一种柔性导电膜及其应用的制作方法

技术领域：

本发明涉及光学膜，具体涉及柔性导电膜及其应用。

背景技术：
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ito导电膜主要应用于移动通讯领域的触摸屏生产、薄膜太阳能电池的透明电极、电致变色器件的电极材料、薄膜开关等领域，通产采用涂布加磁控溅射的方法生产得到。

触摸式屏幕在手机和平板电脑等有着越来越多的应用，触摸屏作为一种新型的输出设备已十分流行和普遍，因此作为触摸屏必不可少的透明导电膜需求量也越来也大。ito导电膜玻璃，即氧化铟锡(indium-tinoxide)透明导电膜玻璃，多通过ito导电膜玻璃生产线，在高度净化的厂房环境中，利用平面磁控技术，在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。产品广泛地用于液晶显示器(lcd)、太阳能电池、微电子ito导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。

以玻璃为有机基材的ito膜占用空间大；不易运输；易碎；虽然具有消影效果好，透过率高等优点但不能弯曲，不能满足市场柔性显示屏的要求。

传统的pet和coc有机基材的ito膜虽然能够弯曲，收缩率大；吸水率大；消影效果和透过率效果不如玻璃。

技术实现要素：
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本发明的目的是设计出了导电膜集玻璃基材的消影效果、透过率以及传统高分子有机基材的柔韧性为一体，满足了市场柔性显示屏的需求，选用合理的结构层、合理的厚度以及合适的折射率材料进行匹配实现了传统有机基材消影效果差，透过率差的技术问题。

为实现上述目的，本发明的技术方案为：

一种柔性导电膜，其包含cop基材层、折射率匹配层以及导电层，所述基材层具有第一光学面和第二光学面，所述折射率匹配层的折射率范围为1.4-1.52，所述折射率匹配层(121)的厚度范围为1.0-2.0μm。

进一步地，所述折射率匹配层包含低折射率层和第一硬化层，其特征在于，所述低折射率层的折射率范围为1.4-1.49，所述第一硬化层的折射率范围为1.50-1.52。

进一步地，所述所述第一硬化层的主要成分包含聚酯丙烯酸酯15-20％，丙二醇甲迷30％-50％，3-甲氧基-3-甲基-1-丁醇5％-10％，引发剂，0.1％-1％，助剂1％-5％，该组分的目的是合成1.50-1.52折射率的硬化液，同时满足硬化层与基材的附着力；以及硬化层与低折射率层的附着力根据“astm标准”能够达到5b的要求。进一步地，第一硬化层包含聚酯丙烯酸酯，所述聚酯丙烯酸酯选自环氧改性的脂肪族聚酯丙烯酸酯。

进一步地，所述丙烯酸酯选自聚酯丙烯酸酯，所述聚酯丙烯酸酯选自环氧改性的脂肪族聚酯丙烯酸酯。

进一步地，所述脂肪族聚酯丙烯酸酯选自(甲基)丙烯酸酯单体为季戊四醇、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸羟甲基丙酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸(2-羟乙基)异氰酸酯或(甲基)丙烯酸(2-羟乙基)异氰脲酸酯一种或者多种与琥珀酸，1,2,3-丙羧酸、戊二酸、内脂或者反应制得，其中，r2为c2～c10的撑基。

进一步地，所述的光引发剂为1-羟环己基苯甲酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、呫吨酮、芴酮、蒽醌、三苯胺、咔唑、3-甲基苯乙酮、4-氯二苯甲酮、4,4-二甲氧基二苯甲酮、4,4-二氨基二苯甲酮、米蚩酮、苯偶姻乙醚、苄基二甲基酮缩醇、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、噻吨酮、二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2,4,6-三甲基苯甲酰二苯基氧化膦、双-(2,6-二甲氧基苯甲酰)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦中的一种或两种以上的混合物。

