一种硅片测试台的制作方法

本发明涉及半导体技术领域，特别涉及一种硅片测试台。

背景技术：

少子寿命是用来判定硅片完美性的重要指标之一，因此测试硅片的少子寿命就显得非常重要了。

现有技术中，通常采用硅片测试台对硅片的少子寿命和质量等进行检测，但在检测过程中，硅片测试台上的构件可能会使硅片产生污染物或损伤硅片，进而影响到硅片的少子寿命，导致硅片的少子寿命降低。

因此，急需提供一种硅片测试台，以解决硅片在检测时容易受损和产生污染物而导致少子寿命降低的问题。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种硅片测试台，以解决硅片在检测时容易受损和产生污染物而导致少子寿命降低的问题。

为了达到上述目的，本发明提供了一种硅片测试台，所述硅片测试台包括工作台、校准器及传送器；

所述传送器用于拾取待检测硅片并将拾取到的待检测硅片传送至所述工作台上，所述校准器用于对所述工作台上待检测硅片的位置进行调整，所述工作台用于检测待检测硅片；

所述工作台包括台体、升降杆和固定框，所述升降杆和固定框安装在所述台体上，所述升降杆位于所述固定框内，所述升降杆能够相对于所述固定框上下移动。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述固定框中设置有三个所述升降杆，所述升降杆具有第一端和第二端，所述升降杆的第一端嵌入在所述台体中，所述升降杆与所述台体上表面垂直，所述固定框中的三个所述升降杆呈三角形设置。

可选的，在所述的硅片测试台中，当所述升降杆升起后，所述升降杆的第二端高于所述固定框，所述升降杆降下后，所述升降杆的第二端与所述台体齐平。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述校准器包括调整结构，所述调整结构用于调整所述待检测硅片的位置。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述校准器还包括检测结构，所述检测结构用于检测所述待检测硅片的位置。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述传送器包括底座、第一传送臂和第二传送臂；

所述第一传送臂活动安装在所述底座上；所述第二传送臂活动安装在所述第一传送臂上。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述第一传送臂具有第一端和第二端，所述第一传送臂的第一端旋转连接在所述底座上，所述第一传送臂的第二端与所述第二传送臂旋转连接。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述第二传送臂具有第一端和第二端，所述第二传送臂的第一端与所述第一传送臂的第二端旋转连接，所述第二传送臂第一端叠在所述第一传送臂的第二端上；所述第二传送臂的第二端设置有凹口。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述第二传送臂的凹口处设置有固定设备。

可选的，在所述的硅片测试台中，所述第二传送臂上设置有真空吸盘。

在本发明提供的硅片测试台中，所述工作台上的固定框用于固定检测中的硅片，避免所述硅片在检测过程中滑移导致所述硅片表面损伤；本发明中避免采用在工作台上安装真空气孔来固定所述硅片，有效的减少了由于真空气孔固定所述硅片带来的污染，使所述硅片的少子寿命在检测过程中不会被影响，所述升降杆用于升降所述硅片，便于放置和取出所述硅片，且不会在放置和取出所述硅片过程中损坏所述硅片。

附图说明

图1为本发明实施例的硅片测试台的结构示意图；

图2为本发明实施例的工作台的结构示意图；

图3为本发明实施例的传送器的结构示意图；

其中，1-工作台；2-传送器；3-校准器；11-固定框；12-升降杆；21-底座；22-第一传送臂；23-第二传送臂；24-真空吸盘；25-凹口；26-连接设备；27-固定设备。

具体实施方式

下面将结合示意图对本发明的具体实施方式进行更详细的描述。根据下列描述和权利要求书，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

请参考图1、图2和图3，图1为本发明实施例的硅片测试台的结构示意图；图2为本发明实施例的工作台的结构示意图；图3为本发明实施例的传送器的结构示意图。

本发明提供了一种硅片测试台，所述硅片测试台包括工作台1、校准器3及传送器2；所述传送器2用于拾取待检测硅片并将拾取到的待检测硅片传送至所述工作台1上，所述校准器3用于对所述工作台1上待检测硅片的位置进行调整，所述工作台1用于检测待检测硅片。

