X支承构件61各自的下面的可动子(例如包含线圈的线圈单元)所构成的两个X线性马达，在Y步进定盘50上于X轴方向被以既定行程驱动。基板支承构件60，通过Y步进定盘50于Y轴方向被以既定行程驱动，而与该Y步进定盘50 —体地于Y轴方向被以既定行程驱动，并与此并行地(或独立地)在Y步进定盘50上于X轴方向被以既定行程驱动，而于X轴方向及Y轴方向被以既定行程驱动。基板支承构件60在XY平面内的位置信息，通过包含一对X干涉仪66x及一对Y干涉仪66y的基板干涉仪系统求出。一对X干涉仪66x及一对Y干涉仪66y通过未图示的支承构件固定于装置本体30。X干涉仪66x(或Y干涉仪66y)以未图示的分束器将来自未图不的光源的光分割，将其一方的光作为测距光照射于X移动镜68x(或Y移动镜68y),将其另一方的光作为参照光照射于安装于投影光学系统PL(或者能视为与投影光学系统PL一体的构件)的固定镜(未图示)，使上述测距光的来自X移动镜68x(或Y移动镜68y)的反射光及参照光的来自固定镜的反射光再度重叠而射入未图示的受光元件，根据该光的干涉求出以固定镜的反射面的位置为基准的X移动镜68x (或Y移动镜68y)的反射面的位置(亦即，基板支承构件60的位移)。用以驱动基板支承构件60的X线性马达，是根据一对X干涉仪66x的输出被控制，用以驱动Y步进定盘50的Y线性马达，是根据一对Y干涉仪66y (或未图示的Y线性编码器)的输出被控制。又，一对Y干涉仪66y，其间隔(及台数)被设定为不论基板支承构件60的X轴方向的位置为何，来自至少一方的Y干涉仪66y的测距光照射于Y移动镜68y。相对于此，一对X干涉仪66x，其间隔则被设定为不论基板支承构件60的Y轴方向的位置为何，随时有来自一对X干涉仪66x的测距光照射于X移动镜68x。本实施形态中，多台例如为10台的空气悬浮装置70固定于Y步进定盘50上面。例如10台空气悬浮装置70中，例如5台于Y轴方向以既定间隔配置于开口部50a的+X侧且为一对X线性导件54间的区域，其他例如5台则于Y轴方向以既定间隔配置于开口部50a的-X侧且为一对X线性导件54间的区域。例如10台空气悬浮装置70除了配置相异以外，其余均实质相同。各空气悬浮装置70，由延伸于X轴方向(X轴方向尺寸较Y轴及Z轴方向尺寸长)的长方体状构件构成，其长度方向尺寸设定为与基板的X轴方向尺寸大致相同程度(实际上是短些许)。空气悬浮装置70于其上面(对向于基板P下面的面)具有多孔质构件，通过从该多孔质构件所具有的多个微细孔将加压气体(例如空气)喷出于基板P下面，而使基板P悬浮。加压气体，亦可从外部被供应至空气悬浮装置70，亦可由空气悬浮装置70内藏有送风装置等。又，喷出加压气体的孔亦可是通过机械式加工而形成的。多台空气悬浮装置70对基板P的悬浮量(空气悬浮装置70的上面与基板P的下面的距离)，设定为例如数十微米至数千微米程度。如图4所示的定点载台80，其具备搭载于基板载台架台33的本体部33a上的重量抵消装置81、从下方被重量抵消装置81支承的空气夹头装置88、将空气夹头装置88驱动于θχ、ey、以及Z轴的三自由度方向的多个Z音圈马达95等。如图3所示的重量抵消装置81，其插入于形成在Y步进定盘50的开口部50a内。此处，规定上述开口部50a的开口端部间的尺寸(及/或重量抵消装置81的外形尺寸)被设定为在Y步进定盘50以既定行程移动于Y轴方向时，规定上述开口部50a的开口端部与重量抵消装置81不接触。此外，只要能回避在Y步进定盘50以既定行程移动于Y轴方向时重量抵消装置81与Y步进定盘50的接触，开口部50a的形状则不特别限定，例如亦可是圆形。返回图4，重量抵消装置81具备固定于基板载台架台33(参照图1)的本体部33a的筐体82、收容于筐体82内的可伸缩于Z轴方向的压缩线圈弹簧83、以及搭载于压缩线圈弹簧83上的Z滑件84等。筐体82由+Z侧开口的有底筒状的构件构成。Z滑件84由延伸于Z轴的筒状构件构成，通过平行板弹簧装置85 (包含在Z轴方向分离配置的与XY平面平行的一对板弹簧)连接于筐体82的内壁面。平行板弹簧装置85配置于Z滑件84的+X侦U、-X侧、+Y侧、以及-Y侧(+Y侧及-Y侧的平行板弹簧装置85未图示)。Z滑件84通过平行板弹簧装置85所具有的板弹簧的刚性(拉伸刚性)而被限制相对筐体82往与XY平面平行的方向相对移动，相对于此，于Z轴方向则可通过板弹簧的可挠性相对筐体82以微幅行程相对移动。Z滑件84的上端部(+Z侧的端部)从筐体82的+Z侧端部往上方突出，而从下方支承空气夹头装置88。又，于Z滑件84的上端面形成有半球状的凹部84a。重量抵消装置81通过压缩线圈弹簧83的弹性力(重力方向往上(+Z方向)的力)，抵消基板P、Z滑件84、空气夹头装置88等的重量(重力加速度所导致的向下(-Z方向)的力)，而减低对多个Z音圈马达95的负荷。此外,亦可取代压缩线圈弹簧83，而如例如美国发明专利申请公开第2010/0018950号说明书所揭示的重量抵消装置，使用空气弹簧等能控制载重的构件来抵消空气夹头装置88等的重量。空气夹头装置88配置于重量抵消装置81上方(+Z侧)。