显示面板及显示面板的制备方法与流程

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板和一种显示面板的制备方法。

背景技术：

有机发光二极管(oled)是备受关注的显示技术方向。oled显示技术具有自发光，高亮度，高效发光，快速响应，低压驱动和低功耗，低成本，工序少等优点。oled技术广泛的运用于手机、数码摄像机、dvd机、个人数字助理(pda)、笔记本电脑、汽车音响和电视。

在有机发光二极管显示装置中，摄像头或一些光学元件设置在显示面板的外围或者位于显示面板下的非显示区域。由于显示屏的像素区域中设有金属电极、遮光层等不透明或透明度很低的结构，这些光学元件难以设置在与显示面板的像素对应的区域中。

技术实现要素：

本公开的实施例提供了一种显示面板，包括：显示区，所述显示区中设置有多个第一像素单元和多个第一透明部，所述第一透明部配置成将外界光从显示面板的一侧透射至另一侧，其中，各个第一像素单元之间被一个或更多个所述第一透明部间隔开。

在一些实施例中，在所述显示区中设置有非透明电极层，所述非透明电极层在所述第一像素单元中延伸并在所述第一透明部的正投影区设置电极层镂空区。

在一些实施例中，在所述显示区中还设置有遮光层，所述遮光层位于所述显示面板的光出射侧，所述遮光层在所述第一像素单元的正投影区设置有第一遮光层镂空区且在所述第一透明部的正投影区设置有第二遮光层镂空区，所述第一遮光层镂空区中设有彩色滤光层。

在一些实施例中，所述显示区包括：第一区域，所述多个第一像素单元和多个第一透明部位于所述第一区域；和第二区域，在所述第二区域中设置有多个第二像素单元，所述多个第二像素单元中的每个第二像素单元均与周围的第二像素单元相邻。

在一些实施例中，所述显示区还包括过渡区域，所述过渡区域位于所述第一区域和第二区域之间，且在所述过渡区域中设置有多个第三像素单元和多个第二透明部，其中，所述多个第二透明部的面积总和与所述多个第三像素单元的面积总和之比小于所述多个第一透明部的面积总和与所述多个第一像素单元的面积总和之比。

在一些实施例中，所述多个第一透明部的面积总和与所述多个第一像素单元的面积总和之比在1∶1至15∶1之间。

在一些实施例中，所述显示面板是有机发光二极管显示面板。

本公开的实施例还提供了一种显示面板的制备方法，所述显示面板具有衬底基板以及设置在衬底基板上的多个像素单元，所述方法包括：在多个像素单元之间形成多个透明部以将所述多个像素单元间隔开，所述透明部配置成将外界光从显示面板的一侧透射至另一侧。

在一些实施例中，所述在多个像素单元之间形成多个透明部以将所述多个像素单元间隔开的步骤包括：在衬底基板上形成电极去除部；在形成有电极去除部的衬底基板上形成非透明电极层；和去除非透明电极层在电极去除部上的部分以形成透明部。

在一些实施例中，所述电极去除部包括凸起结构。

在一些实施例中，所述在多个像素单元之间形成多个透明部以将所述多个像素单元间隔开的步骤还包括：在衬底基板上形成电极去除部之后，在形成有电极去除部的衬底基板上形成发光材料层。

在一些实施例中，所述在衬底基板上形成电极去除部的步骤包括：在衬底基板上形成发光材料层；以及在发光材料层上形成电极去除部。

在一些实施例中，所述非透明电极层和发光材料层通过蒸镀形成。

在一些实施例中，所述电极去除部包括防附着材料。

在一些实施例中，所述在多个像素单元之间形成多个透明部以将所述多个像素单元间隔开的步骤还包括：在非透明电极层上形成遮光层和彩色滤光层并去除遮光层和彩色滤光层位于所述透明部的正投影区的部分。

附图说明

为了更清楚地说明本公开文本的实施例的技术方案，下面将对实施例的附图进行简要说明，应当知道，以下描述的附图仅仅涉及本公开文本的一些实施例，而非对本公开文本的限制，其中：

