技术特征：
技术总结
本发明实施例提供一种湿刻蚀装置，涉及湿刻蚀技术领域，能够解决由于待刻蚀件在刻蚀槽中传送时间较长，无法实现较薄膜层的精细刻蚀问题。所述湿刻蚀装置包括：传送单元，用于在其正向运转时传送待刻蚀件依次经过缓冲单元、刻蚀单元和冲洗单元；搬运单元，用于将位于刻蚀单元的入口侧的待刻蚀件沿刻蚀单元的外侧搬运至冲洗单元处；控制单元，用于在待刻蚀件的待刻蚀膜层厚度小于或等于预设阈值时，控制搬运单元启动，以使搬运单元将待刻蚀件搬运至冲洗单元处的传送单元上；并控制传送单元反向运转后再正向运转，以使待刻蚀件从刻蚀单元的出口进入刻蚀单元的刻蚀槽中进行刻蚀，再从刻蚀单元的出口返回到冲洗单元内进行冲洗。本发明用于湿法刻蚀。
技术研发人员：周斌;王东方;赵策;成军;闫梁臣
受保护的技术使用者：京东方科技集团股份有限公司
技术研发日：2018.05.04
技术公布日：2018.09.21