透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏与流程

本发明涉及光学
技术领域：
，具体而言，涉及一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏。
背景技术：
：市场上用于电容式触摸屏中的透明导电膜除了具有基材和ito层之外，通常还具有设置于基材两侧的硬化膜以及设置于基材与ito层之间的光学调整层(im)，这类硬化膜产品能够满足目前电容式触摸屏的基本需求。随着智能设备市场的迅速扩大及普及电容式触摸屏的品质要求也逐步提高，于此同时，价格竞争也越来愈激烈。在现有技术中用于电容式触摸屏的透明导电膜中，基材通常为pet材料，然而，pet材料的耐温性较差，从而会影响电容式触摸屏的耐候性，若采用耐温性较高的基材替换现有技术中的pet基材，由于耐温性较高的基材通常具有与硬化膜较大的折射率差，从而会导致透明导电膜出现干涉条纹，上述干涉条纹会影响电容式触摸屏的显示效果；并且，在产品的制备中ito层的蚀刻是必不可少的，而在蚀刻工艺中，ito层被蚀刻的纹路会因为基材在加热工序中的收缩而变形，光线在通过蚀刻凹坑与ito层的反射率差、色差或凹凸差别变得更加明显从使得而立体纹显露出来，从而导致最后做成的电容式触摸屏会因为明显的立体纹而严重影响产品的品质。技术实现要素：本发明的主要目的在于提供一种透明导电膜、其制备方法及电容式触摸屏，以解决现有技术中透明导电膜因为明显的立体纹而严重影响产品的品质的问题。为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种透明导电膜，包括层叠设置的基材层、光学调整层和ito层，其中，基材层的折射率为1.3～1.8，光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ito层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下。进一步地，上述基材层的折射率为1.4～1.7。进一步地，上述基体中设置有一种折射率材料，沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈线性递增；或沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈光滑曲线递增；优选的，沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈s型曲线递增或j型曲线递变。进一步地，上述折射率渐变层包括至少两种折射率材料，且沿折射率渐变方向各折射率材料的含量比例相互独立地呈平滑递增或者平滑递减。进一步地，上述折射率渐变层包括第一折射率材料和第二折射率材料，第一折射率材料和第二折射率材料的折射率不同，且沿折射率渐变方向第一折射率材料的含量比例递增，第二折射率材料的含量比例递减。进一步地，上述各折射率材料独立地选自气溶胶、硅胶、亚克力、聚氨酯、环氧化合物、聚碳酸酯、聚酰亚胺、金属、金属氟化物、无机氧化物、金属硫化物和中空有机高分子化合物，无机氧化物包括实体金属氧化物和中空无机氧化物。进一步地，上述各折射率材料的密度相互独立地分布在0.1～15g/cm3之间，优选在0.3～10g/cm3之间。进一步地，以其中任意一种折射率材料的粒径大小为标准，沿折射率递减方向将各折射率渐变层划分为x个子折射率层，各子折射率层的折射率不同，优选不同于作为标准的折射率材料中的任意一种设置在相邻的两个子折射率层中。进一步地，上述光学调整层还包括至少一组高折射率材料层和低折射率材料层，高折射率材料层和低折射率材料层设置在折射率渐变层和ito层之间，且各组高折射率材料层和低折射率材料层中高折射率材料层设置于低折射率材料层的远离ito层的一侧，其中，高折射率材料层的折射率为1.6～4.0，优选为1.65～2.8，低折射率材料层的折射率为1.2～1.5，优选为1.3～1.48。进一步地，上述光学调整层包括n组低折射率材料层和高折射率材料层，1≤n≤10，优选1≤n≤3。进一步地，上述基材层的玻璃转化温度大于120℃，优选基材层为具有结构式a的环烯烃的共聚物层、具有结构式b的环烯烃的聚合物层或pi层，结构式a为结构式b为n＝20～10000。进一步地，上述ito层中sn的含量为1～25wt％，优选为2～15wt％。进一步地，上述基材层的厚度为5～250μm，折射率渐变层的厚度为1～15μm，高折射率材料层的厚度为5～120nm，低折射率材料层的厚度为20～150nm，ito层的厚度为15～40nm；优选基材层的厚度为10～120μm，折射率渐变层的厚度为1.5～10μm，高折射率材料层的厚度为8～100nm，低折射率材料层的厚度为30～120nm，ito层的厚度为18～35nm。