空气夹头装置88具有底座构件89、固定于底座构件89上的真空预负荷空气轴承90、分别配置于真空预负荷空气轴承90的+X侧及-X侧的一对空气悬浮装置91。底座构件89由与XY平面平行配置的板状构件构成，其下面的Z位置如图3所示配置为较Y步进定盘50上面的Z位置高些许。返回图4，于底座构件89下面中央固定有具有半球面状轴承面的球面空气轴承92。球面空气轴承92插入于形成在Z滑件84的凹部84a。藉此，空气夹头装置88相对XY平面摆动自如(旋转自如于θ x及Θ y方向)地支承于Z滑件84。此外，作为将空气夹头装置88支承成相对XY平面摆动自如的装置，例如美国发明专利申请公开第2010/0018950号说明书所揭示的使用多个空气轴承的拟似球面轴承装置，亦可使用弹性铰链装置。如图2所示，真空预负荷空气轴承90由俯视下为以Y轴方向为长度方向的长方形板状构件构成，其面积设定为较曝光区域IA的面积广些许。真空预负荷空气轴承90于其上面具有气体喷出孔及气体吸引孔，从气体喷出孔将加压气体(例如空气)往基板P的下面喷出，且从气体吸引孔吸引与基板P之间的气体。真空预负荷空气轴承90通过往基板P下面喷出的气体的压力和与基板P之间的负压的平衡，于其上面与基板P下面之间形成高刚性的气体膜，而将基板P隔着大致一定的空隙(间隙/隙缝)以非接触方式吸附保持。以真空预负荷空气轴承90的上面(基板保持面)与基板P下面之间的距离成为例如数微米至数十微米程度的方式，设定所喷出的气体的流量或压力、及吸引的气体的流量或压力。此处，如图2所示，真空预负荷空气轴承90配置于紧邻投影光学系统PL的下方(-Z侧)，吸附保持位于紧邻投影光学系统PL下方的基板P的与曝光区域IA对应的部位(被曝光部位)。由于真空预负荷空气轴承90对基板P施加所谓预负荷，因此能提高于与基板P之间形成的气体膜的刚性，假使基板P产生扭曲或翘曲，亦能将基板P中位于紧邻投影光学系统PL下方的被曝光位置的形状确实地沿真空预负荷空气轴承90上面矫正。又，真空预负荷空气轴承90由于不拘束基板P在XY平面内的位置，因此即使是基板P被真空预负荷空气轴承90吸附保持被曝光部位的状态，亦能相对照明光IL(参照图3)沿XY平面移动。此种非接触式空气夹头装置(真空预负荷空气轴承)，例如揭示于美国发明专利第7，607，647号说明书等。此外，从真空预负荷空气轴承90喷出的加压气体亦可由外部供应，亦可由真空预负荷空气轴承90内藏有送风装置等。又，吸引真空预负荷空气轴承90上面与基板P下面之间的气体的吸引装置(真空装置)亦同样地，亦可设于真空预负荷空气轴承90外部，亦可由真空预负荷空气轴承90内藏。又，气体喷出孔及气体吸引孔，亦可是机械式加工而形成的，亦可使用多孔质材料。又，作为真空预负荷的方法，亦可不进行气体吸弓丨，而仅使用正压气体(例如贝努里夹头装置)使负压产生。一对空气悬浮装置91均与上述空气悬浮装置70同样地，通过从其上面对基板P的下面喷出加压气体(例如空气)来使基板P悬浮。一对空气悬浮装置91上面的Z位置被设定为与真空预负荷空气轴承90上面的Z位置大致相同。又，如图3所示，真空预负荷空气轴承90及一对空气悬浮装置91上面的Z位置，设定为较多台空气悬浮装置70上面的Z位置高些许的位置。因此，上述多台空气悬浮装置70，是使用能使基板P较一对空气悬浮装置91更高地悬浮的高悬浮类型的装置。此外，一对空气悬浮装置91亦可不仅对基板P喷出加压气体，而与真空预负荷空气轴承90同样地吸引其上面与基板P间的空气。此情形下，最好是将吸引压设定为较真空预负荷空气轴承90的预负荷弱的负荷。多个Z音圈马达95的各个，如图4所示包含固定于地11上所设置的底座框架98的Z固定子95a与固定于底座构件89的Z可动子95b。Z音圈马达95例如配置于重量抵消装置81的+X侧、-X侧、+Y侧、以及-Y侧(+Y侧及-Y侧的Z音圈马达95未图示)，能将空气夹头装置88以微幅行程驱动于θχ、0y、以及Z轴的三自由度方向。此外，多个Z音圈马达95只要配置于至少不位于同一直线上的三处即可。底座框架98包含分别插通形成于本体部33a的多个贯通孔33d的多支(例如与Z音圈马达95对应而有四支)脚部98a、以及被该多支脚部98a从下方支承的本体部98b。本体部98b，由俯视为圆环状的板状构件构成，于形成于其中央部的开口部98c内插入有上述重量抵消装置81。多支脚部98a均与本体部33a为非接触状态，而于振动上分离。因此，使用多个Z音圈马达95驱动空气夹头装置88时的反作用力不会传递至重量抵消装置81。被多个Z音圈马达95驱动的空气夹头装置88在三自由度方向的位置信息，使用固定于本体部33a的多个、本实施形态中为例如四个Z感测器96求出。Z感测器96分别于重量抵消装置81的+X侧、-X侧、+Y侧、-Y侧各设有一个(+Y侧及-Y侧的Z感测器未图示)。Z感测器96是使用固定于空气夹头装置88的底座构件89下面的标的部97求出底座框架98的本体部98b (本体部33a)与底座构件89的Z轴方向的距离的变化。未图示的主控制装置，是根据四个Z感测器96的输出随时求出空气夹头装置88在Z轴、ΘΧ及0y方向的位置信息，根据其测量值通过适当控制四个Z音圈马达95来控制空气夹头装置88的位置。