技术特征：
技术总结
本发明揭示了一种阶梯结构的制造方法。本发明提供的一种阶梯结构的制造方法，包括提供一前端结构；刻蚀所述前端结构形成两个台阶；在所述两个台阶上形成遮蔽层；在所述遮蔽层上形成光刻胶层，并在光刻胶层中形成位于一个台阶上方的开口；自所述开口刻蚀所述遮蔽层和前端结构，形成三个台阶；以及去除所述光刻胶层和遮蔽层；其中，所述台阶包括一台阶面和一侧壁，所述台阶面一端与所述侧壁顶端相连接。由此采用较少的光刻次数，获得多个台阶。借助于遮蔽层的存在，使得光刻时的对准偏差所带来的缺陷被遮蔽层承受，规避了对准偏差所带来的缺陷。
技术研发人员：赵学峰;李立文;李志栓;汤光洪
受保护的技术使用者：杭州士兰集成电路有限公司
技术研发日：2017.06.29
技术公布日：2017.10.20