根据本发明的另一方面，提供了一种上述的透明导电膜的制备方法，包括以下步骤：s1，采用多层同时涂布工艺将包括折射率渐变层的原料的涂料、包括高折射率材料层的原料的涂料以及包括低折射率材料层的原料的涂料同步设置于基材层的表面并干燥，得到顺序层叠设置的基材层和光学调整层，上述同步设置中包括折射率渐变层的原料的涂料直接设置在基材层上、包括高折射率材料层的原料的涂料直接设置在已经设置的包括折射率渐变层的原料的涂料上、包括低折射率材料层的原料的涂料直接设置在已经设置的包括高折射率材料层的原料的涂料上；s2，在光学调整层的表面设置ito层。进一步地，上述光学调整层包括n组低折射率材料层和高折射率材料层，在步骤s1中，采用多层同时涂布工艺的涂布层数为1～50，优选多层同时涂布工艺的涂布速度为10～300m/min。进一步地，在上述步骤s1中，干燥的温度为30～250℃。根据本发明的另一方面，还提供了一种电容式触摸屏，包括透明导电薄膜，透明导电薄膜为上述的透明导电薄膜。应用本发明的技术方案，提供了一种包括层叠设置的基材层、光学调整层和ito层的透明导电膜，由于光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ito层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，从而使上述折射率渐变层能够具有较大的厚度，能够代替现有技术中的硬化膜，保证了透明导电膜的机械强度；并且，由于现有技术中的硬化膜层相比于基材层通常具有较大的折射率差异，硬化膜层厚度又在微米级别，容易产生较严重的干涉现象，影响了产品的光学品质，而利用折射率渐变层替代硬化层，通过使上述基材层的折射率为1.3～1.8，并使上述折射率渐变具有沿上述折射率渐变方向在1.3～2.0内平滑递变的折射率，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下，缩小了折射率渐变层与基材层之间的折射率差，有效地避免了干涉条纹的产生，进而使具有上述透明导电膜的电容式触摸屏能够具有良好显示效果的同时，具有与现有硬化层同样的机械强度。除了上面所描述的目的、特征和优点之外，本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图，对本发明作进一步详细的说明。附图说明构成本发明的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：图1示出了本发明实施方式所提供的一种透明导电膜的剖面结构示意图；图2示出了本发明实施方式所提供的一种透明导电膜中折射率渐变层的折射率随厚度变化的坐标示意图；图3示出了本发明实施方式所提供的一种折射率渐变复合薄膜中沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈线性递增的坐标示意图；图4示出了本发明实施方式所提供的一种折射率渐变复合薄膜中沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈s型递增的坐标示意图；图5示出了本发明实施方式所提供的一种折射率渐变复合薄膜中沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈j型递增的坐标示意图；图6示出了本发明实施方式所提供的一种包括低折射率材料层和高折射率材料层的透明导电膜的剖面结构示意图；以及图7示出了本发明实施方式所提供的一种透明导电膜的制备方法中实现多层同时涂布工艺的涂布设备的结构示意图。其中，上述附图包括以下附图标记：10、基材层；20、光学调整层；210、折射率渐变层；220、高折射率材料层；230、低折射率材料层；30、ito层；40、涂布设备；410、涂布头；420、滑动面；430、涂布轴。具体实施方式需要说明的是，在不冲突的情况下，本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。为了使本
技术领域：
的人员更好地理解本发明方案，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本发明保护的范围。需要说明的是，本发明的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本发明的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。正如
背景技术：
