一种缓慢提升清洗架的制作方法

本发明涉及一种清洗架，尤其涉及一种缓慢提升清洗架。

背景技术：

在电子元件生产过程中，硅片的清洗至关重要，清洗的目的是要消除吸附在硅片表面的各类污染物，并制做能够减少表面太阳光反射的绒面结构，且清洗的洁净程度直接影响着电池片的成品率和可靠率。制绒是制造晶硅电池的第一道工艺，又称“表面织构化”。有效的绒面结构使得入射光在硅片表面多次反射和折射，增加了光的吸收，降低了反射率，有助于提高电池的性能。现有技术中通过在盐酸槽中同时引入盐酸管道与氢氟酸管道，在氢氟酸槽中同时引入氢氟酸管道与盐酸管道，从而可方便地获得盐酸与氢氟酸的混合溶液，方便进行上述单晶硅片制绒的清洗。但是在实际清洗的过程中硅片在盐酸槽中液面扰动较大，从而对置于其中的硅片的细微元器件有可能造成一定的形变等。

现有的技术手段是通过机械手的抓取将产品片盒缓慢的放入清洗槽中，这种自上而下的放置方式容易对液面进行干扰，同时取出时也会对产品在溶液中的位置进行干扰，造成液面扰动很大，影响硅片的成品质量。

如果通过慢转电机可以实现缓慢提升的功效，但是电机配套的减速器占用空间很大，在清洗槽内都是溶液的情况下，很难分布，对于有限空间内如何利用电机运转成为厂家在制造设备时的一大难题。

技术实现要素：

本发明所要解决的技术问题在于：提供一种缓慢提升清洗架，将产品片盒置于清洗架中放入和取出溶液，在慢转电机的作用下保证提升过程的缓慢和平稳，减少对液面的扰动。

为解决上述技术问题，本发明的技术方案是：一种缓慢提升清洗架，包括提升架、位于提升架下方的电机组件和产品片盒；所述的提身架位于所述的产品片盒的下方，承载所述的产品片盒；所述的电机组件位于所述的提升架的下方，通过履带与所述的提升架连接。

所述的提升架包括移动底板、升降滑轨、滑动护板、提升滑轮、限位顶板、限位底板、纵向底板和横向底板；所述的移动底板位于所的提升架的底部，与所述的限位底板相抵触；所述的升降滑轨竖直贯穿所述的移动底板，与所述的移动底板相配合，所述的移动底板在所述的升降滑轨上自由滑动；所述的滑动护板位于所述的升降滑轨上，与所述的升降滑轨相配合，同时与所述的限位底板固定连接；所述的限位顶板位于所述的升降滑轨的顶端，与所述的升降滑轨固定连接；所述的提升滑轮位于所述的限位顶板的两侧，与所述的限位顶板固定连接，同时通过履带分别与所述的移动底板和电机组件连接；所述的限位底板位于所述的滑动护板的下方，一端与所述的升降滑轨配合连接，下方与所述的移动底板相抵触，一端水平延伸，与所述的滑动护板固定连接；所述的纵向底板垂直于所述的限位底板，与所述的纵向底板固定连接；所述的横向底板平行与所述的限位底板，与所述的纵向底板固定连接。

进一步的，所述的移动底板上设置有滑动转轴；所述的滑动转轴有两个，对称分布在所述的移动底板上，通过履带与所述的提升滑轮连接。

进一步的，所述的升降滑轨、滑动护板、限位底板和提升滑轮的数量保持一致，均为两个，对称分布在所述的提升架的两侧。

进一步的，所述的滑动护板上设置有若干通孔。

进一步的，所述的纵向底板的数量不少于四个，外形与所述的产品片盒的底部相配合。

进一步的，所述的横向底板的数量不少于四个，两两分布在两个所述的纵向底板之间。

进一步的，所述的电机组件包括电机底板、传动转轴、驱动电机主轴、减速器、传动滑轮、转轴架和转轴底板；所述的电机底板位于所述的电机组件的最下方，与所述的转轴底板固定连接；电机位于所述的电机底板上，通过所述的驱动电机主轴与所述的减速器固定连接；所述的传动转轴贯穿所述的减速器，向所述的减速器的两侧延伸；所的转轴架位于所述的传动转轴的一端，所述的传动转轴穿过所述的转轴架；所述的转轴底板位于所述的转轴架的下方，与所述的转轴架和电机底板固定连接；所述的传动滑轮位于所述的传动转轴的一端外侧，同时位于所述的转轴架的外侧，与所述的传动转轴固定连接，通过履带与所述的提升架连接。

进一步的，所述的转轴架和传动滑轮的数量保持一致，均为两个，对称分布在所述的减速器的两侧。

与现有技术相比，本发明提供的一种缓慢提升清洗架可以通过电机慢转缓慢平稳地提升或下降整个提升架，将产品稳定地放入溶液中，通过电机组件降低转速，同时保证提升架的空间可以限制在清洗槽内，提高升降的平稳性，提高产品的质量。

附图说明

图1示出本发明的主视图。

图2示出本发明的左视图。

图3示出本发明的俯视图。

图4示出本发明的电机组件的主视图。

其中：1.产品片盒、2.提升架、3.电机组件、4.移动底板、5.升降滑轨、6.滑动护板、7.提升滑轮、8.限位底板、9.限位顶板、10.纵向底板、11.横向底板、12.通孔、13.传动滑轮、14.转轴架、15.传动转轴、16.减速器、17.驱动电机主轴、18.转轴底板、19.电机底板、20.滑动转轴。