图1示出根据本公开的一实施例的显示面板的局部示意图；

图2示出根据本公开的一实施例的显示面板的整体示意图；

图3示出根据本公开的一实施例的显示面板的局部剖视示意图；

图4示出根据本公开的另一实施例的显示面板的局部剖视示意图；

图5示出根据本公开的一实施例的显示面板的示意图，其中示出了过渡区域；

图6示出根据本公开的一实施例的显示面板上的第二区域(正常显示区域)的示意图；

图7示出根据本公开的一实施例的显示面板上的过渡区域的示意图；

图8示出根据本公开的一实施例的在显示面板上形成局部透明区域的方法的流程图；

图9示出图8中所示的步骤s10的具体步骤的示例性流程图；

图10示出图9中所示的步骤s11的具体步骤的示例性流程图；

图11示出图9中所示的步骤s15的具体步骤的示例性流程图；

图12示出根据本公开的一实施例的在显示面板上形成局部透明区域的方法中利用电极去除部部分地去除非透明电极层之前衬底基板上的结构的示意图；

图13示出根据本公开的一实施例的在显示面板上形成局部透明区域的方法中利用电极去除部部分地去除非透明电极层之后衬底基板上的结构的示意图；

图14示出根据本公开的另一实施例的在显示面板上形成局部透明区域的方法中形成非透明电极层之前衬底基板上的结构的示意图；以及

图15示出根据本公开的另一实施例的在显示面板上形成局部透明区域的方法中利用电极去除部部分地去除非透明电极层之后衬底基板上的结构的示意图。

具体实施方式

为更清楚地阐述本公开的目的、技术方案及优点，以下将结合附图对本公开的实施例进行详细的说明。应当理解，下文对于实施例的描述旨在对本公开的总体构思进行解释和说明，而不应当理解为是对本公开的限制。在说明书和附图中，相同或相似的附图标记指代相同或相似的部件或构件。为了清晰起见，附图不一定按比例绘制，并且附图中可能省略了一些公知部件和结构。

除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。措词“一”或“一个”不排除多个。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”“顶”或“底”等等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。当诸如层、膜、区域或衬底基板之类的元件被称作位于另一元件“上”或“下”时，该元件可以“直接”位于另一元件“上”或“下”，或者可以存在中间元件。

在实际中，显示装置除去显示面板之外可能还会包括诸如摄像头等一些光学器件以实现拍摄、信息识别等功能。而这些光学器件通常位于显示区之外。出于尽可能减少非显示区的面积的考虑，往往期望将这些光学器件设置于显示面板的显示区下方。然而，显示面板的显示区中往往设置有金属电极层、遮光层等等透光率较低的膜层，这使得这些光学器件可能难以获得足够的光能量来实现其功能。而在显示区中开辟一块区域完全去除与显示有关的部件以纯粹用于光学器件实现功能对于显示区的图像显示面积将造成很大的损失。为此，本发明人构思了一种具有局部透明的显示区的显示面板。在此，显示区是指显示面板上能够显示图像的区域。

图1示出了根据本公开的实施例的一种显示面板100的显示区的局部示意图。该显示区中设置有用于图像显示的多个像素单元(为描述方便起见，下称第一像素单元10)和能够将外界光从显示面板100的一侧透射至另一侧的多个透明部(为描述方便起见，下称第一透明部20)。在图1所示的显示区的局部中，第一像素单元10和第一透明部20混合地分布在一起。各个所述第一像素单元10之间分别被一个或更多个第一透明部20间隔开。显示区中这样包括混合分布的像素单元和透明部的区域，称为局部透明区域。这种局部透明区域的透光率比常规的布满像素单元的显示区域大，从而满足如前所述的位于显示面板下的光学器件对显示区透光率的要求。而且这种局部透明区域还保留了一定数量的像素单元来实现显示功能，使得该局部透明区域能够在满足光学器件的工作条件的情况下兼具显示功能。这对于实现全屏显示是很有帮助的。在图1所示的示例中，第一透明部20的面积总和与第一像素单元10的面积总和之比为3∶1，或者说第一像素单元10和第一透明部20的面积总和与第一像素单元10的面积总和之比为4∶1。然而，本公开的实施例不限于此，例如，上述局部透明区域中的第一透明部20的面积总和与第一像素单元10的面积总和之比可以设置在1∶1至15∶1之间。作为示例，第一像素单元10和第一透明部20可以在上述局部透明区域中交替分布，或者以其它任意图案混合分布。

