一种使用深N阱隔离的MRAM芯片的制作方法

文档序号:17890485发布日期:2019-06-13 15:35阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开了一种使用深N阱隔离的MRAM芯片,所述MRAM芯片包括MRAM器件及电路、P型半导体衬底、N阱和深N阱;所述N阱位于所述MRAM器件及电路外围,所述深N阱位于所述MRAM器件及电路下方,所述N阱底部与所述深N阱连接在一起,对所述MRAM器件及电路形成三维N阱‑深N阱隔离。本发明能够有效隔绝噪音,提高MRAM芯片读出稳定性。

技术研发人员:戴瑾;王志刚
受保护的技术使用者:上海磁宇信息科技有限公司
技术研发日:2017.12.01
技术公布日:2019.06.11
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