技术总结
本发明提供一种气体喷射设备与包括该气体喷射设备的基板处理设备，这样能够将处理气体均匀地注入至和多个气体喷射孔相连通的多个气体流动通道中。根据本发明的气体喷射设备包括：主体，包括与用于喷射处理气体的多个气体喷射孔相连接的多个气体流动通道；以及一个或更多个气体注入模块，耦接至所述主体的至少一个侧表面以分别与所述多个气体流动通道相连通，其中所述气体注入模块能够初次缓冲从外部供给的处理气体，以及第二次缓冲初次缓冲后的处理气体，从而将缓冲后的处理气体注入至多个气体流动通道中。
技术研发人员：丁锡彻;金映录;韩钟国
受保护的技术使用者：周星工程股份有限公司
文档号码：201580019354
技术研发日：2015.04.03
技术公布日：2017.02.15