技术总结
本发明提供了一种残留物的清除方法，包括：提供一残留物去除对象，所述残留物去除对象的表面上具有残留物；在所述残留物去除对象的表面上形成抗反射涂层以吸附所述残留物；去除所述抗反射涂层。在本发明提供的残留物的清除方法中，通过在残留物去除对象的表面上涂布具有强烈粘附作用的抗反射涂层，使其表面上的残留物被粘在所述抗反射涂层上，之后去除所述抗反射涂层，从而实现清除残留物的目的，由此解决了残留物所引起的各种问题，提高了器件的特性和良率。
技术研发人员：侯红娟;刘轩;朱建野
受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司
文档号码：201510271913
技术研发日：2015.05.25
技术公布日：2017.01.04