承载装置及反应腔室的制作方法

文档序号:15939779发布日期:2018-11-14 02:58阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供一种承载装置,用于承载晶片,在所述承载装置的承载面上设置有沟槽;在所述承载装置内还设置有与所述沟槽连通的竖直通道;在所述沟槽的边沿位置处设置有第一导电膜,所述第一导电膜用于与所述晶片相接触;在所述沟槽内设置有电连接所述第一导电膜的第一导电体;所述竖直通道内设置有第二导电体,所述第一导电体和所述第二导电体相连,第二导电体作为检测晶片电压的输出端。本发明还提供一种具有上述承载装置的反应腔室。本发明可直接检测晶片电压,不仅检测精度高,而且实现较简单和容易。

技术研发人员:史全宇;师帅涛;赵梦欣
受保护的技术使用者:北京北方华创微电子装备有限公司
技术研发日:2017.05.04
技术公布日:2018.11.13
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