中所介绍的，现有技术中透明导电膜因为明显的立体纹而严重影响产品的品质。本申请的发明人针对上述问题进行研究，提出了一种透明导电膜，如图1所示，包括层叠设置的基材层10、光学调整层20和ito层30，其中，基材层10的折射率为1.3～1.8，光学调整层20包括折射率渐变层210，折射率渐变层210包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层210由基材层10指向ito层30的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层210的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，且折射率渐变层210与基材层10的接触面的折射率与基材层10的折射率之差在0.005以下。本发明的上述透明导电膜中由于光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ito层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，从而使上述折射率渐变层能够具有较大的厚度，能够代替现有技术中的硬化膜，保证了透明导电膜的机械强度。并且，由于现有技术中的硬化膜层相比于基材层通常具有较大的折射率差异，硬化膜层厚度又在微米级别，容易产生较严重的干涉现象，影响了产品的光学品质，而利用折射率渐变层替代硬化层，通过使基材层的折射率为1.3～1.8，并使上述折射率渐变具有沿上述折射率渐变方向在1.3～2.0内平滑递变的折射率，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下，缩小了折射率渐变层与基材层之间的折射率差，有效地避免了干涉条纹的产生，进而使具有上述透明导电膜的电容式触摸屏能够具有良好显示效果的同时，具有与现有硬化层同样的机械强度。在本发明的上述透明导电膜中，折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下是指，假如基材层10的折射率为1.48，那么折射率渐变层210与基材层10的接触面的折射率最好是从1.48开始，1.475-1.485是可选范围，折射率差越小越好，折射率渐变层210的折射率沿远离基材层10的方向呈平滑递变，可以渐变到的1.52或1.56。为了更为有效地避免干涉条纹的产生，优选地，上述折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.002以下在本发明的上述透明导电膜中，平滑递增是指以折射率渐变层210的折射率n和厚度h建立坐标轴，上述厚度h即由折射率渐变层210的第一表面指向第二表面的垂直距离，当厚度的刻度为纳米数量级如刻度区间为10nm时，折射率n与厚度h的关系在上述坐标轴中近似为一条直线或曲线，而不是分散的点，如图2所示，这是由于折射率渐变层210中由第一表面指向第二表面的方向上以5nm甚至1nm递进各点处的折射率都是不同的，且沿第一表面指向第二表面的方向各点处折射率材料的折射率递变。在本发明的上述透明导电膜中，通过控制折射率渐变层210中沿上述折射率渐变方向折射率材料的含量比例，以实现折射率渐变层210的渐变，在一种优选的实施方式中，沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈线性递增，例如，以折射率渐变层210中一种折射率材料的含量比例r和厚度h建立坐标轴，上述含量比例r随厚度h的变化关系可以如图3所示；在另一种优选的实施方式中，或沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例呈s型曲线递增或j型曲线递增，例如，以折射率渐变层210中一种折射率材料的含量比例r和厚度h建立坐标轴，当上述含量比例r随厚度h的变化呈s型曲线递增，上述含量比例r随厚度h的变化关系可以如图4所示，当上述含量比例r随厚度h的变化呈j型曲线递增，上述含量比例r随厚度h的变化关系可以如图5所示。为了使折射率渐变层210中沿折射率渐变方向折射率材料的含量比例能够呈s型曲线递增或j型曲线递增，在一种实施方式中，可以通过使折射率材料具有多种不同的粒径，并通过控制不同粒径的折射率材料用量比，使折射率材料的粒径大小在折射率渐变方向上呈s型曲线递增或j型曲线递增，从而实现了折射率材料的含量比例在折射率渐变方向上的s型曲线递增或j型曲线递增。在本发明的上述透明导电膜中，为了更为有效地实现折射率渐变层210的折射率渐变，折射率渐变层210可以包括至少两种折射率材料，且沿折射率渐变方向各折射率材料的含量比例呈平滑递增。在一种优选的实施方式中，折射率渐变层210包括第一折射率材料和第二折射率材料，第一折射率材料和第二折射率材料的折射率不同，且沿折射率渐变方向第一折射率材料的含量比例递增，第二折射率材料的含量比例递减。