柔性显示装置及其制造方法与流程

本公开涉及柔性显示装置及其制造方法。更具体地，本公开涉及一种可在卷曲状态与伸展状态之间切换的可卷曲显示装置以及及其制造方法。

背景技术：

显示装置应用于诸如tv、移动电话、笔记本和平板之类的各种电子装置。因此，正在继续研究以开发更薄、更轻且功耗更低的显示装置。

显示装置的典型示例可以包括液晶显示装置(lcd)、等离子体显示面板装置(pdp)、场发射显示装置(fed)、电致发光显示装置(eld)、电润湿显示装置(ewd)和有机发光显示装置(oled)等。

在此类显示装置中，为了防止其中的内置组件和布线的损坏或破裂，其显示面板通常是以平坦形式提供的并且在平坦状态下被驱动。结果，平坦型显示装置的应用受到限制。

为了拓宽显示装置的应用，已经提出了具有由柔性材料制成的柔性基板的柔性显示装置。作为示例，柔性显示装置包括可弯曲显示装置、可折叠显示装置和可卷曲显示装置。

然而，在常规的柔性显示装置中，基板由诸如塑料之类的柔性材料制成以使其具有柔性。由塑料制成的这种柔性基板可能易受外部物理冲击的破坏。另外，为了获得由柔性材料制成的基板，可以对用于柔性基板的载体基板执行激光剥离工艺。在这种情况下，当激光照射的均匀性降低时，存在由柔性材料制成的基板与载体基板一起剥离的问题。

技术实现要素：

本发明内容被提供来以简化的形式引入对下面在具体实施方式中进一步描述的一些构思。本发明内容不旨在标识所要求保护的主题的所有关键特征或必要特征，也不旨在被单独用于帮助确定所要求保护的主题的范围。

本公开旨在提供一种减少由于对其的外部物理冲击而导致的损坏的柔性显示装置，并且旨在提供了一种用于制造该装置的方法。

此外，本公开旨在提供一种柔性显示装置，该柔性显示装置具有被构造为使得在没有激光剥离工艺的情况下生产该装置的结构，并且旨在提供一种用于制造该装置的方法。

本公开的目的不限于以上提及的目的。如以上未提及的本公开的其它目的和优点可以从以下描述中理解，并且从本公开的实施方式中更清楚地理解。此外，将容易地认识到，可以通过如权利要求中所公开的特征及其组合来实现本公开的目的和优点。

在本公开的一个方面中，提供了一种柔性显示装置，该柔性显示装置包括：支撑基板，该支撑基板具有第一厚度并且由第一材料制成，其中，所述支撑基板包括彼此相反的第一主面和第二主面；缓冲基板，该缓冲基板被设置在所述支撑基板的所述第一主面上，其中，所述缓冲基板具有小于所述第一厚度的第二厚度并且由比所述第一材料柔性更高的第二材料制成；薄膜晶体管阵列，该薄膜晶体管阵列被设置在所述缓冲基板上，其中，所述缓冲基板被设置在所述薄膜晶体管阵列与所述支撑基板之间；以及密封基板，该密封基板被固定地设置在所述薄膜晶体管阵列上方，其中，所述薄膜晶体管阵列被设置在所述缓冲基板与所述密封基板之间。

在所述装置的一个实现方式中，所述第一材料包括玻璃，其中，所述第一厚度在50μm(含)与100μm(含)之间。

在所述装置的一个实现方式中，所述第二材料包括从包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚酰亚胺(pi)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)、聚碳酸酯(pc)、聚苯乙烯(ps)和聚醚砜(pes)的组中选择的一种，其中，所述第二厚度在3μm至20μm(含)的范围内。

在所述装置的一个实现方式中，当所述装置具有卷曲形式时，所述装置的曲率半径在40mm与3500mm(含)之间。

在所述装置的一个实现方式中，所述装置还包括设置在所述密封基板上的卷曲辅助膜，其中，所述密封基板被设置在所述卷曲辅助膜与所述薄膜晶体管阵列之间，其中，所述卷曲辅助膜被构造为促进所述柔性显示装置卷曲成卷曲形式。