具体实施方式

如图所示，一种缓慢提升清洗架，包括提升架2、位于提升架下方的电机组件3和产品片盒1；所述的提身架2位于所述的产品片盒1的下方，承载所述的产品片盒1，作为移动的主体使用；所述的电机组件3位于所述的提升架2的下方，通过履带与所述的提升架2连接，提供升降所需的动力。

所述的提升架2包括移动底板4、升降滑轨5、滑动护板6、提升滑轮7、限位顶板9、限位底板8、纵向底板10和横向底板11；所述的移动底板4位于所的提升架2的底部，与所述的限位底板8相抵触，通过履带拉动做提升或下降动作，带动整个所述的提升架2上升或下降；所述的升降滑轨5竖直贯穿所述的移动底板4，与所述的移动底板4相配合，所述的移动底板4在所述的升降滑轨5上自由滑动，作为升降运动的轨道使用；所述的滑动护板6位于所述的升降滑轨5上，与所述的升降滑轨5相配合，同时与所述的限位底板8固定连接，提供所述的提升架2移动时的横向强度，保持所述的产品片盒1的稳定性；所述的限位顶板9位于所述的升降滑轨5的顶端，与所述的升降滑轨5固定连接，限制所述的提升架2的上升高度；所述的提升滑轮7位于所述的限位顶板9的两侧，与所述的限位顶板9固定连接，同时通过履带分别与所述的移动底板4和电机组件3连接，电机转动时通过所述的电机组件3将动力传递给所述的移动底板4，所述的移动底板4进行移动带动整个所述的提升架2进行移动；所述的限位底板8位于所述的滑动护板6的下方，一端与所述的升降滑轨5配合连接,，下方与所述的移动底板4相抵触，一端水平延伸，与所述的滑动护板6固定连接，作为所述的产品片盒1的底板支撑使用；所述的纵向底板10垂直于所述的限位底板8，与所述的限位底板8固定连接，作为所述的产品片盒1的纵向底座使用；所述的横向底板11平行与所述的限位底板8，与所述的纵向底板10固定连接，作为所述的产品片盒1的横向底座使用。

进一步的，所述的移动底板4上设置有滑动转轴20；所述的滑动转轴20有两个，对称分布在所述的移动底板4上，通过履带与所述的提升滑轮7连接，履带固定在所述的滑动转轴20上，通过所述的提升滑轮拉升或下降。

进一步的，所述的升降滑轨5、滑动护板6、限位底板8和提升滑轮7的数量保持一致，均为两个，对称分布在所述的提升架2的两侧，保持整个所述的提升架2的稳定。

进一步的，所述的滑动护板6上设置有若干通孔12，用于渗入和排出清洗用的溶液。

进一步的，所述的纵向底板10的数量不少于四个，外形与所述的产品片盒1的底部相配合，固定所述的产品片盒1，可以保证一件所述的提升架2可以承载多个所述的产品片盒1。

进一步的，所述的横向底板11的数量不少于四个，两两分布在两个所述的纵向底板10之间，可以承载多个所述的产品片盒1。

进一步的，所述的电机组件3包括电机底板19、传动转轴15、驱动电机主轴17、减速器16、传动滑轮13、转轴架14和转轴底板18；所述的电机底板19位于所述的电机组件3的最下方，与所述的转轴底板18固定连接，作为电机的固定底板使用；电机位于所述的电机底板19上，通过所述的驱动电机主轴17与所述的减速器16固定连接，用于提供动力；所述的传动转轴15贯穿所述的减速器16，向所述的减速器16的两侧延伸，用于传递所述的驱动电机主轴17上传递的扭矩；所的转轴架14位于所述的传动转轴15的一端，所述的传动转轴15穿过所述的转轴架14，用于固定所述的传动转轴15；所述的转轴底板18位于所述的转轴架14的下方，与所述的转轴架14和电机底板19固定连接，作为所述的转轴架14的固定底板使用；所述的传动滑轮13位于所述的传动转轴15的一端外侧，同时位于所述的转轴架14的外侧，与所述的传动转轴15固定连接，通过履带与所述的提升架2连接，用于传递移动动力。

进一步的，所述的转轴架14和传动滑轮13的数量保持一致，均为两个，对称分布在所述的减速器16的两侧，与所述的提升滑轮7相对应，保证所述的提升架2的两端移动速度一致。

使用时，所述的提升滑轮7、传动滑轮13和滑动转轴20通过履带连接；所述的驱动电机主轴17开启，通过所述的减速器16降低转速，传递到所述的传动转轴15上，进过所述的传动滑轮13的转动带动履带，从而带动所述的提升滑轮7转动，履带拉动所述的滑动转轴20向上运动，带动所述的移动底板4向上运动，带动所述的限位底板8向上移动，而所述的滑动护板6与所述的限位底板8固定连接，通过所述的限位底板8向上运动，将向上的作用力分散到所述的滑动护板6上，从而将整个所述的提升架2平稳的向上滑动，达到提升的目的，在下降时，通过所述的提升架2的自身重力和所述的限位底板8的限制，将其缓慢下降。

通过将电机和减速器置于清洗槽的底部，通过外侧履带传动来节约空间，同时通过提升架的自身机构设计保证运动的平稳性从而达到目的。

最后需要说明的是，以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制性技术方案，本领域的普通技术人员应当理解，那些对本发明的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本技术方案的宗旨和范围，均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。