在本发明的上述透明导电膜中，优选地，折射率渐变层210包括至少两种折射率材料，以其中任意一种折射率材料的粒径大小为标准，沿折射率递减方向将折射率涂层划分为x个子折射率层，各子折射率层的折射率不同；更为优选地，不同于作为标准的折射率材料中的任意一种设置在相邻的两个子折射率层中。上述多个子折射率层可以理解将一层折射率渐变层210以一种折射率材料的粒径大小为标准，分隔而成的多个顺序层叠的子区域，通过以一种折射率材料的粒径大小为标准对一层折射率渐变层210进行分割，使各层子区域的厚度非常小，从而通过使各子折射率层的折射率不同，使该折射率渐变层210的折射率渐变分布更为均匀。为了实现折射率渐变层210中折射率材料的渐变分布，优选地，上述折射率材料独立地选自气溶胶、硅胶、亚克力、聚氨酯、环氧化合物、聚碳酸酯、聚酰亚胺、金属、金属氟化物、无机氧化物和金属硫化物、中空有机高分子化合物等不同折射率材料，无机氧化物包括实体金属氧化物和中空无机氧化物。但并不局限于上述优选的材料种类，本领域技术人员可以根据实际需求对折射率材料的种类进行合理选取。在本发明的上述透明导电膜中，优选地，折射率渐变层210中各折射率材料的密度相互独立地分布在0.1～15g/cm3之间，更为优选地，各折射率材料的密度相互独立地分布在0.3～10g/cm3之间。此时，可以根据折射率材料所具有的密度特性，将具有多种折射率的折射率材料混合并涂布得到折射率材料涂层，然后进行重力沉降，以使折射率不同的折射率材料以折射率递增的趋势沿由基材层10指向ito层30的方向分布，从而得到上述折射率渐变层210。在上述优选的实施方式中，同一层的折射率涂层中具有两种或两种以上的不同密度和折射率的材料组份因为发生重力沉降，使密度较大且折射率较大的材料组份在在同一层内底部分布较多，而密度小且折射率较小的材料组份在同一层顶部分布较多，从而形成了同一层内从顶部到底部折射率由小变大的一个均匀渐变结构。在本发明的上述透明导电膜中，还可以通过折射率材料所具有的在附加电场或磁场作用下移动的特性，以实现折射率渐变层中上述折射率材料的渐变分布。具体地，通过涂布折射率材料以形成折射率涂层，然后根据不同的折射率材料对折射率涂层施加其所需强度的电场或磁场，以使部分折射率材料向折射率涂层的表面移动，从而形成了从顶部到底部折射率渐变的折射率渐变层210。在本发明的上述透明导电膜中，还可以通过在包括折射率材料的原料中添加表面活性剂以形成折射率涂层，并将折射率涂层形成折射率渐变层，以实现折射率渐变层中上述折射率材料的渐变分布。具体地，控制原料中表面活性剂的含量，并涂布上述原料已形成折射率涂层，然后通过对折射率涂层进行乳化分散，利用乳化液滴分散梯度，以使表面活性剂带部分折射率材料向折射率涂层的表面移动，从而形成了顶部到底部折射率渐变的折射率渐变层210。在本发明的上述透明导电膜中，优选地，如图6所示，光学调整层20还包括至少一组高折射率材料层220和低折射率材料层230，高折射率材料层220和低折射率材料层230设置在折射率渐变层210和ito层30之间，且各组高折射率材料层220和低折射率材料层230中高折射率材料层220设置于低折射率材料层230的远离ito层30的一侧，其中，低折射率材料层230的折射率为1.2～1.5，高折射率材料层220的折射率为1.6～4.0；更为优选地，低折射率材料层230的折射率为1.3～1.48，高折射率材料层220的折射率为1.65～2.8。由于ito层是通过刻蚀工艺形成的，而在刻蚀工艺中，ito层被刻蚀的纹路会因为基材在加热工序中的收缩而变形，光线在通过蚀刻凹坑处与ito层表面的反射率差变得更加明显从使得而立体纹显露出来，而本发明通过设置上述高折射率材料层220和低折射率材料层230，能够通过合理调整高折射率材料层220和低折射率材料层230的折射率，有效地缩小了光线在刻蚀凹坑处与ito层表面时的反射率差，从而有效地缓解了上述立体纹现象，进一步提高了电容式触摸屏的显示效果。更为优选地，光学调整层20包括n组低折射率材料层230和高折射率材料层220，2≤n≤20，优选6≤n≤30。通过设置多组上述高折射率材料层220和低折射率材料层230，能够通过调整各层高折射率材料层220和各层低折射率材料层230的折射率，更为有效地改善光线在刻蚀凹坑处与ito层表面时的反射率差，从而更为有效地缓解了上述立体纹现象。在本发明的上述透明导电膜中，优选地，所述基材层10的折射率为1.4～1.7。通过采用具有上述优选的折射率范围的基材层能够更为有效地缩小折射率渐变层与基材层之间的折射率差，从而更为有效地避免了干涉条纹的产生。