在所述装置的一个实现方式中，所述装置还包括设置在所述薄膜晶体管阵列与所述密封基板之间的有机发光元件阵列，其中，所述有机发光元件阵列包括分别与多个子像素对应的多个有机发光元件，其中，所述有机发光元件阵列被所述密封基板密封。

在所述装置的一个实现方式中，所述装置还包括设置在所述支撑基板的所述第二主面上的偏振膜，其中，所述偏振膜被构造为使从所述有机发光元件阵列发出的光偏振，其中，所述偏振膜具有170μm至650μm(含)的范围内的厚度。

在本公开的另一方面中，提供了一种用于制造柔性显示装置的方法，该方法包括：提供由第一材料制成的载体基板，其中，该载体基板包括彼此相反的第一主面和第二主面；在所述载体基板的所述第一主面上设置缓冲基板，其中，所述缓冲基板由比所述第一材料柔性更高的第二材料制成；在所述缓冲基板上设置薄膜晶体管阵列；在所述薄膜晶体管阵列上设置有机发光元件阵列，其中，该有机发光元件阵列包括分别与多个子像素对应的多个有机发光元件；在所述有机发光元件阵列上固定地设置密封基板，使得所述薄膜晶体管阵列和所述有机发光元件阵列被设置并密封在所述缓冲基板与所述密封基板之间；以及从所述载体基板的所述第二主面对所述载体基板的一部分进行蚀刻和抛光以提供所述载体基板的剩余部分作为支撑基板，其中，所述支撑基板具有第一厚度。

在所述方法的一个实现方式中，所述第一材料包括玻璃，其中，所述第一厚度在50μm(含)与100μm(含)之间。

在所述方法的一个实现方式中，所述第二材料包括从包括聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚酰亚胺(pi)、聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)、聚碳酸酯(pc)、聚苯乙烯(ps)和聚醚砜(pes)的组中选择的一种，其中，所述缓冲基板具有3μm至20μm(含)的范围内的第二厚度。

在所述方法的一个实现方式中，所述方法还包括，在所述载体基板的蚀刻之后，在所述支撑基板上设置偏振膜，其中，所述支撑基板被设置在所述偏振膜与所述缓冲基板之间，其中，所述偏振膜被构造为使从所述有机发光元件阵列发出的光偏振。

在所述方法的一个实现方式中，所述方法还包括，在所述载体基板的蚀刻之后，在所述密封基板上设置卷曲辅助膜，其中，所述密封基板被设置在所述卷曲辅助膜与所述有机发光元件阵列之间，其中，所述卷曲辅助膜被构造为促进所述柔性显示装置卷曲成卷曲形式。

根据本公开，本装置包括所述支撑基板和所述缓冲基板二者，可以提高所述装置抵抗外部物理冲击的刚性。此外，可以防止由外部物理冲击或弯曲应力产生的裂纹在垂直方向上传递。因此，可以提高柔性显示装置的寿命和可靠性。此外，本公开可以防止由裂纹传播而导致的暗斑点缺陷，由此防止图像质量的劣化。

此外，根据本公开，用于制造柔性显示装置的方法排除使用激光剥离(llo)工艺来去除载体基板的过程。因此，可以防止由于激光剥离(llo)工艺而导致的缓冲基板的损坏。也就是说，可以防止缓冲基板与载体基板一起剥离或剥起(liftup)，否者这会发生在由于设置在载体基板的表面中的异物或裂纹而导致激光未被均匀地照射的区域中。因此，由于可以减少柔性显示装置的工艺缺陷，所以可以提高装置的可靠性和产量。