由于多个Z感测器96及标的部97配置于多个Z音圈马达95附近，因此能进行高速且高回应的控制。此外，Z感测器96与标的部97的配置亦可相反。此处，空气夹头装置88的最终位置，被控制为通过真空预负荷空气轴承90上方的基板P的上面随时位于投影光学系统PL的焦深内。未图示的主控制装置为一边通过未图示的面位置测量系统(自动聚焦感测器)监测基板P上面的位置(面位置)，一边将空气夹头装置88驱动控制(自动聚焦控制)成该基板P上面随时位于投影光学系统PL的焦深内(投影光学系统PL随时对焦于基板P上面)。此外，由于Z感测器96只要能求出空气夹头装置88在Z轴、ΘΧ及Qy方向的位置信息即可，因此只要设于例如不位于同一直线上的三处，三个亦可。以上述方式构成的液晶曝光装置10 (参照图)，是在未图示的主控制装置的管理下，通过未图示的光罩装载器将光罩M装载于光罩载台MST，以及通过未图示的基板装载器将基板P装载于基板支承构件60上。其后，通过主控制装置使用未图示的对准检测系统执行对准测量，在对准测量结束后，即进行步进扫描方式的曝光动作。此处，根据图5㈧ 图8(B)说明上述曝光动作时的基板载台装置PST的动作一例。此外，以下虽说明于一片基板上设定有四个照射区域的情形(所谓取四面的情形)，但设定于一片基板P上的照射区域的数目及配置可适当变更。例如图5 (A)所示，曝光处理是依照设定于基板P的-Y侧且-X侧的第I照射区域S1、设定于基板P的+Y侧且-X侧的第2照射区域S2、设定于基板P的+Y侧且+X侧的第3照射区域S3、设定于基板P的-Y侧且+X侧的第4照射区域S4的顺序进行。基板载台装置PST中，如图5 (A)所示，根据一对X干涉仪66x及+Y侧Y干涉仪66y的输出将基板支承构件60在XY平面内的位置控制成第I照射区域SI位于曝光区域IA的+X侧。此后，如图5(B)所示，相对照明光IL(参照图1)将基板支承构件60根据一对X干涉仪66x的输出于-X方向以既定的一定速度驱动(参照图5(B)的箭头)，藉此，于基板P上的第I照射区域SI转印光罩图案。在对第I照射区域SI的曝光处理结束后，基板载台装置PST，如图6 (A)所示，根据一对Y干涉仪66y的输出将基板支承构件60的位置控制成第2照射区域S2的+X侧端部位于较曝光区域IA(图6㈧中未图示。参照图2)略靠-X侧处。其次，如图6(B)所示，相对照明光IL(参照图1)将基板支承构件60根据一对X干涉仪66x的输出于+X方向以既定的一定速度驱动(参照图6(B)的箭头)，藉此，于基板P上的第2照射区域S2转印光罩图案。此后，如图7 (A)所示，根据一对X干涉仪66x的输出将基板支承构件60在XY平面内的位置控制成第3照射区域S3的-X侧端部位于较曝光区域IA(图7 (A)中未图示。参照图2)略靠+X侧处(参照图7(A)的箭头)，并如图7 (B)所示，通过相对照明光IL(参照图1)将基板支承构件60根据一对X干涉仪66x的输出于-X方向以既定的一定速度驱动(参照图7(B)的箭头)，于基板P上的第3照射区域S3转印光
罩图案。其次，如图8 (A)所示，根据-X侧的Y干涉仪66y的输出将基板支承构件60在XY平面内的位置控制成第4照射区域S4的+X侧端部位于较曝光区域IA (图8(A)中未图示。参照图2)略靠-X侧处(参照图8 (A)的箭头)，并如图8(B)所示，通过相对照明光IL(参照图1)将基板支承构件60根据一对X干涉仪66x的输出于+X方向以既定的一定速度驱动(参照图8(B)的箭头)，于基板P上的第4照射区域S4转印光罩图案。主控制装置在进行图5(A) 图8(B)的步进扫描方式的曝光动作中，是测量基板P表面的被曝光部位的面位置信息。接着，主控制装置根据其测量值控制空气夹头装置88所具有的真空预负荷空气轴承90的Z轴、ΘΧ及07方向各自的位置(面位置)，以定位成基板P表面中位于紧邻投影光学系统PL下方的被曝光部位的面位置位于投影光学系统PL的焦深内。藉此，即使例如假设于基板P表面产生起伏或基板P产生厚度的误差，亦可确实地使基板P的被曝光部位的面位置位于投影光学系统PL的焦深内，而能使曝光精度提升。又，基板P中与曝光区域IA对应的部分以外的区域的大部分是被多台空气悬浮装置70悬浮支承。是以，抑制因基板P的自重导致的弯曲。如上述，第I实施形态的液晶曝光装置10所具有的基板载台装置PST，由于集中控制基板表面中与曝光区域对应的位置的面位置，因此例如与如美国发明专利申请公开第2010/0018950号说明书所揭示的载台装置，将具有与基板P相同程度的面积的基板保持具(亦即基板P整体)往Z轴方向及倾斜方向分别驱动的情形相较，可大幅减低其重量。又，基板支承构件60由于仅保持基板P端部的构成，因此假使基板P大型化，用以驱动基板支承构件60的X线性马达只要输出小者即可，而能减低运转成本。又，电源设备等基础设备的整备亦容易。又，由于X线性马达的输出小即可，因此亦能减低期初成本。又，由于X线性马达的输出(推力)较小，因此驱动反作用力给予装置整体的影响(因振动而对曝光精度的影响)亦较少。又，与现有的上述基板载台装置相较，组装、调整、维护等均容易。