本领域技术人员还可以根据现有技术对上述基材层10的种类进行选择，为了提高上述透明导电膜的耐候性，优选地，上述基材层10的玻璃转化温度大于120℃；并且，由于形成基材层的通常为有机材料，形成折射率渐变层210的通常为无机材料，而无机材料与有机材料的收缩率差别较大，从而导致热收缩应力较大，从而不利于缓解上述立体纹现象，因此，更为优选地，上述基材层10为具有结构式a的环烯烃的共聚物层、具有结构式b的环烯烃的聚合物层或pi层，结构式a为结构式b为n＝20～10000。上述基材层10不仅能够具有优异的耐高温性，还能够有效地缩小与折射率渐变层210的收缩率差别，从而通过缩小热收缩应力，更为有效地缓解了上述立体纹现象。在本发明的上述透明导电膜中，为了提高其导电性能，优选地，上述ito层30中sn的含量为1～25wt％，更优选为2～15wt％。在本发明的上述透明导电膜中，本领域技术人员还可以根据现有技术对各层的厚度进行合理设定，为了在将上述透明导电膜应用于电容式触摸屏后，能够同时提高电容式触摸屏的耐候性和显示效果，优选地，基材层10的厚度为5～250μm，折射率渐变层210的厚度为1～15μm，高折射率材料层220的厚度为5～120nm，低折射率材料层230的厚度为20～150nm，ito层30的厚度为15～40nm；更为优选地，基材层10的厚度为10～120μm，折射率渐变层210的厚度为1.5～10μm，高折射率材料层220的厚度为8～100nm，低折射率材料层230的厚度为30～120nm，ito层30的厚度为18～35nm。根据本发明的另一方面，提供了一种上述的透明导电膜的制备方法，包括以下步骤：s1，采用多层同时涂布工艺将包括折射率渐变层210的原料的涂料、包括高折射率材料层220的原料的涂料以及包括低折射率材料层230的原料的涂料同步设置于基材层10的表面并干燥，得到顺序层叠设置的基材层10和光学调整层20，上述同步设置中包括折射率渐变层210的原料的涂料直接设置在基材层10层、包括高折射率材料层220的原料的涂料直接设置在已经设置的包括折射率渐变层210的原料的涂料上、包括低折射率材料层230的原料的涂料直接设置在已经设置的包括高折射率材料层220的原料的涂料上；s2，在光学调整层20的表面设置ito层30。上述多层同时涂布工艺即坡流涂布工艺，是能够实现将多层膜同时涂布于基材表面的工艺，可以采用如图7所示的涂布设备40实现上述多层同时涂布工艺，该涂布设备40包括涂布头410和涂布轴430，涂布头410的上表面为倾斜的滑动面420，使用于形成光学调整层20的涂料a和涂料b分别从涂布头之间的间隙流动至涂布头410的上表面后，涂料a和涂料b借助重力的作用从滑动面420流下，从而在滑动面420靠近涂布轴430的一端得到层叠的涂料，层叠的涂料转移到转动的涂布轴430表面的基材10上，进而得到具有多层结构的光学调整层20。本发明的上述制备方法中由于形成的光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ito层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，从而使上述折射率渐变层能够具有较大的厚度，能够代替现有技术中的硬化膜，保证了透明导电膜的机械强度。并且，由于现有技术中的硬化膜层相比于基材层通常具有较大的折射率差异，硬化膜层厚度又在微米级别，容易产生较严重的干涉现象，影响了产品的光学品质，而利用折射率渐变层替代硬化层，通过使上述基材层的折射率为1.3～1.8，并使上述折射率渐变具有沿上述折射率渐变方向在1.3～2.0内平滑递变的折射率，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下，缩小了折射率渐变层与基材层之间的折射率差，有效地避免了干涉条纹的产生，进而使具有上述透明导电膜的电容式触摸屏能够具有良好显示效果的同时，具有与现有硬化层同样的机械强度。下面将结合图1和图6更详细地描述根据本发明提供的透明导电膜的制备方法的示例性实施方式。然而，这些示例性实施方式可以由多种不同的形式来实施，并且不应当被解释为只限于这里所阐述的实施方式。应当理解的是，提供这些实施方式是为了使得本申请的公开彻底且完整，并且将这些示例性实施方式的构思充分传达给本领域普通技术人员。首先，执行步骤s1：采用多层同时涂布工艺将包括折射率渐变层210的原料的涂料、包括高折射率材料层220的原料的涂料以及包括低折射率材料层230的原料的涂料同步设置于基材层10的表面并干燥，得到顺序层叠设置的基材层10和光学调整层20，其中，包括折射率渐变层210的原料的涂料直接设置在基材层10层，包括高折射率材料层220的原料的涂料直接设置在已经设置的包括折射率渐变层210的原料的涂料上，包括低折射率材料层230的原料的涂料直接设置在已经设置的包括高折射率材料层220的原料的涂料上。