在本文中，第一透明部、第二透明部等指的是显示面板的显示区中通过去除如非透明电极层、黑矩阵层等低透光率的膜层而形成的高透光率的部分。

图2示出了根据本公开的实施例的显示面板的整体的俯视图。通常具有额外功能的光学器件不会占据显示面板上的显示区的很大面积，而仅仅是位于一个比较小的局部，该局部可称为第一区域1(例如图2的上边缘区域)。于是，可以将上述多个第一像素单元10和多个第一透明部20混合地分布于该第一区域1中以将第一区域1形成为上述局部透明区域，而在不需要考虑满足光学器件对透光性的要求的正常显示区域(为描述方便下称第二区域2)中密集地布设像素单元以保证图像显示的分辨率。为了描述方便，位于第一区域1中的像素单元称为第一像素单元10，而位于第二区域2中的像素单元称为第二像素单元30。在第二区域2中，多个第二像素单元30中的每个第二像素单元30均与周围的第二像素单元30相邻，如图6所示。

所谓“在第二区域中所述多个第二像素单元中的每个第二像素单元均与周围的第二像素单元相邻”是指第二区域中所有的第二像素单元均未被上述第一透明部所隔开，即该第二区域中没有设置上述第一透明部，第二区域中的第二像素单元的密度对应于正常图像显示的分辨率。

由于在上述第一区域1和第二区域2中像素单元的密度会有所区别，因此，它们的显示效果也会有所不同。为了避免上述第一区域1和第二区域2之间的转变导致的显示效果的突变，显示区还可以包括位于所述第一区域1和第二区域2之间的过渡区域3(如图5所示)。在过渡区域3中可以设置有多个第三像素单元40和多个第二透明部50。过渡区域3中各个第二透明部50的面积总和与各个第三像素单元40的面积总和之比小于第一区域1中各个第一透明部20的面积总和与各个第一像素单元10的面积总和之比。也就是说，过渡区域3中像素单元的密度要大于第一区域1，而小于第二区域2。例如，如图1所示，第一区域1中的各个第一透明部20的面积总和与各个第一像素单元10的面积总和之比为3：1，而图7所示，过渡区域3中各个第二透明部50的面积总和与各个第三像素单元40的面积总和之比为1：1。

在一示例中，在显示区中设置有非透明电极层60(例如金属电极层)，如图3所示，所述非透明电极层60在第一像素单元10中延伸并在第一透明部20的正投影区21设置电极层镂空区61。该电极层镂空区61避免了经过第一透明部20处的光(如图3中的箭头所示)受到非透明电极层60的遮挡，保证了第一透明部20的透光效果。或者说，第一透明部20在很大程度上是由于电极层镂空区61(如通过去除非透明电极层相应的部分)的存在而形成的。在此，“第一透明部20的正投影区21”表示第一透明部20的正投影所覆盖的区域。或者说，设置于第一透明部20的正投影区21中的电极层镂空区61在衬底基板80上的正投影将落入第一透明部20在衬底基板80上的正投影中。

从图3上可以看出，显示面板100还可以包括用于实现显示功能的必要结构。例如，其可以包括衬底基板80、另一电极层81(例如可以用作阳极)、发光材料层82、薄膜封装83等等。作为示例，非透明电极层60可用作发光元件的阴极，但本公开的实施例不限于此，例如，非透明电极层60也可用作发光元件的阳极。需要说明的是，如果显示面板中设置有多个非透明电极层(例如另一电极层81也是非透明电极层(包括半透半反层))，则它们与第一透明部20相对应的部分都可以去除。

在另一示例中，在显示区中还设置有遮光层70，例如黑矩阵层。如图4所示，该遮光层70位于所述显示面板100的光出射侧。遮光层70在第一像素单元10的正投影区22形成第一遮光层镂空区71(与上述关于正投影区21的说明类似，在此，“第一像素单元10的正投影区22”表示第一像素单元10的正投影所覆盖的区域。或者说，位于第一像素单元10的正投影区22中的第一遮光层镂空区71在衬底基板上的正投影落入第一像素单元10在衬底基板上的正投影)，在该第一遮光层镂空区71中设有彩色滤光层90。该彩色滤光层90允许第一像素单元10发出的对应的颜色的光通过。该遮光层70和彩色滤光层90的组合可以防止外界杂散光对于图案显示的干扰。其可以用于替代圆偏光片。遮光层70在所述第一透明部20的正投影区21中设置有第二遮光层镂空区72。与上述电极层镂空区61类似，第二遮光层镂空区72也可以用于防止遮光层70对于外界光的遮挡，以保证第一透明部20的透光效果。在图4的示例中，由于显示面板100的光出射侧是背对衬底基板的一侧，因此非透明电极层60位于发光材料层82靠近衬底基板80的一侧，以防止非透明电极层60阻挡发光材料层82的出射光。在图4的示例中，所述另一电极层81可以为半透半反层，为了提高第一透明部20处的透光率，该另一电极层81在第一透明部20的正投影区21中的部分也被去除而形成了镂空部。