附图说明

图1示出了根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置的伸展状态、部分卷曲状态和完全卷曲状态。

图2是根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置的截面图。

图3示出了图2的薄膜晶体管阵列和有机发光元件阵列的截面的示例。

图4是图2的卷曲辅助膜的一个示例的顶视图。

图5是可在与图2中的示例不同的具有不包括支撑基板的结构的第一比较例中发生的缺陷的例示。

图6是可在与图2中的示例不同的具有不包括缓冲基板的结构的第二比较例中发生的缺陷的示例性例示。

图7是如何在根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置中抑制裂纹传播的例示。

图8是根据本公开的另一实施方式的柔性显示装置的截面图。

图9示出了根据本公开的一个实施方式的制造柔性显示装置的方法。

图10、图11、图12、图13、图14、图15和图16例示了与图9的方法步骤对应的中间结构的截面。

具体实施方式

为了例示的简洁和清楚，图中的元件不一定按比例绘制。不同图中的相同的附图标记表示相同或类似的元件，并且因此执行类似的功能。另外，为了描述的简洁性，省略了对公知的步骤和元件的描述和细节。此外，在本公开的以下详细描述中，许多具体细节被阐述以便提供对本公开的透彻理解。然而，将理解的是，可以在没有这些具体细节的情况下实践本公开。在其它情况下，尚未详细地描述公知的方法、过程、组件和电路，以免不必要地模糊本公开的各方面。

在下面进一步例示并描述各种实施方式的示例。将理解的是，本文的描述不旨在将权利要求限于所描述的具体实施方式。相反，它旨在涵盖可以被包括在如由所附权利要求限定的本公开的精神和范围内的另选方案、修改和等同物。

将理解的是，尽管可以在本文中使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，然而这些元件、组件、区域、层和/或部分不应该受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离本公开的精神和范围的情况下，在下面描述的第一元件、组件、区域、层或部分可被称为第二元件、组件、区域、层或部分。

将理解的是，当一元件或层被称为“连接到”或者“联接到”另一元件或层时，它可以直接地在另一元件或层上，连接到或者联接到另一元件或层，或者可以在它们之间存在一个或更多个中间元件或层。另外，也将理解的是，当一元件或层被称为“在”两个元件或层“之间”时，它可以是两个元件或层之间的唯一元件或层，或者也可以存在一个或更多个中间元件或层。

为了易于进行说明，可以在本文中使用空间相对术语(诸如“在…之下”、“在…下方”、“下部”、“在…下面”、“在…上方”、“上部”等)来像图所例示的那样描述一个元件或特征与另一元件或特征的关系。将理解的是，空间相对术语旨在包含除了图中描绘的定向之外的在使用中或在操作中的装置的不同定向。例如，如果图中的装置被翻转，则被描述为“在”其它元件或特征“下方”或“之下”或“下面”的元件然后将被定向“在”其它元件或特征“上方”。因此，示例术语“在…下方”和“在…下面”可包含在…上方和在…下方的两个定向。装置可以被以其它方式定向，例如，旋转90度或处于其它定向，并且本文使用的空间相对描述符应当被相应地解释。

本文使用的术语仅用于描述特定实施方式的目的，而不意在限制本公开。如本文所使用的，除非上下文另外清楚地指示，否则单数形式“一”和“一个”也旨在包括复数形式。还将理解的是，术语“包括”、“包括有”、“包含”和“包含有”当被用在本说明书中时，指定存在所陈述的特征、整数、操作、元件和/或组件，但是不排除一个或更多个其它特征、整数、操作、元件、组件和/或其各部分的存在或添加。如本文所使用的，术语“和/或”包括关联列举的项目中的一个或更多个的任何和所有组合。诸如“…中至少一个”之类的表述当在元件的列表之前时可以修饰元件的整个列表，并且可以不修饰列表的个别元件。

除非另外定义，否则本文使用的包括技术和科学术语的所有术语具有与由本发明构思所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。还将理解的是，除非在本文中明确地如此定义，否则术语(诸如常用词典中定义的那些)应该被解释为具有与其在相关领域的上下文中的含义一致的含义，而不应在理想化或过度正式的含义上进行解释。

在以下描述中，阐述了许多具体细节以便提供对本公开的透彻理解。可以在没有这些具体细节中的一些或全部的情况下实践本公开。在其它情况下，尚未详细地描述公知工艺结构和/或过程，以免不必要地模糊本公开。

