一种双腔多滤波峰带通滤波器的制作方法

文档序号:6786032阅读:333来源:国知局
专利名称:一种双腔多滤波峰带通滤波器的制作方法
技术领域
本发明涉及一种滤波器,具体涉及一种双腔多滤波峰带通滤波器。
背景技术
太赫兹(THz)波是位于微波和远红外线之间的电磁波。近年来,随着超快激光技术的发展,使得太赫兹脉冲的产生有了稳定、可靠的激发光源,从此使得人们能够研究太赫兹。太赫兹在生物医学、安全监测、无损伤探测、天文学、光谱与成像技术以及信息科学等领域有着广泛的应用。而太赫兹波段的开发和利用离不开太赫兹功能器件,太赫兹滤波器是太赫兹应用的一种基本的功能器件,也是太赫兹无线通信领域的重要器件,其发展一直备受重视。2008年,美国俄克拉荷马州立大学的D.Grischkowsky等在《光学快报》上报道了利用电化学腐蚀方法制备了光子晶体谐振腔结构,实现了从0.75-1.05THz的窄带可调谐滤波(Opt.Lett.,33, 348,2008)。2009年,基于二维介质的光子晶体太赫兹滤波得以实现。填充液晶等折射率可变材料,可以通过改变填充材料的折射率实现对滤波器的调谐。(J.0pt.Soc.AmB, 26 (I),101,2009)。2012 年,通过引入超材料(MetaMaterial),得到了超高带宽、较高透射的导通滤波器。(Chin.Phys.Lett.29 (9),094209,2012)多个滤波峰比起只有一个滤波来说,更易于实现密集波分复用(MDWM)。随着太赫兹频段的通讯技术越来越趋于成熟,可以预见在不久的将来,太赫兹波段的通讯会有迅猛地发展。而多个滤波峰对于电磁波通讯来说,相当于开通了多个通讯信道。由于光源的频率调节能力有限,所以几个密集、对称、等间距的滤波峰能够极大地提高通信系统的性能。但是,以上所述的带通滤波器都只有一个谐振腔,因此无法产生多个滤波峰,只有一个单通道可调谐滤波,在电磁波通讯领域的应用因而受到了限制。

发明内容
为了解决以上问题,本发明公开了一种双腔多滤波峰带通滤波器,其构成仅仅需要两种不同折射率的电介质,并采用两个缺陷层构成双腔,从而在太赫兹范围内可以产生多个滤波峰。通过调节两个缺陷层之间的空气层间隙的厚度,改变滤波峰的峰间距从而调节产生的滤波峰的数量,可以实现波分复用,拓展了滤波峰在电磁波通讯领域的应用。为了达到上述目的,本发明采用了以下技术方案:—种由电介质H和电介质L以及两个缺陷层D组成的双腔多滤波峰带通滤波器,其特征在于,包括:两个电介质组;一个位移台,包括水平位移台和竖直位移台;以及一个样品架,其中,一层电介质层L和一层电介质层H排列组成一个LH电介质对,电介质组包含复数个LH电介质对以及一层缺陷层D,LH电介质对依次排列,使得电介质层L和电介质层H交错排列,缺陷层D与最外面的电介质层H相邻排列,缺陷层D的折射率与电介质层L的折射率一致,缺陷层D的厚度为一层电介质层L的2倍,电介质层L和电介质层H的折射率不同,两个电介质组中的两个缺陷层D对向设置,中间间隔一定的空气层间隙G,两个电介质组固定在水平位移台上,位移台固定在样品架上,水平位移台用于调节空气层间隙G的大小。进一步,本发明的双腔多滤波峰带通滤波器,还可以具有这样的特征:其中,所述LH电介质对个数在2-10。另外,本发明的双腔多滤波峰带通滤波器,还可以具有这样的特征:

电介质层L的厚度Xl为:
权利要求
1.一种由电介质H和电介质L以及两个缺陷层D组成的双腔多滤波峰带通滤波器,其特征在于,包括: 两个电介质组; 一个位移台,包括水平位移台和竖直位移台;以及 一个样品架, 其中,一层所述电介质层L和一层所述电介质层H排列组成一个LH电介质对, 所述电介质组包含复数个所述LH电介质对以及一层缺陷层D,所述LH电介质对依次排列,使得所述电介质层L和所述电介质层H交错排列,所述缺陷层D与最外面的所述电介质层H相邻排列, 所述缺陷层D的折射率与所述电介质层L的折射率一致,所述缺陷层D的厚度为一层所述电介质层L的2倍, 所述电介质层L和所述电介质层H的折射率不同, 所述两个电介质组中的两个所述缺陷层D对向设置,中间间隔一定的空气层间隙G, 所述两个电介质组固定在所述水平位移台上, 所述位移台固定在所述样品架上, 所述水平位移台用于调节所述空气层间隙G的大小。
2.根据权利要求1所述的双腔多滤波峰带通滤波器,其特征在于: 其中,所述LH电介质对个数在2-10。
3.根据权利要求1所述的双腔多滤波峰带通滤波器,其特征在于: 所述电介质层L的厚度Xl为:
全文摘要
一种双腔多滤波峰带通滤波器,包括两个电介质组;一个位移台,包括水平位移台和竖直位移台;以及一个样品架。一层电介质层L和一层电介质层H排列组成一个LH电介质对a,电解质组包含复数个LH电介质对a以及一层缺陷层D,LH电介质对a依次排列,缺陷层D与最外面的电介质层H相邻排列,缺陷层D的折射率与电介质层L的折射率一致,缺陷层D的厚度为一层电介质层L的2倍,电介质层L和电介质层H的折射率不同,两个电介质组中的两个缺陷层D对向设置,中间间隔一定的空气层间隙G,两个电介质组固定在水平位移台上,水平位移台用于调节空气层间隙G的大小。
文档编号H01P1/20GK103149679SQ20131009846
公开日2013年6月12日 申请日期2013年3月26日 优先权日2013年3月26日
发明者陈麟, 朱亦鸣, 徐嘉明, 高春梅 申请人:上海理工大学
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