一种阵列基板及显示装置的制作方法

文档序号:13207821阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种阵列基板,包括透明基板和设置在所述透明基板上的TFT层,所述TFT层包括位于显示区域内的若干栅线和数据线以及位于外围区域的若干栅极走线和数据走线,所述栅极走线连接栅线和驱动IC,所述数据走线连接数据线和驱动IC;至少一条栅极走线的对应位置上重叠有第一修复线,和/或,至少一条数据走线的对应位置上重叠有第二修复线;其特征在于:所述栅极走线和第一修复线之间设置有第一间隔层,和/或,所述数据走线和第二修复线之间设置有第二间隔层。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:所述第一修复线位于所述栅极走线上方,与所述数据走线同层。

3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于:所述第一修复线和数据走线的材料相同。

4.根据权利要求1-3中任一所述的阵列基板,其特征在于:所述栅极走线和第一间隔层之间设置有第一绝缘层。

5.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于:所述第一间隔层为半导体材料。

6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于:所述第二修复线位于所述数据走线的下方,与所述栅极走线同层。

7.根据权利要求6所述的阵列基板,其特征在于:所述第二修复线和栅极走线的材料相同。

8.根据权利要求1、6或7中所述的阵列基板,其特征在于:所述第二间隔层和第二修复线之间设置有第二绝缘层。

9.根据权利要求8所述的阵列基板,其特征在于:所述第二间隔层为半导体材料。

10.一种显示装置,其特征在于:包括权利要求1-9中任一所述的阵列基板。

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