又，由于构件的数目较少且各构件为轻量，因此输送亦容易。此外，包含多台空气悬浮装置70在内，Y步进定盘50虽较基板支承构件60大型，但基板P的Z轴方向的定位是由定点载台80进行，空气悬浮装置70本身仅使基板P悬浮，因此不要求刚性，而能使用较轻.早.名-ο又，由于多台空气悬浮装置70的基板P的悬浮量设定为例如设定为数十微米 数千微米程度(亦即悬浮量较定点载台80大)，因此假使基板P产生挠曲或空气悬浮装置70的设置位置偏移，亦防止基板P与空气悬浮装置70的接触。又，由于从多台空气悬浮装置70喷出的加压气体的刚性较低，因此使用定点载台80进行基板P的面位置控制时的Z音圈马达95的负荷较小。又，由于支承基板P的基板支承构件60为简单的构成，因此能使重量较轻。因此，驱动基板支承构件60时的反作用力虽会通过Y步进定盘50传至装置本体30，但由于其驱动反作用力本身较小，因此即使产生因驱动反作用力导致的装置振动(装置本体30的摇动或振动激发的共振现象等)，对曝光精度造成影响的可能性亦小。又，由于Y步进定盘50重量较基板支承构件60重，因此其驱动反作用力亦较驱动基板支承构件60时大，但由于驱动Y步进定盘50是在使基板PY以长行程移动于Y轴方向时(亦即非曝光时)，因此因该驱动反作用力导致的上述装置振动对曝光精度造成影响的可能性亦小。《第2实施形态》其次根据图9及图10说明第2实施形态的基板载台装置。第2实施形态的基板载台装置PSTa的差异点在于，能将支承基板P的基板支承构件160相对Y步进定盘50微幅驱动于X轴、Y轴、以及θζ方向。此外，针对本第2实施形态的基板载台装置PSTa中具有与上述第I实施形态的基板载台装置PST (参照图2)相同构成及功能的构件，使用与上述第I实施形态相同的符号，省略其说明。基板载台装置PSTa具有一对X托架20。一对X托架20分别配置于在Y步进定盘150上方且为基板支承构件160的+X侧、-Y侧。各X托架20由与XY平面平行配置的以X轴方向为长度方向的俯视为长方形的板状构件构成，如图10所示，于其下面的四角部附近固定有YZ剖面逆U字形的X滑件24 (四个滑件24中的两个隐藏于其他两个的纸面深侧)。相对于此，于Y步进定盘150上面的+Y侧及-Y侧端部附近，分别固定有在Y轴方向分离配置的一对X线性导件54。+X侧的X托架20于+Y侧的一对X线性导件54上通过X滑件24滑动自如地搭载，-Y侧的X托架20于-Y侧的一对X线性导件54上通过X滑件24滑动自如地搭载。X托架20通过X线性马达(包含固定于X托架20的未图示的X可动子及对应X可动子固定于Y步进定盘150的X固定子)在Y步进定盘150上于X轴方向以既定行程被驱动。X托架20的位置信息通过Y线性编码器系统(包含固定于X托架20的未图示的线性编码器读头(检测器)与固定于Y步进定盘150的未图示的Y线性标尺)求出。一对X托架20是根据上述Y线性编码器系统的测量值被同步驱动。又，在Y步进定盘150上面的+Y侧端部附近及-Y侧端部附近且为一对X线性导件54的内侧，分别固定有X导件55。X导件55由延伸于X轴方向的YZ剖面矩形的构件构成(参照图10)，其上面的平面度被设定为非常高。两支X导件55的间隔与基板支承构件160所具有的一对X支承构件61的间隔大致一致。于基板支承构件160的一对X支承构件61各自的下面，如图10所示安装有其轴承面对向于X导件55上面的空气轴承65。基板支承构件160通过空气轴承65的作用被悬浮支承于一对X导件55上。此外，在上述第I实施形态中，虽于X支承构件61的下面固定有X滑件64 (参照图1)，但本第2实施形态的基板支承构件160不具有X滑件64。回到图9，基板支承构件160通过两个X音圈马达29χ及两个Y音圈马达29y相对一对X托架20被微幅驱动于X轴、Y轴、以及Θ z方向。两个X音圈马达29x的一方及两个Y音圈马达29y的一方配置于基板支承构件160的-Y侧，两个X音圈马达29x的另一方及两个Y音圈马达29y的另一方配置于基板支承构件160的+Y侧。一方及另一方的X音圈马达29x配置于彼此相对并合有基板支承构件160与基板P的系统的重心位置CG成为点对称的位置，一方及另一方的Y音圈马达29y配置于彼此相对上述重心位置CG成为点对称的位置。
如图10所示，一方(-Y侧)的Y音圈马达29y包含通过支承构件28固定于-Y侧的X托架20上面的固定子27y (例如具有包含线圈的线圈单元)与固定于-Y侧的X支承构件61侧面的可动子67y (例如具有包含磁石的磁石单元)。此外，图10中虽隐藏于X音圈马达29x的纸面深侧，但另一方(+Y侧)的Y音圈马达29y(参照图9)的构成与一方的Y音圈马达29y相同。又，另一方(+Y侧)的X音圈马达29x包含通过支承构件28固定于+Y侧的X托架20上面的固定子27x与固定于+Y侧的X支承构件61侧面的可动子67x。此夕卜，图10中虽隐藏于Y音圈马达29y的纸面深侧，但一方(-Y侧)的X音圈马达29x的构成与另一方的X音圈马达29x相同。回到图9，基板支承构件160，在一对X托架20分别在Y步进定盘150上被以既定行程驱动于X轴方向时，是通过两个X音圈马达29x相对一对X托架20被同步驱动(以与一对X托架20相同方向、相同速度驱动)。