上述光学调整层20包括n组低折射率材料层230和高折射率材料层220，此时，在步骤s1中，为了提高形成光学调整层20的工艺效率，优选地，在多层同时涂布工艺中，采用多层同时涂布工艺的涂布层数为1～50，更为优选地，多层同时涂布工艺的涂布速度为10～300m/min；并且，在干燥处理的工艺中，优选地，干燥的温度为30～250℃。根据本发明的另一方面，还提供了一种电容式触摸屏，包括上述的透明导电薄膜。由于该透明导电薄膜中的基材层的玻璃转化温度大于120℃，从而能够有效地提高透明导电膜的耐候性；并且，由于形成的光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ito层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，从而使上述折射率渐变层能够具有较大的厚度，能够代替现有技术中的硬化膜，保证了透明导电膜的机械强度。并且，由于现有技术中的硬化膜层相比于基材层通常具有较大的折射率差异，硬化膜层厚度又在微米级别，容易产生较严重的干涉现象，影响了产品的光学品质，而利用折射率渐变层替代硬化层，通过使上述基材层的折射率为1.3～1.8，并使上述折射率渐变具有沿上述折射率渐变方向在1.3～2.0内平滑递变的折射率，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下，缩小了折射率渐变层与基材层之间的折射率差，有效地避免了干涉条纹的产生，进而使具有上述透明导电膜的电容式触摸屏能够具有良好显示效果的同时，具有与现有硬化层同样的机械强度。下面将结合实施例进一步说明本发明提供的透明导电膜的制备方法。实施例1本实施例提供的透明导电膜的制备方法的步骤包括：提供厚度为50μm的基材层，该基材层为pi层；采用多层同时涂布工艺将折射率渐变层的原料、高折射率材料层的原料以及低折射率材料层的原料同步涂布于基材层的表面，涂布速率为15m/min，以在基材层表面得到顺序层叠设置的折射率渐变涂层、高折射率材料涂层以及低折射率材料涂层，其中，折射率渐变层的原料包括第一折射率材料和第二折射率材料，第一折射率材料为丙烯酸树脂dpha，其折射率为1.48～1.50，密度为1.08～1.20g/cm3，第二折射率材料为氧化锆粉体，其折射率为2.16～2.18，密度为5.83～5.86g/cm3，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差为0.004，高折射率材料层的原料为氧化锌与丙烯酸树脂混合物，其折射率为1.63，低折射率材料层的原料为丙烯酸树脂，其折射率为1.50；对折射率渐变涂层进行多层涂布渐变，沿折射率渐变方向第一折射率材料的含量比例递增，第二折射率材料的含量比例递减，形成折射率递增的趋势沿远离基材层的方向分布的折射率渐变涂层；将折射率渐变涂层、高折射率材料涂层以及低折射率材料涂层干燥，干燥的温度为25℃，以在基材层表面得到顺序层叠设置的1μm厚的折射率渐变层、5nm厚的高折射率材料层以及20nm厚的低折射率材料层；在光学调整层的表面设置厚度为15nm的ito层，ito层中sn的含量为0.5wt％。实施例2本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例1的区别在于：提供厚度为50μm的基材层，结构式为n＝8500～9200，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差为0.003。实施例3本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例1的区别在于：提供厚度为50μm的基材层，结构式为n＝9000～9500，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差为0.002。实施例4本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例3的区别在于：高折射率材料层的原料为二氧化钛与丙烯酸树脂混合物，其折射率为1.71，低折射率材料层的原料为二氧化硅与丙烯酸树脂混合物，其折射率为1.46。实施例5本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例4的区别在于：基材层的厚度为250μm，折射率渐变层的厚度为15μm，高折射率材料层的厚度为120nm，低折射率材料层的厚度为150nm，ito层的厚度为40nm；ito层中sn的含量为25wt％。