技术特征：
技术总结
本发明涉及一种半导体光刻板生产领域，尤其涉及一种半导体光刻板快速清洗装置。一种半导体光刻板快速清洗装置，该装置包括外罩机架组件以及依次设置在外罩机架组件内的上料机构、旋转抓取装置、定位顶升输送滚轮装置、输送滚轮装置、直线移动抓取机构、清洗装置和第二输送滚轮装置；所述的直线移动抓取机构包括真空吸盘装置、直线移动传动轴、升降装置和纵向移动装置；该装置采用直线移动抓取机构进行抓取和清洗，提高了清洗的效率，自动化程度高，批量处理能力强，可以广泛用于工业生产之中。
技术研发人员：王加骇
受保护的技术使用者：王加骇
技术研发日：2018.06.14
技术公布日：2018.11.02