藉此,一对X托架20与基板支承构件160 —体移动于X轴方向。又，基板支承构件160在Y步进定盘150及一对X托架20被以既定行程驱动于Y轴方向时，是通过两个Y音圈马达29y相对一对X托架20被同步驱动(以与一对X托架20相同方向、相同速度驱动)。藉此，Y步进定盘150与基板支承构件160 —体移动于Y轴方向。又，基板支承构件160是通过两个X音圈马达29x(或两个Y音圈马达29y)的推力差，绕与通过重心位置CG的Z轴平行的轴线的方向(Θ z方向)被适当微幅驱动。基板支承构件160、亦即基板P在XY平面内(包含ΘΖ方向)的位置信息，通过一对X干涉仪66χ求出。此外，本第2实施形态中的基板载台装置PSTa的步进扫描时的动作等由于与上述第I实施形态相同，因此省略其说明。根据本第2实施形态的基板载台装置PSTa，除了上述第I实施形态可得到的效果以外，保持基板P的基板支承构件160对Y步进定盘150为非接触，且在与XY平面平行的方向为于振动上分离，因此可抑制驱动基板支承构件160时的X线性马达(或Y线性马达)的反作用力及振动的传达。又，在将基板P驱动于扫描方向时，由于能微幅驱动于交叉扫描方向及Θ Z方向，因此能进行更高精度的曝光。又，基板支承构件160由于仅保持基板P端部的构成，因此假使基板P大型化，用以驱动基板支承构件160的音圈马达只要是输出小者即可，而能减低运转成本。《第3实施形态》其次根据图11 图13(A)说明第3实施形态。第3实施形态相较于上述第I实施形态(参照图1等)，在装置本体30及基板载台装置PST的构成上具有差异。此外，针对本第3实施形态的装置本体130及基板载台装置PSTb中具有与上述第I实施形态相同构成及功能的构件，使用与上述第I实施形态相同的符号，省略其说明。如图12(B)所示，第3实施形态的基板载台装置PSTb，为Y步进定盘50搭载于设置于地11上的架台40上。架台40,如图11所示,实质上为相同者于X轴方向分离设有一对，Y步进定盘50架设搭载于该两个架台40上。于一对架台40各自的上面，由图11及图12 (A)可知，固定有用以将Y步进定盘50直进导引于Y轴方向的多个Y线性导引构件38、以及构成用以将Y步进定盘50驱动于Y轴方向的Y线性导件的Y固定件37。又，如图11所示，在装置本体130中，基板载台架台133的本体部133a及连接部133c在X轴方向的尺寸设定为较上述第I实施形态的本体部33a及连接部33c (分别参照图1)短。本体部133a架设于一对支承部33b的长度方向的中央部间。于本体部133a上，如图12(A)所示，搭载有定点载台80的重量抵消装置81。又，于本体部133a形成有被底座框架98的脚部98a插通的贯通孔。此处，上述一对架台40如图11所示，一方配置于本体部133a的+X侧，另一方配置于本体部133a的-X侧，而与本体部133a分离，且与基板载台架台133 (亦即装置本体130(参照图12(C)))于振动上分离。因此，能抑制将Y步进定盘50驱动于Y轴方向时的反作用力及振动等传达至装置本体130。又,第3实施形态的基板载台装置PSTb,由于定点载台80搭载于装置本体130的一部分即本体部133a，Y步进定盘50搭载于一对架台40上，因此基板支承构件60b的Z位置(基板支承构件60b平行地沿XY平面移动时的移动平面的Z位置)与定点载台80的Z位置有可能会因例如防振装置34的作用而变化。因此，本第3实施形态中，基板支承构件60b,如图13 (A)所示，使用可相对X支承构件61b微幅移动于Z轴方向的保持构件161b吸附保持基板P (以在Z轴方向不拘束基板P的方式)(保持构件161b在图11 图12⑶中未图示)。保持构件161b由延伸于X轴方向的棒状构件构成，于其上面具有未图示的吸附垫(真空吸引用的配管等未图示)。在保持构件161b下面的长度方向两端部附近，分别安装有往下方(-Z侧)突出的销162b。销162b插入于形成在X支承构件61b上面的凹部内，被收容于该凹部内的压缩线圈弹簧从下方支承。藉此，保持构件161b (亦即基板P)能相对X支承构件61b移动于Z轴方向(上下方向)。因此，如上所述，假使基板支承构件60b的Z位置与定点载台80的Z位置偏移，基板P亦会依据空气悬浮装置70的Z位置而相对X支承构件61b移动(上下动)于Z轴方向，因此可抑制对基板P的Z轴方向的负荷。此外，亦可如图13(B)的基板支承构件60c所示，使用多个平行板弹簧装置162c使具有未图示吸附垫的保持构件161c相对X支承构件61b微幅移动于Z轴方向。又，本第3实施形态中，可将基板支承构件60b (或60c)与上述第2实施形态同样地构成为能相对Y步进定盘50微幅驱动于Y轴方向及θζ方向。此外，上述第I 第 3实施形态的液晶曝光装置的构成亦可适当变更。例如，上述第I及第2实施形态的基板支承构件60、160，虽从下方吸附保持基板P的构成，但并不限于此，亦可通过例如将基板P的端部往Y轴方向(从一方的X支承构件61侧往另一方的X支承构件61侧)按压的按压装置保持基板。此情形下，能对基板P的大致全面进行曝光处理。又，直进导引Y步进定盘50、150或基板支承构件60、160、6013、6(^的一轴导引装