在下文中，将参照附图详细地描述根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置。

图1示出了根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置的伸展状态、部分卷曲状态和完全卷曲状态。

如图1所例示，根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置100可以被实施为可在伸展形式(ps；平面形状)、部分卷曲形式(hrs；半卷曲形状)和完全卷曲形式(卷曲形状：rs)之间切换的可卷曲显示装置。

就此而言，当装置具有部分卷曲形式(hrs；半卷曲形状)和完全卷曲形式(卷曲形状：rs)时，柔性显示装置100可以以预定曲率半径r弯曲。

为此，柔性显示装置100可以用包括由柔性材料制成的基板的结构来实现。

图2是根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置的截面图。图3示出了图2的薄膜晶体管阵列和有机发光元件阵列的截面的示例。图4是图2的卷曲辅助膜的一个示例的顶视图。

如图2所例示，根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置100包括支撑基板110、设置在支撑基板110的一面上的缓冲基板120、设置在缓冲基板120上的薄膜晶体管阵列130以及设置在薄膜晶体管阵列130上方的密封基板140，其中，薄膜晶体管阵列130被设置在缓冲基板与密封基板之间并且因此被密封基板密封。

另选地，柔性显示装置100也可包括其它组件或元件。例如，柔性显示装置100还可包括，但不限于：有机发光元件阵列150，该有机发光元件阵列150被设置在薄膜晶体管阵列130与密封基板140之间；粘合膜160，该粘合膜160用于将密封基板140固定在有机发光元件阵列150上，其中，该粘合膜被设置在密封基板的一面上；卷曲辅助膜170，该卷曲辅助膜170被设置在密封基板140的另一面上；偏振膜180，该偏振膜180被设置在支撑基板110的另一面上。

此外，柔性显示装置100还可以包括与其伸展状态(图1中的ps)对应的底盖190。

支撑基板110具有第一厚度并且由第一材料制成。就此而言，可以将第一材料选择为能够透射光并且对诸如半导体材料和金属材料的蚀刻和热处理之类的工艺具有低反应性的材料。另外，可以将第一材料选择为在低于阈值的厚度下具有柔软性同时在超过阈值的厚度下具有刚性以使得其不会由于其重量而发生变形的材料。此外，可以将第一材料选择为可以经受蚀刻工艺和抛光工艺以减小其厚度的材料。作为示例，第一材料可以是玻璃。

此外，可以考虑到第一材料的柔软性、由对其的预定物理冲击产生的损坏以及维持形状和姿态的刚性来选择支撑基板110的第一厚度。作为示例，第一厚度可以在50μm(含)与100μm(含)之间。特别地，第一厚度可以是大约80μm。

缓冲基板120具有小于第一厚度的第二厚度，并且由比第一材料柔软的第二材料制成。

作为示例，可以从包括pet(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、pen(聚萘二甲酸乙二醇酯)、pi(聚酰亚胺)、pmma(聚甲基丙烯酸甲酯)、pc(聚碳酸酯)、ps(聚苯乙烯)和pes(聚醚砜)的组中选择第二材料。特别地，可以将第二材料选择为具有相对较高的可用性的pi。

可以选择缓冲基板120的第二厚度以防止缓冲基板120被剥起并且抑制透射率恶化以及通过缓冲基板120的裂纹传输。

作为示例，当第二材料是pi时，第二厚度可以在3到20μm(含)的范围内。

也就是说，当缓冲基板120的厚度小于3μm时，薄膜晶体管阵列130中的裂纹容易地转移到支撑基板110，并且/或者支撑基板110中的裂纹容易地转移到薄膜晶体管阵列130和有机发光元件阵列150。

另一方面，当缓冲基板120的厚度大于20μm时，弯曲应力可以使缓冲基板120容易地在卷曲状态(图1中的rs或hrs)下与支撑基板110或薄膜晶体管阵列130部分地分离或者从支撑基板110或薄膜晶体管阵列130剥起。此外，由于缓冲基板120具有大于20μm的厚度，可以降低装置的透射率。