进一步地，所述基材层的第一光学面上依次叠设有第一硬化层、低折射率层以及导电层。

进一步地，所述基材层的第一光学面上依次叠设有硬化层、第一硬化层、低折射率层以及导电层。

进一步地，所述基材层的第二光学面上设置有第二硬化层。

进一步地，所述基材层的第二光学面上依次叠设有第一硬化层、低折射率层以及导电层。

进一步地，所述基材层的厚度为30-180μm。

进一步地，所述低折射率层的厚度范围为20-50nm。

进一步地，所述第一硬化层的厚度范围为1.0-1.5μm。

进一步地，所述导电层的厚度范围为20-30nm，所述导电层的折射率范围为2.0-2.5。

进一步地，所述导电层为ito。

一种触摸屏，包含上述所述的柔性导电膜。

有益效果：

本发明是设计出了导电膜集玻璃基材的消影效果、透过率以及传统高分子有机基材的柔韧性为一体，满足了市场柔性显示屏的需求，选用合理的结构层、合理的厚度以及合适的折射率材料进行匹配实现了传统有机基材消影效果差，透过率差的技术问题。

附图说明：

下面结合结构示意图及实施例对本发明进一步说明。

图1示出了本发明的一种典型的实施例1提供的一种柔性导电膜结构示意图。

图2示出了本发明的一种典型的实施例2提供的一种柔性导电膜结构示意图。

具体实施方式：

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本申请中层间结构，各层的厚度，以及折射率的匹配关系使得本申请具有较高的综合性能。上述结构层厚度进行合理的折射率搭配保证了整个结构克服了消影效果差的技术问题的同时保证了高透过率。

实施例1

示意图1所示的一种柔性导电膜100，在厚度为50μm的cop基材10的第一光学表面和第二光学表面先进行电晕处理，通过涂布工艺在电晕处理过的cop基材10的第一光学表面涂布折射率为1.50的胶水固化后形成厚度为2μm的第一硬化层11。所述基材10的第二光学表面涂布折射率为1.50硬化胶水，固化后形成厚度为2μm的第二硬化层15，在所述第一硬化层11表面溅射厚度为30nm，折射率为1.40的二氧化硅形成低折射率匹配层12。在所述折射率匹配层12表面溅射厚度为25nm，折射率为2.3的ito层13。制成柔性导电膜1，测试结果膜的整体雾度为0.25％，沸水浴30minito层13不脱膜(百格：5b)；耐酸碱性能优异：15g/lnaoh55℃/10minito层13不脱膜(百格：5b)、1mol/lhcl/5minito层不脱膜(百格：5b)，电阻达150ω，反射率＜2％，透过率＞95％的特性，消影效果b*<1.5。

实施例2

示意图1所示的一种柔性导电膜100，在厚度为50μm的cop基材10的第一光学表面和第二光学表面先进行电晕处理，通过涂布工艺在电晕处理过的cop基材10的第一光学表面涂布折射率为1.52的胶水固化后形成厚度为2μm的第一硬化层11。所述基材10的第二光学表面涂布折射率为1.52硬化胶水，固化后形成厚度为2μm的第二硬化层15，在所述第一硬化层11表面溅射厚度为20nm，折射率为1.40的二氧化硅形成低折射率匹配层12。在所述折射率匹配层12表面溅射厚度为25nm，折射率为2.3的ito层13。制成柔性导电膜2，测试结果膜的整体雾度为0.25％，沸水浴30minito层13不脱膜(百格：5b)；耐酸碱性能优异：15g/lnaoh55℃/10minito层13不脱膜(百格：5b)、1mol/lhcl/5minito层不脱膜(百格：5b)，电阻达150ω，反射率＜1％，透过率＞97％的特性，消影效果b*<1.2。

实施例3

示意图1所示的一种柔性导电膜100，在厚度为50μm的cop基材10的第一光学表面和第二光学表面先进行电晕处理，通过涂布工艺在电晕处理过的cop基材的的第一光学表面涂布折射率为1.50的胶水固化后形成厚度为2μm的第一硬化层11，在所述基材10的第二光学表面涂布折射率为1.52硬化胶水，固化后形成厚度为2μm的第二硬化层15，在所述第一硬化层11表面溅射厚度为50nm，折射率为1.49的二氧化硅形成低折射率层12。在低折射率层12表面溅射厚度为25nm，折射率为2.3的ito层13。制成柔性导电膜3，测试结果膜的整体雾度为0.25％，沸水浴30minito层13不脱膜(百格：5b)；耐酸碱性能优异：15g/lnaoh55℃/10minito层13不脱膜(百格：5b)、1mol/lhcl/5minito层不脱膜(百格：5b)，电阻达150ω，反射率6％，透过率＞91％的特性，消影效果b*<2.5。