实施例6本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例5的区别在于：基材层的厚度为10μm，折射率渐变层的厚度为1.5μm，高折射率材料层的厚度为8nm，低折射率材料层的厚度为30nm，ito层的厚度为18nm；ito层中sn的含量为2wt％。实施例7本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例6的区别在于：基材层的厚度为120μm，折射率渐变层的厚度为10μm，高折射率材料层的厚度为100nm，低折射率材料层的厚度为120nm，ito层的厚度为35nm；ito层中sn的含量为15wt％。实施例8本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例6的区别在于：多层同时涂布工艺的涂布速度为10m/min；干燥的温度为30℃。实施例9本实施例提供的透明导电膜的制备方法与实施例6的区别在于：多层同时涂布工艺的涂布速度为300m/min；干燥的温度为250℃。实施例10本实施例提供的透明导电膜的制备方法的步骤包括：提供厚度为60μm的基材层，结构式为n＝8500～9200；采用多层同时涂布工艺将折射率渐变层的原料、高折射率材料层的原料以及低折射率材料层的原料同步涂布于基材层的表面，涂布速率为150m/min，以在基材层表面得到顺序层叠设置的折射率渐变涂层、高折射率材料涂层以及低折射率材料涂层，其中，折射率渐变层的原料包括第一折射率材料和第二折射率材料，第一折射率材料为丙烯酸树脂dpha，其折射率为1.48～1.50，密度为1.08～1.20g/cm3，第二折射率材料为氧化锆粉体，其折射率为2.16～2.18，密度为5.83～5.86g/cm3，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差为0.001，高折射率材料层的原料为二氧化钛与丙烯酸树脂混合物，其折射率为1.71，低折射率材料层的原料为二氧化硅与丙烯酸树脂混合物，其折射率为1.46。对折射率渐变涂层进行重力沉降，沿折射率渐变方向第一折射率材料的含量比例递增，第二折射率材料的含量比例递减，形成折射率递增的趋势沿远离基材层的方向分布的折射率渐变涂层；将折射率渐变涂层、高折射率材料涂层以及低折射率材料涂层干燥，干燥的温度为150℃，以在基材层表面得到顺序层叠设置的5μm厚的折射率渐变层、50nm厚的高折射率材料层以及80nm厚的低折射率材料层；在光学调整层的表面设置厚度为25nm的ito层，ito层中sn的含量为10wt％。对上述实施例1至10中透明导电膜的性能进行测试，测试结果如下表所示。方阻(ω/□)透过率(％)干涉条纹立体纹实施例1510090.4○△实施例2530089.2○△实施例3560088.9○△实施例4550089.6○○实施例53888.1○○实施例618489.4○○实施例717889.0○△实施例819689.2○○实施例917089.4○○实施例109590.0○○上述干涉纹的判别方法：在三波长等下，垂直距离为20-30cm处，0度为垂直，正负90度内变换角度，裸眼进行反射观察，基本看不到为○，少量为△，较多为□，全面为×。上述立体纹的判别方法：在三波长等下，垂直距离为20-30cm处，0度为垂直，正负90度内变换角度，裸眼进行反射观察，基本看不到为○，轻度为△，中度为□，中度为×。从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果：1、由于光学调整层包括折射率渐变层，折射率渐变层包括基体以及设置于基体中的至少一种折射率材料，折射率渐变层由基材层指向ito层的方向为折射率渐变方向，沿折射率渐变方向折射率渐变层的折射率在1.3～2.0内呈平滑递变，从而使上述折射率渐变层能够具有较大的厚度，能够代替现有技术中的硬化膜，保证了透明导电膜的机械强度；2、由于现有技术中的硬化膜层相比于基材层通常具有较大的折射率差异，硬化膜层厚度又在微米级别，容易产生较严重的干涉现象，影响了产品的光学品质，而利用折射率渐变层替代硬化层，通过使上述基材层的折射率为1.3～1.8，并使上述折射率渐变具有沿上述折射率渐变方向在1.3～2.0内平滑递变的折射率，且折射率渐变层与基材层的接触面的折射率与基材层的折射率之差在0.005以下，缩小了折射率渐变层与基材层之间的折射率差，有效地避免了干涉条纹的产生，进而使具有上述透明导电膜的电容式触摸屏能够具有良好显示效果的同时，具有与现有硬化层同样的机械强度；3、由于耐高温基材层的玻璃转化温度大于120℃，从而能够有效地提高透明导电膜的耐候性。以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。当前第1页12