技术总结
本实用新型提供一种量子点膜，包括：第一基材层、量子点层、第一阻隔层、以及第二阻隔层；所述第一阻隔层夹设在所述第一基材层和所述量子点层之间；所述第二阻隔层覆盖所述量子点层的顶面和侧面。本实用新型的量子点膜当从量子点膜的侧面裁切量子点膜后，量子点层一样受到第二阻隔层的保护，从而有效避免侧面裁切后出现量子点层的失效问题。 1
技术研发人员：胡文玮
受保护的技术使用者：汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司
技术研发日：2017.05.23
技术公布日：2018.06.15