双D-π-A一甲川菁染料及其合成方法和应用的制作方法
【专利摘要】本发明公开了一种结构式（I）所示的双D-π-A一甲川菁染料，其使用1,3-二-(4-甲基喹啉)-2-丙醇二氯盐与含有甲硫基的不同杂环中间体反应，制备新型双D-π-A一甲川菁染料。制备得到的双D-π-A一甲川菁染料可在羟基化的单晶硅表面以共价键键合形成分子薄膜，使染料的光谱性能转嫁于单晶硅半导体，应用在光电材料和生物检测领域。
【专利说明】双D- π -A —甲川菁染料及其合成方法和应用
【技术领域】[0001]本发明涉及一种双D- -A —甲川菁染料及在硅片表面的成膜应用。
【背景技术】[0002]硅基材料具有稳定性好、成本低廉以及无环境污染等优点，已作为半导体材料广泛应用于微电子和太阳能光伏半导体领域。近年来，随着纳米技术以及电子学的快速发展，将有机功能分子在硅基材料表面共价键合成膜，对其进行表面修饰受到人们的广泛关注，成为研究的热点领域。[0003]将有机分子在硅基材料表面共价键合，可以使硅基材料表面形成有机分子层薄膜，使有机分子的性能转嫁于半导体，提高材料的表面性能，赋予传统硅基材料更多的功能，已被广泛应用于太阳能电池、分子存储器、分子开关、场效应晶体管、生物芯片和生物传感器等领域。
【发明内容】
[0004]本发明的目的之一是提供一种新型双D-π-Α—甲川菁染料；
本发明的另一目的是提供上述双D- π -A —甲川菁染料的合成方法；
本发明还有一个目的是提供双D- π -A 一甲川菁染料在硅片表面形成分子薄膜的应用。
[0005]本发明的实现过程如下:
【权利要求】
1.结构式(I)所示的双D--A—甲川菁染料，
2.权利要求1所述双D--A—甲川菁染料的制备方法，其特征在于包括以下步骤: (1)4-甲基喹啉与1,3-二氯-2-丙醇反应得到1,3-二-(4-甲基喹啉)-2-丙醇二氯盐；
3.根据权利要求2所述双D--A —甲川菁染料的制备方法，其特征在于:步骤(1)在N2保护下130~160°C反应。
4.根据权利要求2所述双D--A—甲川菁染料的制备方法，其特征在于:步骤(2)使用三こ胺为催化剂，こ醇为溶剂加热回流反应。
5.权利要求1所述的双D--A—甲川菁染料在硅片表面制备分子薄膜的应用。
【文档编号】H01G9/20GK103554955SQ201310458986
【公开日】2014年2月5日 申请日期:2013年10月7日 优先权日:2013年10月7日
【发明者】关丽, 张博睿, 张秀富, 王兰英 申请人:西北大学