置，亦可是包含由例如石材、陶瓷等形成的导引构件与多个气体静压轴承(空气轴承)的非接触一轴导引装置。又，作为驱动Y步进定盘50、150或基板支承构件60、160、60b、60c的驱动装置，亦
可是组合有滚珠螺杆与旋转马达的进给装置、组合有皮带(或绳)与旋转马达的皮带驱动
目.-rf* ο又，基板支承构件60、160、60b、60c的位置信息亦可使用线性编码器系统求出。又，亦可使用线性编码器系统独立求出基板支承构件60、160、60b、60c所具有的一对X支承构件61 (上述第3实施形态中为61b)各自的位置信息，此情形下，亦可不将一对X支承构件61彼此机械式地连结(不需要连结构件62)。
又，定点载台80(参照图4)中，驱动空气夹头装置88的Z音圈马达95的固定子95a，在其驱动反作用力小至可忽视对装置本体30造成的影响的程度时，亦可固定于基板载台架台33 (上述第3实施形态则为本体部133a)。又，定点载台80中，亦可将空气夹头装置88构成为可移动于X轴方向，在开始扫描曝光动作前，预先使真空预负荷空气轴承90位于基板P的移动方向上游侧(例如在图5 (A)所示的第I照射区域SI的曝光前为曝光区域IA的+X侧)，并在该位置预先进行基板P上面的面位置调整，伴随着基板P往扫描方向移动，使空气夹头装置88与基板P (基板支承构件60)同步移动(曝光中，使的在紧邻曝光区域IA的下方停止)。又，上述第I实施形态中，在扫描曝光时虽不进行基板P往Y轴方向及ΘΖ方向的微幅定位，但此情形下，亦可将光罩载台MST构成为能微幅驱动于Y轴方向及θ ζ方向，通过使光罩M追随基板P来进行位置对齐。又，亦可设置质量块，在使用线性马达驱动Y步进定盘50、基板支承构件60等可动构件时减低其驱动反作用力。又，照明光，不限于ArF准分子雷射光(波长193nm)，亦能使用KrF准分子雷射光(波长248nm)等紫外光、F2雷射光(波长157nm)等真空紫外光。另外，作为照明光，可使用例如谐波，其是掺有铒(或铒及镱两者)的光纤放大器，将从DFB半导体雷射或纤维雷射振荡出的红外线区或可见区的单一波长雷射光放大，并以非线形光学结晶将其转换波长成紫外光。又，亦可使用固态雷射(波长:355nm、266nm)等。又，上述各实施形态中，虽已说明投影光学系统PL是具备多支投影光学系统的多透镜方式的投影光学系统，但投影光学系统的支数不限于此，只要有一支以上即可。又，不限于多透镜方式的投影光学系统，亦可是使用了 OfTner型的大型反射镜的投影光学系统
坐寸ο又，上述实施形态中，虽说明使用投影倍率为等倍系统者来作为投影光学系统PL，但并不限于此，投影光学系统亦可是放大系统及缩小系统的任一者。此外，上述实施形态中，虽使用于具光透射性的基板上形成既定遮光图案(或相位图案，减光图案)的光透射性光罩(标线片)，但亦可使用例如美国发明专利第6，778，257号说明书所揭示的电子光罩来代替此标线片，该电子光罩(可变成形光罩)是根据欲曝光图案的电子资料来形成透射图案、反射图案、或发光图案，其使用例如非发光型影像显示元件(亦称为空间光调变器)的一种的DMD(Digital Micro-mirror Device)的可变成形光罩。此外，曝光装置，在适用为将尺寸(包含外径、对角线、一边至少一个)为500mm以上的基板、例如液晶显示元件等平板显示器(FPD)用的大型基板曝光的曝光装置时，特别有效。又，曝光装置亦可适用于步进重复方式的曝光处理、步进接合方式的曝光装置。又，曝光装置用途并不限定于将液晶显示元件图案转印至角型玻璃板的液晶用曝光装置，亦可广泛适用于用来制造例如半导体制造用的曝光装置、薄膜磁头、微型机器及DNA晶片等的曝光装置。又，除了制造半导体元件等微型元件以外，为了制造用于光曝光装置、EUV曝光装置、X射线曝光装置及电子射线曝光装置等的光罩或标线片，亦能将上述各实施形态适用于用以将电路图案转印至玻璃基板或硅晶圆等的曝光装置。此外，作为曝光对象的物体并不限玻璃板，亦可是例如晶圆、陶瓷基板、膜构件、或者空白光罩等其他物体。又，曝光对象物为平板显示器用的基板时，该基板的厚度不特别限定，亦包含例如膜状(具有可挠性的片状构件)者。又，作为使物体沿既定二维平面移动的移动体装置(载台装置)，并不限于曝光装置，亦可使用例如用于物体的检查的物体检查装置等进行物体相关的既定处理的物体处理