实施例4

示意图1所示的一种柔性导电膜100，在厚度为50μm的cop基材10的第一光学表面和第二光学表面先进行电晕处理，通过涂布工艺在电晕处理过的cop基材的的第一光学表面涂布折射率为1.50的胶水固化后形成厚度为2μm的第一硬化层11，在所述基材10的第二光学表面涂布折射率为1.50硬化胶水，固化后形成厚度为2μm的第二硬化层15，在所述第一硬化层11表面溅射厚度为50nm，折射率为1.49的二氧化硅形成低折射率层12。在低折射率层12表面溅射厚度为25nm，折射率为2.3的ito层13。制成柔性导电膜4，测试结果膜的整体雾度为0.25％，沸水浴30minito层13不脱膜(百格：5b)；耐酸碱性能优异：15g/lnaoh55℃/10minito层13不脱膜(百格：5b)、1mol/lhcl/5minito层不脱膜(百格：5b)，电阻达150ω，反射率6％，透过率＞91％的特性，消影效果b*<4。

实施例5

示意图2所示的一种柔性导电膜100，在厚度为50μm的cop基材10的第一光学表面和第二光学表面先进行电晕处理，通过涂布工艺在电晕处理过的cop基材10的第一光学表面涂布折射率为1.52的胶水固化后形成厚度为2μm的第一硬化层11，在所述第一硬化层11表面溅射厚度为30nm，折射率为1.40的二氧化硅形成低折射率层12。在所述低折射率层12表面溅射厚度为25nm，折射率为2.3的ito层13，在cop基材的第二光学表面上为第一光学表面镜像对称结构，其制备方法和结构与第一光学面一致。制成柔性导电膜5，测试结果膜的整体雾度为0.25％，沸水浴30minito层13不脱膜(百格：5b)；耐酸碱性能优异：15g/lnaoh55℃/10minito层13不脱膜(百格：5b)、1mol/lhcl/5minito层不脱膜(百格：5b)，电阻达150ω，反射率＜2％，透过率＞95％的特性，消影效果b*<1.5。。

实施例6

示意图2所示的一种柔性导电膜100，在厚度为50μm的cop基材10的第一光学表面和第二光学表面先进行电晕处理，通过涂布工艺在电晕处理过的cop基材10的第一光学表面涂布折射率为1.50的胶水固化后形成厚度为2μm的第一硬化层11，在所述第一硬化层11表面溅射厚度为30nm，折射率为1.49的二氧化硅形成低折射率层12。在低折射率层12表面溅射厚度为25nm，折射率为2.3的ito层13。在所述基材10的第二光学表面上为第一光学表面镜像对称结构，其制备方法和结构与第一光学面一致。制成柔性导电膜6，测试结果膜的整体雾度为0.25％，沸水浴30minito层13不脱膜(百格：5b)；耐酸碱性能优异：15g/lnaoh55℃/10minito层13不脱膜(百格：5b)、1mol/lhcl/5minito层不脱膜(百格：5b)，电阻达150ω，反射率＜8％，透过率＞90％的特性，消影效果b*<2.5。

由实施例1、2、3、4、5和6可知选用合理厚度和合理折射率的折射率匹配层与合理厚度的基材层搭配后再溅射导电层，获得的导电膜反射率低、透过率高，由此获得了完美的消影效果，且选用基材是柔性的，因此满足了柔性屏的需求。

以上所述仅为发明的较佳实施例，并不限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。企图据以对本发明作任何形式上之限制，是以，凡有在相同之发明精神下所作有关本发明之任何修饰或变更，皆仍应包括在本发明意图保护之范畴。