技术总结
公开了一种对通过用准分子激光脉冲进行辐射而结晶的硅层(22)进行评价的方法。所述结晶根据层所暴露的脉冲的数量和脉冲中的能量密度ED而在结晶层上产生周期性特征。使用光(29)照明层的区域。由于周期性特征而从照明区衍射的光形成照明区域的显微图像。显微图像包括相应的周期性特征。通过测量显微图像中周期性特征的对比从而确定ED。
技术研发人员：P·范德威尔特
受保护的技术使用者：相干激光系统有限公司
文档号码：201580011771
技术研发日：2015.03.02
技术公布日：2017.02.22