目.-rf* ο此外，援用与至此为止的说明中所引用的曝光装置等相关的所有美国发明专利申请公开说明书及美国发明专利说明书的揭示作为本说明书记载的一部分。《元件制造方法》其次，说明在微影步骤使用上述各实施形态的曝光装置的微型元件的制造方法。上述各实施形态的曝光装置10，可通过在板体(玻璃基板)上形成既定图案(电路图案、电极图案等)而制得作为微型元件的液晶显示元件。〈图案形成步骤〉首先，执行使 用上述各实施形态的曝光装置将图案像形成于感光性基板(涂布有光阻的玻璃基板等)的所谓光微影步骤。通过此光微影步骤，于感光性基板上形成包含多数个电极等的既定图案。其后，经曝光的基板，通过经过显影步骤、蚀刻步骤、光阻剥离步骤等各步骤而于基板上形成既定图案。〈彩色滤光片形成步骤〉其次，形成与R(Red)、G(Green)、B(Blue)对应的三个点的多数个排列成矩阵状、或将R、G、B的三条条纹的滤光器组多个排列于水平扫描线方向的彩色滤光片。〈单元组装步骤〉接着，使用在图案形成步骤制得的具有既定图案的基板、以及在彩色滤光片形成步骤制得的彩色滤光片等组装液晶面板(液晶单元)。例如于在图案形成步骤制得的具有既定图案的基板与在彩色滤光片形成步骤制得的彩色滤光片之间注入液晶，而制造液晶面板(液晶单元)。〈模组组装步骤〉其后，安装用以进行已组装完成的液晶面板(液晶单元)的显示动作的电路、背光等各零件，而完成液晶显示元件。此时，在图案形成步骤中，由于使用上述各实施形态的曝光装置而能以高产能且高精度进行板体的曝光，其结果能提升液晶显示元件的生产性。产业上应用:如以上所说明，本发明的物体移动装置适于沿既定二维平面驱动物体。又，本发明的物体处理装置适于对物体进行既定处理。又，本发明的曝光装置适于于物体形成既定图案。又，本发明的平板显示器的制造方法适于制造平板显示器。又，本发明的元件制造方法适于生产微型元件。以上所述的具体实施例，对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本发明的具体实施例而已，并不用于限定本发明的保护范围，凡在本发明的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
权利要求
1.一种移动体装置，其特征在于，包含: 第I移动体，可保持沿与水平面平行的既定二维平面配置的物体的端部，并且于至少所述二维平面内的第I方向以既定行程移动；以及 第2移动体，包含在所述第I移动体于所述第I方向的可移动范围内从下方支承所述物体的物体支承构件，并且能与所述第I移动体一起移动于在所述二维平面内与所述第I方向正交的第2方向。
2.根据权利要求1所述的移动体装置，其特征在于，所述第I移动体，通过包含设于所述第2移动体的导引构件的一轴导引装置在所述第2移动体上被导引于所述第I方向，且被限制相对所述第2移动体往所述第2方向的相对移动。
3.根据权利要求1或2所述的移动体装置，其特征在于，进一步具备: 所述第I移动体，通过包含设于所述第2移动体的固定子与设于所述第I移动体的可动子的线性马达而在所述第2移动体上被驱动于所述第I方向。
4.根据权利要求1所述 的移动体装置，其特征在于，进一步具备: 能在所述第2移动体上移动于所述第I方向的第3移动体，其中， 所述第I移动体通过被所述第3移动体诱导而移动于所述第I方向，且相对所述第3移动体被微幅驱动于所述第2方向及绕与所述二维平面正交的轴的方向的至少一方向。
5.根据权利要求4所述的移动体装置，其特征在于，所述第I移动体以非接触状态搭载于所述第2移动体上。
6.根据权利要求1至5所述的移动体装置，其特征在于，所述物体支承构件以非接触方式支承所述物体。
7.根据权利要求6所述的移动体装置，其特征在于，所述物体支承构件通过朝所述物体的下面喷出加压气体而以非接触方式支承所述物体。
8.根据权利要求1至7所述的移动体装置，其特征在于，进一步具备: 干涉仪系统，所述干涉仪系统对所述第I移动体所具有的反射面照射测距光束且接收其反射光，并且根据其反射光求出所述第I移动体的位置信息，其中， 所述第I移动体是根据所述干涉仪系统的输出而被控制于所述二维平面内的位置。
9.根据权利要求1至8所述的移动体装置，其特征在于，进一步具备: 调整装置，所述调整装置包含具有较所述物体面积小的保持面的保持装置，并且使用所述保持装置从所述物体下方保持所述物体之中与所述保持面对向的部分以调整与所述二维平面交叉的方向上的位置。
10.根据权利要求9所述的移动体装置，其特征在于，所述保持装置以非接触方式保持所述物体。
11.根据权利要求10所述的移动体装置，其特征在于，所述调整装置，通过从所述保持装置对所述物体喷出气体且吸引所述保持装置与所述物体之间的气体，如此以对所述物体施加重力方向的负荷而以非接触方式保持。
12.根据权利要求9至11所述的移动体装置，其特征在于，在所述二维平面内的所述调整装置的位置固定。
13.根据权利要求12所述的移动体装置，其特征在于，所述调整装置搭载于第I底座构件上；并且所述第2移动体在与所述第I底座构件于振动上分离的第2底座构件上移动于所述第2方向。
14.根据权利要求13所述的移动体装置，其特征在于，所述第I移动体将所述物体保持成能移动于与所述既定二维平面交叉的方向。
15.根据权利要求12至14所述的移动体装置，其特征在于，所述物体支承构件在所述第I方向于所述调整装置的一侧及另一侧支承所述物体。
16.根据权利要求9至15所述的移动体装置，其特征在于，所述调整装置进一步具有用以抵消所述保持装置的重量的重量抵消装置。
17.—种物体处理装置，其特征在于，具备: 权利要求9至16所述的移动体装置；以及 执行装置，其为了进行与所述物体相关的既定处理，从与所述保持装置相反的侧对所述物体中保持于所述保持装置的部分执行既定动作。
