一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚的制作方法
【专利摘要】一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，包括铜引脚主体，铜引脚主体上涂覆了一层铑薄膜，铑的化学稳定性很好，在铜引脚主体的表面涂覆一层铑薄膜后，铜引脚的抗氧化性和耐腐蚀性能够得到有效地提高，从而就能较好地抵抗泄漏的电解液的腐蚀，从而延长电容器的使用寿命，保障电子设备正常运转，不发生事故。
【专利说明】
【技术领域】
[0001] 本实用新型涉及电容器铜引脚【技术领域】，具体涉及一种涂覆铑薄膜的电容器铜引 脚。 一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚
【背景技术】
[0002] 电容器是电力、电子等领域中广泛应用的一种电子元件，在电路中起到耦合、滤 波、控制、整流、振荡等功能。电容器的结构包括阴极、阳极、电解质、外壳、套管、引脚等部 分。其中，引脚一般是用铜制造的，为了提高抗氧化能力，外面还要镀一层镍或锡。然而，电 容器在使用过程中，内部的电解液有时候会发生泄漏，对引脚产生腐蚀，当腐蚀到一定程度 后，引脚就会发生断裂，影响电子设备的正常工作，有时候甚至会发生严重的事故，造成严 重后果。
【发明内容】
[0003] 为了克服上述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种涂覆铑薄膜的电 容器铜引脚，使引脚具有高强度、高抗氧化性和耐腐蚀性，在工作过程中能较好地抵抗泄漏 的电解液的腐蚀，从而延长电容器的使用寿命，保障电子设备正常运转，不发生事故。
[0004] 为了达到上述目的，本实用新型采取的技术方案为：
[0005] -种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，包括铜引脚主体1，铜引脚主体1上涂覆了一层 铑薄膜2。
[0006] 所述的铜引脚主体1由红铜或黄铜制作。
[0007] 所述的铜引脚主体1的直径在0. lmm-lmm之间。
[0008] 所述的铑薄膜2采用电镀方法涂覆，或采用真空溅射方法涂覆。
[0009] 所述的铑薄膜2的厚度在20nm-200nm之间。
[0010] 本实用新型具有如下优点：铑的化学稳定性很好，在铜引脚主体1的表面涂覆一 层铑薄膜2后，铜引脚的抗氧化性和耐腐蚀性能够得到有效地提高，从而就能较好地抵抗 泄漏的电解液的腐蚀，从而延长电容器的使用寿命，保障电子设备正常运转，不发生事故。
【专利附图】
【附图说明】：
[0011] 图1是本实用新型的结构示意图。
【具体实施方式】：
[0012] 下面结合附图对本实用新型做进一步的详细说明。
[0013] 如图1所示，一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，包括铜引脚主体1，铜引脚主体1上 涂覆了一层铑薄膜2,铜引脚主体1用红铜制作，铜引脚主体1的直径为0. 5_，铑薄膜2采 用电镀方法涂覆，铑薄膜的厚度为50nm。
[0014] 本实用新型的工作原理为：
[0015] 铑的化学稳定性很好，在铜引脚主体1的表面涂覆一层铑薄膜2后，铜引脚的抗氧 化性和耐腐蚀性能够得到有效地提高，从而就能较好地抵抗泄漏的电解液的腐蚀，从而延 长电容器的使用寿命，保障电子设备正常运转，不发生事故。
【权利要求】
1. 一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，包括铜引脚主体（1)，其特征在于：铜引脚主体 (1)上涂覆了一层铑薄膜2。
2. 根据权利要求1所述的一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，其特征在于：所述的铜引 脚主体（1)由红铜或黄铜制作。
3. 根据权利要求1所述的一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，其特征在于：所述的铜引 脚主体（1)的直径在〇· lmm-lmm之间。
4. 根据权利要求1所述的一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，其特征在于：所述的铑薄 膜（2)采用电镀方法涂覆，或采用真空溅射方法涂覆。
5. 根据权利要求1所述的一种涂覆铑薄膜的电容器铜引脚，其特征在于：所述的铑薄 膜（2 )的厚度在20nm-200nm之间。
【文档编号】H01G9/008GK203850156SQ201420172804
【公开日】2014年9月24日 申请日期:2014年4月10日 优先权日:2014年4月10日
【发明者】尚苗, 蔺国民, 张文广, 周飞 申请人:西京学院