通常的，所述硅片测试台用于检测待检测硅片的质量、少子寿命等，例如若硅片的少子寿命受到了影响，则会在少子寿命图上留下痕迹。

所述工作台1包括台体、升降杆12和固定框11，所述升降杆12和固定框11安装在所述台体上，所述升降杆12的位置在所述固定框11内，所述升降杆12相对于所述台体和所述固定框11上下移动。所述台体用于承载并检测待检测硅片，检测所述硅片是否有缺陷，检测所述硅片的少子寿命是否受到影响，检测所述硅片的质量等等；所述升降杆12用于升降所述硅片，便于放置和取出所述硅片，且不会在放置和取出所述硅片过程中损坏所述硅片。所述固定框11用于固定检测中的硅片，避免所述硅片在检测过程中滑移导致所述硅片表面损伤。

较佳的，所述工作台1上设置有不同型号的固定框11，所述固定框11用于固定不同型号，不同大小的待检测硅片，使各类硅片在检测过程中不滑移。

请参考图2，所述工作台1上的固定框11在所述工作台1上凸出固定框11的轮廓，所述固定框11的轮廓略微高于所述工作台1。所述固定框11的大小可以根据不同型号硅片的大小而决定，使固定框11的大小恰好能容纳待检测硅片，达到固定待检测硅片的作用，从而使待检测硅片在工作台1上不会滑移，满足了所述待检测硅片在检测过程中表面不受损的需求，本发明中采用所述固定框11而避免使用真空气孔固定所述待检测硅片，从而避免了所述硅片在检测过程中被真空气孔污染的可能性，使所述硅片的少子寿命在检测过程中不被影响。

在本发明实施例所提供的硅片测试台中，所述固定框11中设置有三个所述升降杆12，所述升降杆12具有第一端和第二端，所述升降杆12的第一端嵌入在所述台体中，所述升降杆12与所述台体上表面垂直，所述固定框11中的三个所述升降杆12呈三角形设置。

较佳的，所述升降杆12升降的方式类似于收缩雨伞的撑杆，可以伸长，伸长时就是所述升降杆12的上升阶段，可以缩短，缩短时就是所述升降杆12的下降阶段。

进一步的，当所述升降杆12升起后，所述升降杆12的第二端高于所述固定框11，所述升降杆12降下后，所述升降杆12的第二端与所述台体齐平。所述升降杆12第二端上升若高出了所述工作台1，便于所述传送器2将所述硅片放置或取走，所述升降杆12第二端若下降到与所述工作台1齐平，则便于更加准确的检测所述待检测硅片。

在本发明实施例所提供的硅片测试台中，所述校准器3包括调整结构，所述调整结构用于调整所述待检测硅片的位置。在所述校准器3确定待检测硅片的方位后，根据检测要求，调整所述硅片的位置，提高所述硅片检测的精准性。

进一步的，所述校准器3还包括检测结构，所述检测结构用于检测所述待检测硅片的位置。具体的，所述校准器3放射出x射线对所述待检测硅片的位置进行校对；目前大多利用红外线照射穿透所述待检测硅片对所述待检测硅片进行定位，而红外线穿透所述待检测硅片后，光线照射进所述固定框11的轮廓内，对所述固定框11内的红外线进行校准不易，而x射线照射所述待检测硅片后，不会穿透所述待检测硅片，射线经过所述待检测硅片表面反射出x射线，可以根据反射出的x射线与所述待检测硅片的夹角校准待检测硅片，有利于更加准确的对所述待检测硅片定位，因此本发明中采用x射线校准所述待检测硅片的位置，确保检测的精确性。

请参考图3，所述传送器2包括底座21、第一传送臂22和第二传送臂23；所述第一传送臂22活动安装在所述底座21上，所述第一传送臂22相对所述底座21能够移动；所述第二传送臂23活动安装在所述第一传送臂22上；所述第二传送臂23相对所述第一传送臂22能够移动。