18.根据权利要求17所述的物体处理装置，其特征在于，所述执行装置使用能量束将既定图案形成于所述物体的装置。
19.一种曝光装置，其特征在于，具备: 权利要求1至16所述的移动体装置；以及 通过能量束使所述物体曝光 据以将既定图案形成于所述物体上的图案形成装置。
20.根据权利要求19所述的曝光装置，其特征在于，所述物体用于平板显示器装置的基板。
21.一种平板显示器的制造方法，其特征在于，包含: 使用权利要求20所述的曝光装置曝光所述基板；以及 显影曝光后的所述基板。
22.一种元件制造方法，其特征在于，包含: 使用权利要求19所述的曝光装置曝光所述物体；以及 显影曝光后的所述物体。
23.—种曝光装置，其特征在于，通过能量束使物体曝光据以将既定图案形成于所述物体上，其具备: 第I移动体，其保持沿与水平面平行的既定二维平面配置的所述物体的端部，并且于至少所述二维平面内的第I方向以既定行程移动； 第2移动体，包含在所述第I移动体于所述第I方向的可移动范围内从下方支承所述物体的物体支承构件，并且能与所述第I移动体一起移动于在所述二维平面内与所述第I方向正交的第2方向；以及 曝光系统，通过所述能量束曝光所述物体。
24.根据权利要求23所述的曝光装置，其特征在于，所述第I移动体，通过包含设于所述第2移动体的导引构件的一轴导引装置在所述第2移动体上被导引于所述第I方向，且被限制相对所述第2移动体往所述第2方向的相对移动。
25.根据权利要求23或24所述的曝光装置，其特征在于，所述第I移动体，通过包含设于所述第2移动体的固定子与设于所述第I移动体的可动子的线性马达而在所述第2移动体上被驱动于所述第I方向。
26.根据权利要求23所述的曝光装置，其特征在于，进一步具备: 能在所述第2移动体上移动于所述第I方向的第3移动体，其中， 所述第I移动体通过被所述第3移动体诱导而移动于所述第I方向，且相对所述第3移动体被微幅驱动于所述第2方向及绕与所述二维平面正交的轴的方向上的至少一方。
27.根据权利要求26所述的曝光装置，其特征在于，所述第I移动体以非接触状态搭载于所述第2移动体上。
28.根据权利要求23至27所述的曝光装置，其特征在于，所述物体支承构件以非接触方式支承所述物体。
29.根据权利要求28所述的曝光装置，其特征在于，所述物体支承构件通过朝所述物体的下面喷出加压气体而以非接触方式支承所述物体。
30.根据权利要求23至29所述的曝光装置，其特征在于，进一步具备: 测量所述第I移动体的位置信息的测量装置，其中， 所述第I移动体是根据所述测量装置的测量信息而被控制于所述二维平面内的位置。
31.根据权利要求23至30所述的曝光装置，其特征在于，进一步具备: 调整装置，所述调整装置包含具有较所述物体面积小的保持面的保持装置，通过所述保持装置从所述物体下方保持所述物体之中与所述保持面对向的部分以调整与所述二维平面交叉的方向上的位置。
32.根据权利要求31所述的曝光`装置，其特征在于，所述保持装置以非接触方式保持所述物体。
33.根据权利要求32所述的曝光装置，其特征在于，所述调整装置，通过从所述保持装置喷出的加压气体的所述保持装置与所述物体间的静压、以及通过真空吸引的所述保持装置与所述物体间的负压的平衡，而以非接触方式保持所述物体。
34.根据权利所述31至33所述的曝光装置，其特征在于，所述调整装置在所述二维平面内的位置固定。
35.根据权利要求34所述的曝光装置，其特征在于，所述调整装置搭载于第I底座构件上，并且 所述第2移动体在与所述第I底座构件振动上分离的第2底座构件上移动于所述第2方向。
36.根据权利要求35所述的曝光装置，其特征在于，所述第I移动体将所述物体保持成能移动于与所述既定二维平面交叉的方向。
37.根据权利要求34至36所述的曝光装置，其特征在于，所述物体支承构件在所述第I方向于所述调整装置的一侧及另一侧支承所述物体。
38.根据权利要求31至37所述的曝光装置，其特征在于，所述调整装置进一步具有用以抵消所述保持装置的重量的重量抵消装置。
39.根据权利要求23至38所述的曝光装置，其特征在于，所述物体用于平板显示器的基板。
40.一种平板显示器的制造方法，其特征在于，包含: 使用权利要求39所述的曝光装置曝光所述基板；以及 显影曝光后的所述基板。
41.一种元件制造方法，其特征在于，包含:使用权利要求23 至39所述的曝光装置曝光所述物体；以及显影曝光后的所述物体。
全文摘要
于基板载台装置(PST)中，搭载于Y步进定盘(50)上的基板支承构件(60)保持基板(P)。基板支承构件(60)于Y步进定盘(50)上以长行程移动于扫描方向。基板(P)与曝光区域(IA)对应的部位被定点载台(80)从下方以非接触方式吸附保持，其他部位被配置于Y步进定盘(50)上的多台空气悬浮装置(70)悬浮支承。基板(P)与曝光区域(IA)对应的部位，通过定点载台(80)被控制成基板(P)的面位置位于投影光学系统的焦深内。
文档编号H01L21/67GK103119518SQ20118004279
公开日2013年5月22日 申请日期2011年9月5日 优先权日2010年9月7日
发明者青木保夫 申请人:株式会社尼康