根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置100包括具有第一厚度并且由第一材料制成的支撑基板110以及具有第二厚度并且由第二材料制成的缓冲基板120二者。结果，可以在其卷曲状态(图1中的rs或hrs)下实现预定曲率半径(图1中的r)。作为示例，当柔性显示装置100处于卷曲状态(图1中的rs或hrs)时，曲率半径(图1中的r)可以在40mm与3500mm(含)之间。

另外，因为装置包括支撑基板110和缓冲基板120二者，所以可以提高装置抵抗外部物理冲击的刚性。此外，可以防止由外部物理冲击或弯曲应力产生的裂纹在垂直方向上传递。因此，可以提高柔性显示装置100的寿命和可靠性。此外，本公开可以防止由裂纹传播产生的暗斑点缺陷，由此防止图像质量的劣化。

如图3所例示，薄膜晶体管阵列130限定与多个子像素对应的多个像素区域。阵列130包括与多个像素区域中的每一个对应的至少一个薄膜晶体管tft。

此外，有机发光元件阵列150包括与多个子像素对应的多个有机发光元件oled。

作为示例，设置在薄膜晶体管阵列130中的一个薄膜晶体管tft包括设置在缓冲基板120上的有源层act、设置在覆盖有源层act的栅绝缘膜131上的栅极ge以及设置在覆盖栅极ge的第一层间绝缘膜132上的源极se和漏极de。此外，源极se和漏极de被第二层间绝缘膜133覆盖。

就此而言，栅极ge被叠加在有源层act的沟道区域上。源极se连接到有源层act的源区域，然而漏极de连接到有源层act的漏区域。

当薄膜晶体管tft被实现为用于向有机发光元件oled供应驱动电流的驱动元件时，薄膜晶体管tft的源极se或漏极de连接到有机发光元件oled。

有机发光元件oled被设置在第二层间绝缘膜133上。

有机发光元件oled包括彼此面对的第一电极151和第二电极152，以及设置在彼此面对的第一电极151和第二电极152之间的有机发光层153。

此外，有机发光元件阵列150还可以包括覆盖第一电极151的边缘的堤层154。

再次参照图2，偏振膜180被构造为使从有机发光元件阵列150发射并且通过缓冲基板120和支撑基板110透射的光偏振。偏振膜180可以抑制由外部光产生的图像质量的劣化。

作为示例，偏振膜180可以具有170μm至650μm的范围内的厚度。

可以通过薄膜晶体管阵列130与密封基板140之间的粘合膜160将密封基板140固定在有机发光元件阵列150上。也就是说，虽然缓冲基板120和密封基板将薄膜晶体管阵列130和有机发光元件阵列150夹在它们之间，缓冲基板120和密封基板140经由粘合膜160彼此接合。

卷曲辅助膜170旨在使得柔性显示装置100能够被变形成卷曲形式。

作为示例，如图4所例示，卷曲辅助膜170可以包括至少一个基部171以及设置在基部171上并且间隔开预定距离的多个肋条的图案172。就此而言，肋条图案172可以被设置在一对基部171之间。

肋条图案172的肋条的布置方向对应于柔性显示装置100的卷曲方向。如图4所示，当装置100沿着柔性显示装置100的长边卷曲时，肋条图案的各个肋条的伸展方向与装置的短边平行，并且图案的肋条的布置方向与长边平行。

如上所述，根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置100包括由玻璃材料制成的支撑基板110以及由比玻璃材料柔性更高的塑料材料制成的缓冲基板120二者。

因此，可以提高装置抵抗外部物理冲击的刚性。此外，可以防止由外部物理冲击或弯曲应力产生的裂纹在垂直方向上传递。因此，可以提高柔性显示装置的寿命和可靠性。此外，本公开可以防止由裂纹传播产生的暗班点缺陷，由此防止图像质量的劣化。

图5是可在与图2的示例不同的、具有不包括支撑基板的结构的第一比较例中发生的缺陷的例示。图6是可在与图2的示例不同的、具有不包括缓冲基板的结构的第二比较例中发生的缺陷的示例性例示。图7是如何在根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置中抑制裂纹传播的例示。