较佳的，两个传送臂和底座21的材料可以是金属，也可以是其他化学物质合成的材料，底座21的高度根据实验室所述工作台1的高度而定，两个传送臂的厚度也是依据具体要求而定，所述传送器2可以设置为一个旋转折叠设备；例如可折叠风扇的扇骨、折叠水果刀的刀片和外壳的形状，依靠中间的连接设备26进行旋转，可以重叠。利用旋转折叠的方式设计所述传送器2，传送的范围广，且节约占地。

进一步的，在所述的硅片测试台中，所述第一传送臂22的两端分别为第一端和第二端，所述第一传送臂22的第一端通过连接设备26旋转连接在所述底座21上，所述第一传送臂22的第二端通过连接设备26与所述第二传送臂23旋转连接。

较佳的，所述第一传送臂22的形状可以是椭圆形或矩形等等，为使传送范围更广，传送臂可以尽可能长。本发明中的第一传送臂22可以起到一个增加传送距离的作用，若实验室需要传送的距离较短，可以取消所述第一传送臂22，若传送的距离较长，可以根据需求增加中间连接传送臂的数量。

进一步的，在所述的硅片测试台中，所述第二传送臂23的两端分别为第一端和第二端，所述第二传送臂23的第一端通过连接设备26与所述第一传送臂22的第二端旋转连接，所述第二传送臂23第一端叠在所述第一传送臂22的第二端上，在传送所述待检测硅片时也可以以连接设备26为中心进行旋转移动，将所述待检测硅片传送至目的地。

进一步，所述传送器2通过旋转所述第一传送臂22和所述第二传送臂23的连接设备26可以旋转移动所述第二传送臂23；所述传送器2通过旋转所述第一传送臂22与所述底座21的连接设备26可以旋转移动所述两个传送臂。本发明中所述传送器2底座21的位置可以是固定的，也可以是移动的。

优选的，所述第二传送臂23的第二端设置有凹口25。所述凹口25可以设置为一个幅度较大的圆弧凹口25，也可以设置为矩形凹口25；其作用是在取出和放置所述硅片的时候更加方便，在取出和放置所述硅片的时候不会损坏所述硅片的表面。

在本发明实施例所提供的硅片测试台中，所述第二传送臂23的凹口25处设置有固定设备27。所述传送器2在传送所述待检测硅片的过程中，所述待检测硅片放置在所述第二传送臂23上，通过设置了一个固定设备27在所述凹口25处，使所述待检测硅片在所述第二传送臂23上更加稳固。优选采用固定框11作为固定设备27，在所述传送器2取出所述待检测硅片后，用所述固定设备27固定所述待检测硅片，避免所述待检测硅片的传送过程中产生滑移和滑落，避免损伤和污染所述待检测硅片。

较佳的，所述第二传送臂23上设置有真空吸盘24。在待检测硅片比较小的情况下，本发明中采用真空吸盘24吸附所述待检测硅片，达到固定所述待检测硅片的作用。

在本发明实施例所提供的硅片测试台中，工作流程如下：所述传送器2从所述硅片盒子中取出待检测硅片，将所述硅片固定在所述传送器2上，将取到的待检测硅片传送至所述工作台1上，通过所述校准器3上的检测结构对所述工作台1上的所述待检测硅片的位置进行校准，采用所述调整结构对所述待检测硅片的位置进行调整，并调整至检测状态，所述工作台1对所述待检测硅片进行检测。

综上，在本发明提供的硅片测试台中，所述工作台上的固定框用于固定测试中的硅片，避免所述硅片在测试过程中滑移导致所述硅片表面损伤；本发明中避免采用在工作台上安装真空气孔来固定所述硅片，有效的减少了由于真空气孔固定所述硅片带来的污染，使所述硅片的少子寿命在检测过程中不会被影响，所述升降杆用于升降所述硅片，便于放置和取出所述硅片，且不会在放置和取出所述硅片过程中损坏所述硅片。

上述仅为本发明的优选实施例而已，并不对本发明起到任何限制作用。任何所属技术领域的技术人员，在不脱离本发明的技术方案的范围内，对本发明揭露的技术方案和技术内容做任何形式的等同替换或修改等变动，均属未脱离本发明的技术方案的内容，仍属于本发明的保护范围之内。