该遮光层70和彩色滤光层90的组合来替代圆偏光片来抑制外界杂散光，对于根据本公开的实施例的具有局部透明区域的显示面板是有益的。如果采用圆偏光片，为了保证第一透明部20的透光效果，也需要对圆偏光片处于第一透明部20的正投影区21的部分去除。但由于材质原因，圆偏光片的局部去除的加工难度较大，需要额外的复杂工艺来处理。而对于上述遮光层70，只需要对制作遮光层70的掩模图案进行调整就可以在形成第一遮光层镂空区71的同时形成第二遮光层镂空区72。即用于设置彩色滤光层90的第一遮光层镂空区71和用于形成第一透明部20的第二遮光层镂空区72可以在同一工艺步骤中形成。这可以避免因为透明部的设计而显著地增加显示面板的制作难度。

作为示例，第二遮光层镂空区72和电极层镂空区61在衬底基板上的正投影可以至少部分地重叠。作为示例，薄膜封装(tfe)83可以设置在非透明电极层60的上方，而遮光层70和彩色滤光层90可以位于薄膜封装83上方。

在一实施例中，该显示面板100可以是有机发光二极管显示面板。即显示面板100中的像素单元包括有机发光二极管器件作为发光器件。然而，本公开的实施例不限于此，本公开所给出的局部透明区域的设计也可以用于其他类型的显示面板。

本公开的实施例还提供了一种显示面板的制备方法200。该显示面板100具有衬底基板80以及设置在衬底基板80上的多个像素单元10、30、40。如图8所示，该方法包括步骤s10：在多个像素单元之间形成多个透明部以将所述多个像素单元分别间隔开，所述透明部配置成将外界光从显示面板的一侧透射至另一侧。如前所述，这种方式可以在显示面板的显示区中形成局部透明区域，以使该区域兼具高透光率和显示功能。在本公开的实施例中，衬底基板80可以是用于支撑发光器件的、由玻璃、树脂等透明材料制成的基板。

作为示例，如图9所示，在上述方法200中，所述步骤s10可以包括：

步骤s11：在衬底基板上形成电极去除部；

步骤s12：在形成有电极去除部的衬底基板上形成非透明电极层；和

步骤s13：去除非透明电极层在电极去除部上的部分以形成透明部。

对于非透明电极层(如金属电极层)的图案化，一种常规的方法是利用覆盖在非透明电极层上的光敏抗蚀剂来形成图案并基于在光敏抗蚀剂中的图案对非透明电极层进行蚀刻。然而，如果本显示面板为oled显示面板时，采用上述蚀刻工艺将会遇到问题。oled显示面板中发光器件中必然包含有机发光材料层，而有机发光材料层对于普通的蚀刻液往往比较敏感，普通的蚀刻工艺可能对有机发光材料层造成不期望的破坏。因此在本公开的上述实施例中，采用了另一种方式来去除非透明电极层的局部以形成透明部。

如图12所示，在形成非透明电极层60之前，先在衬底基板80上形成电极去除部。在该示例中，该电极去除部包括凸起结构84。该凸起结构84可以由光敏抗蚀剂(例如负性光敏抗蚀剂)制成。该凸起结构84例如可以具有倒梯形结构。在衬底基板80上形成有上述凸起结构84之后，再形成非透明电极层60，于是形成如图12所示的结构。之后，可以将凸起结构84剥离(例如通过剥离液(对于由光敏抗蚀剂制成的凸起结构，可以采用已知的光敏抗蚀剂剥离液))，从而将非透明电极层60附着于凸起结构84上的部分一起去掉。在借助于凸起结构84去掉非透明电极层60的相应部分之后，可以形成电极层镂空区61，如图13所示。