如图5所例示，第一比较例ref1仅包括由塑料材料制成的缓冲基板12，而排除由玻璃材料制成的支撑基板。

在这种情况下，因为比较例的装置易受外部物理冲击的影响或对外部物理冲击敏感，所以在薄膜晶体管阵列13和有机发光元件阵列15中容易地出现由外部物理冲击产生的裂纹。特别地，当由外部物理冲击产生的裂纹容易地传递到有机发光元件oled时，存在子像素具有暗斑点缺陷的问题，这可以导致图像质量或使用寿命的劣化。

在此第一比较例ref1中，已经用实验方法确认了当正面击打强度是大约0.22j至1.08j时，也就是说，当正面击打强度的平均值是大约0.57j时，在其中出现裂纹。

另一方面，如图6所例示，第二比较例ref2仅包含玻璃材料的支撑基板11，而排除塑料材料的缓冲基板。

就此而言，第二比较例的装置与图5的第一比较例相比对于外部物理冲击可以具有较高的刚性。然而，第二比较例的装置具有由于弯曲应力而在一个基板中发生的裂纹容易地转移到另一基板的问题。也就是说，当由于装置的卷曲状态下的弯曲应力而在设置在薄膜晶体管阵列13和有机发光元件阵列15中的绝缘膜中发生裂纹时，已发生的裂纹可以容易地转移到玻璃材料的支撑基板11，使得可以从外部在视觉上辨识裂纹。结果，存在可发生图像质量的劣化、美学性质的劣化和使用寿命的劣化的问题。

在此第二比较例ref2中，已经用实验方法确认了当由于装置的卷曲状态下的弯曲应力而在设置在薄膜晶体管阵列13和有机发光元件阵列15中的绝缘膜中发生裂纹时，如果大约0.05j至0.09j的正面击打强度被施加到装置，也就是说，当正面击打强度的平均值是大约0.06j时，裂纹将会被传递到支撑基板11并且可以从外部在视觉上辨识裂纹。

相比而言，如图7所例示，根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置100具有玻璃材料的支撑基板110和塑料材料的缓冲基板120二者。结果，可以在本装置中抑制否则将会由外部物理冲击和弯曲应力产生的缺陷。

也就是说，因为缓冲基板120可以减轻要从其传递到薄膜晶体管阵列130和有机发光元件阵列150的外部物理冲击，所以可以减少由于部物理冲击而导致的裂纹(因而导致黑斑点缺陷)。

此外，可以防止在绝缘膜中由于弯曲应力而导致的裂纹转移到玻璃材料的支撑基板110。

此外，在本公开的一个实施方式中，已经用实验方法确认了当正面击打强度是大约0.61j至1.08j时，也就是说，当正面击打强度的平均值是大约0.92j时，在其中不发生裂纹。

换句话说，即使当根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置10接收到比如施加到如上所述的第一比较例和第二比较例的那些冲击强度大了从大约1.6倍至大约15.3倍的冲击强度时，根据本公开的一个实施方式的柔性显示装置100也可以维持正常状态而也不会在其中发生裂纹。结果，可以提高装置的可靠性和使用寿命。

为了进一步减小柔性显示装置中的边框区域，可以在支撑基板110上设置各种驱动单元。

图8是根据本公开的另一实施方式的柔性显示装置的截面图。

如图8所例示，在根据本公开的另一实施方式的柔性显示装置100'中，支撑基板110的横向侧面面向缓冲基板120'的内侧面。除了此构造之外，此实施方式的剩余构造与如图1至如4所例示的实施方式的构造相同。因此，可以省略两个实施方式之间的重叠部分的描述。

根据本公开的此实施方式，薄膜晶体管阵列130'被设置在缓冲基板120'的第一主面上，然而支撑基板110'被设置在缓冲基板120'的相反的第二主面上。支撑基板110的横向侧面面向缓冲基板120'的内侧面。对于此构造，缓冲基板120'在支撑基板110的边缘处部分地(在其侧边缘处)向上弯曲。

