一种电感结构的制作方法

文档序号:15612546发布日期:2018-10-09 20:44阅读:199来源:国知局

本实用新型涉及电感线圈技术领域。



背景技术:

电感是电机领域里面不可或缺的部件之一,是能够把电能转化为磁能而存储起来的元件。电感器的结构类似于变压器,

而授权公告号为202352518U实用新型《纱浸胶绕制电感线圈一体化装置》,公开了一种电感制做的装置,包括放置在纱轴上的纱辊,放置有胶液的浸胶池和安装在绕线机上的线模,该装置还包括传动滚轮、控胶装置,所述纱轴放置在浸胶池一侧,在与玻璃纱辊相对的浸胶池另一侧安装有控胶装置,邻近控胶装置安装有绕制装置。本装置具有控胶装置,纱经浸胶池浸胶后,通过控胶装置内多组滚轮的挤压控胶后,便得到符合含胶要求的浸胶纱,直接进行电感线圈的绕制,实现了浸胶、绕制同步进行,减少了大量的中间环节,保证了电感线圈的质量。但这种结构是用浸胶方式来固定电感的。成本高不利于环保。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种结构简单、制造方便,节约企业成本的同时,可靠性高的一种电感结构。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种电感结构,包括磁棒,还具有绕制在磁棒上的线圈,磁棒的两端端面均具开有铣扁位,线圈位于磁棒的两端端部为最终圈,线圈的两端分别通过最终圈的绕出端绕出,且最终圈的绕出端贴合在铣扁位上,并通过铣扁位绕出,磁棒夹持在线圈两端的绕出端之间,绕出端的端部具有电感脚。

所述铣扁位具有翻折面和辅助面,翻折面和辅助面的一端分别从磁棒的端面两端起始,翻折面和辅助面的另一端相交,且翻折面与辅助面之间具有夹角a。

所述翻折面与辅助面之间具有夹角a为钝角。

所述最终圈的绕出端贴合在铣扁位的翻折面与辅助面上,实现绕出,绕出端通过贴合翻折面具有第一弯折,绕出端通过贴合辅助面,具有调整弯折,而绕出端从铣扁位绕出后,位于调整弯折的下方,绕出端具有第二弯折。

所述第一弯折的折角b为锐角,第二弯折的折角c为直角。

所述翻折面与辅助面的高度d为0.2~0.5mm。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

本实用新型中,是将磁棒固定后,线圈在磁棒上绕制后,两端线圈的最后一圈,即最终圈通过磁棒两端端部的铣扁处绕出,将磁棒夹在线圈的中间,防止磁棒从线圈中掉出,并且减少滴漆工序,提高生产效率,降低成本,产品更环保。

而相较于之前的电感浸漆工艺,本实用新型工艺简化,降低成本,满足环保要求,同时能够代替之前的电感浸漆工艺。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型线圈2绕制在磁棒1上的结构示意图;

图3为本实用新型铣扁位3的结构示意图;

图4为本实用新型翻折面7和辅助面8的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1-4,一种电感结构,包括磁棒1,还具有绕制在磁棒1上的线圈2,磁棒1的两端端面均具开有铣扁位3,线圈2位于磁棒1的两端端部为最终圈4,线圈2的两端分别通过最终圈4的绕出端5绕出,且最终圈4的绕出端5贴合在铣扁位3上,并通过铣扁位3绕出,磁棒1夹持在线圈2两端的绕出端5之间,绕出端5的端部具有电感脚6,电感脚6为线圈2去漆皮镀锡,且长度为7mm。

所述铣扁位3具有翻折面7和辅助面8,翻折面7和辅助面8的一端分别从磁棒1的端面两端起始,翻折面7和辅助面8的另一端相交,且翻折面7与辅助面8之间具有夹角a,通过翻折面7和辅助面8,能够对绕出端5实现弯折,使其改变方向,达到固定磁棒1的目的。

所述翻折面7与辅助面8之间具有夹角a为钝角,优选的角度范围为120°~150°,由于翻折面7与辅助面8之间的夹角,绕出端5能够在实现止挡磁棒1的同时,调整自己的绕出方向,方便后续绕出和后续操作。

所述最终圈4的绕出端5贴合在铣扁位3的翻折面7与辅助面8上,实现绕出,绕出端5通过贴合翻折面7具有第一弯折9,绕出端5通过贴合辅助面8,具有调整弯折10,而绕出端5从铣扁位3绕出后,位于调整弯折10的下方,绕出端5具有第二弯折11,通过第一弯折9,绕出端5能够夹持固定住磁棒1,而调整折弯10能够调整绕出端5的绕出角度,以方便后续加工出第二折弯11。

所述第一弯折9的折角b为锐角,第二弯折11的折角c为直角,折角b的范围优选为30°~70°,通过第一弯折9能够实现固定磁棒1,而第二弯折11的折角c为直角,这样的结构就方便引出电感脚6,同时便于电感脚6与外界的连接安装。

所述翻折面7与辅助面8的高度d为0.2~0.5mm。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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