作为示例，步骤s10还可以包括步骤s14：在衬底基板上形成电极去除部之后、形成非透明电极层之前，在形成有电极去除部的衬底基板上形成发光材料层。在图9中以虚线框示出的是可选的步骤。如图12和13所示，发光材料层82和非透明电极层60可以依次形成到形成有电极去除部的衬底基板上。如上所述，在剥离电极去除部(凸起结构84)时，将其上的非透明电极层60和发光材料层82的相应部分一起去除掉。需要说明的是，通常而言，发光材料层82的透光率较高，因此，从提高透光率的角度，去除发光材料层的步骤是可选的。然而，对于图12和图13所示的示例，将形成发光材料层的步骤置于形成凸起结构84之后，有利于防止发光材料层受到之前的用于形成凸起结构84的工艺步骤的影响。需要说明的是，在图13示出的示例中，发光材料层82位于非透明电极层60下方(例如可以用于底发射结构)，但本公开的实施例不限于此，例如，发光材料层82也可以位于非透明电极层60上方(例如可以用于顶发射结构)。在后者的情况下，发光材料层82也可以在形成非透明电极层之后形成。

作为示例，步骤s11还可以包括：

步骤s111：在衬底基板上形成发光材料层；以及

步骤s112：在发光材料层上形成电极去除部。

图14和图15给出了一种电极去除部形成在发光材料层82上的示例。在该示例中，电极去除部包括防附着材料85。如图14所示，在形成发光材料层82完毕之后，将防附着材料85形成(例如通过蒸镀)于发光材料层82上的指定位置(例如可以借助于高精度金属掩模版(fmm)完成)。之后，形成非透明电极层60。防附着材料85可以是任何与非透明电极层60附着力很弱的材料(或者说是表面能与非透明电极层60不匹配的材料，例如为有机材料)。由于防附着材料85的特性，非透明电极层60中位于防附着材料85上的部分可以自动脱落，从而实现对于非透明电极层60相应部分的去除。

在本公开的上述实施例中，非透明电极层60可以通过蒸镀而形成。类似地，发光材料层82也可以通过蒸镀而形成。然而，本公开的实施例不限于此，非透明电极层60和发光材料层82也可以用其他的已知方式形成。

需要说明的是，对于位于发光材料层82靠近衬底基板80一侧的电极层，可以通过前述常规的光刻-蚀刻工艺来进行图案化，在此不再赘述。

作为示例，如图8所示，步骤s10还可以包括步骤s15：在非透明电极层上形成遮光层和彩色滤光层并去除遮光层和彩色滤光层位于所述透明部的正投影区的部分。如图4所示，显示面板100的光出射侧上可以设置有遮光层70和彩色滤光层90来抑制外界杂散光。在此情况下，可以通过在形成遮光层70和彩色滤光层90的图案的步骤中调整掩模的图案以避免在透明部的正投影区形成遮光层70和彩色滤光层90，以保证显示面板上该区域的较高透光性。

作为示例，如图11所示，步骤s15还可以包括：

步骤s151：在非透明电极层上形成薄膜封装；和

步骤s152：在薄膜封装上形成遮光层和彩色滤光层并去除遮光层和彩色滤光层位于所述透明部的正投影区的部分。薄膜封装83例如可以包括三层结构，即sinx/有机材料(可由喷墨工艺制成)/sinx。薄膜封装83用于遮盖显示面板中的非透明电极层60、发光材料层82等，将它们与遮光层70和彩色滤光层90分隔开。

本领域技术人员应当理解，除去上述介绍的非透明电极层60(例如用作阴极)、发光材料层82、遮光层70和彩色滤光层90等等，显示面板100上还可设置有其他膜层，如另一电极层81(例如用作阳极)、绝缘层等等。这些膜层的形成工艺与现有技术中完全相同，因此不再赘述。这些膜层在图12至图15中也没有示出。当另一电极层81为透明电极层时，其相应的部分可以被去除，也可以不被去除。

在本公开的实施例中，每个像素单元中可以包括发光器件。该发光器件例如可以包括阳极、阴极以及位于阳极和阴极之间的有机发光材料层。作为示例，发光器件中还可以包括空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、电子注入层等，以提高发光效率。然而本公开的实施例不限于此，其他的已知的发光器件也可采用，且不限于有机发光二极管发光器件。

虽然结合附图对本公开进行了说明，但是附图中公开的实施例旨在对本公开的实施例进行示例性说明，而不能理解为对本公开的一种限制。附图中的尺寸比例仅仅是示意性的，并不能理解为对本公开的限制。

上述实施例仅例示性的说明了本公开的原理及构造，而非用于限制本公开，本领域的技术人员应明白，在不偏离本公开的总体构思的情况下，对本公开所作的任何改变和改进都在本公开的范围内。本公开的保护范围，应如本申请的权利要求书所界定的范围为准。