另外，设置在缓冲基板120'上的薄膜晶体管阵列130'的一部分被设置在支撑基板110的向上弯曲部分上。

以这种方式，非显示区域可以伸展到支撑基板110的侧边缘，使得可以进一步减小柔性显示装置100'的边框的宽度。

下文描述根据本公开的一个实施方式的用于制造柔性显示装置的方法。

图9示出了根据本公开的一个实施方式的制造柔性显示装置的方法。

图10、图11、图12、图13、图14、图15和图16例示了与图9的方法步骤对应的中间结构的截面。

如图9所例示，根据本公开的一个实施方式的用于制造柔性显示装置的方法包括提供载体基板的步骤s10、在载体基板的第一主面上设置缓冲基板的步骤s20、在缓冲基板上设置薄膜晶体管阵列的步骤s30、在薄膜晶体管阵列上设置有机发光元件阵列的步骤s40、在有机发光元件阵列上设置密封基板的步骤s50、对载体基板的一部分进行蚀刻和抛光以提供具有第一厚度并且接触缓冲基板的支撑基板的步骤s60、设置偏振膜的步骤s70，在支撑基板的与缓冲基板相反的主面上设置被构造为使从有机发光元件阵列发出的光偏振的偏振膜的步骤s70以及在密封基板上设置促进卷曲形式的形成的卷曲辅助膜的步骤s80。

如图10所示，提供由第一材料制成的载体基板111(s10)。随后，在载体基板111上设置由比第一材料柔性更高的第二材料制成的缓冲基板(s20)。

就此而言，可以将第一材料选择为能够透射光并且对诸如半导体材料和金属材料的蚀刻和热处理的工艺具有低反应性的材料。

另外，可以将第一材料选择为在低于阈值的厚度下具有柔软性同时在超过阈值的厚度下具有刚性使得其不会由于其重量而发生变形的材料。此外，可以将第一材料选择为可以经受蚀刻工艺和抛光工艺以减小其厚度的材料。作为示例，第一材料可以是玻璃，但被公开不限于此。

此外，可以在一范围内选择载体基板111的厚度，该范围被构造为使得基板能够具有刚性以使得不会由于基板自己的重量而发生基板的形状变形，并且使得基板能够具有允许其容易运输的重量。作为示例，当载体基板111由玻璃制成时，载体基板111的厚度可以在400至700μm的范围内。

缓冲基板120由比第一材料柔软的第二材料制成。作为示例，可以从包括pet(聚对苯二甲酸乙二醇酯)、pen(聚萘二甲酸乙二醇酯)、pi(聚酰亚胺)、pmma(聚甲基丙烯酸甲酯)、pc(聚碳酸酯)、ps(聚苯乙烯)和pes(聚醚砜)的组中选择第二材料。特别地，可以将第二材料选择为具有相对较高的可用性的pi。

可以选择缓冲基板120的厚度以防止缓冲基板120被剥起，并且抑制透射率恶化以及通过缓冲基板120的裂纹传递。作为示例，当第二材料是pi时，缓冲基板的厚度可以在3至20μm(含)的范围内。

如图11所例示，在缓冲基板120上设置薄膜晶体管阵列130(s30)。然后，在薄膜晶体管阵列130上设置有机发光元件阵列150(s40)。

如图3所例示，薄膜晶体管阵列130限定与多个子像素对应的多个像素区域。阵列130包括与多个像素区域中的每一个对应的至少一个薄膜晶体管tft。

此外，有机发光元件阵列150包括与多个子像素对应的多个有机发光元件oled(如图3所示)。

如图12所例示，在有机发光元件阵列150上设置密封基板140使得密封基板140面向缓冲基板120(s50)。

如图12所示，可以通过薄膜晶体管阵列130与密封基板140之间的粘合膜160将密封基板140固定在有机发光元件阵列150上。也就是说，虽然缓冲基板120和密封基板140将薄膜晶体管阵列130和有机发光元件阵列150夹在其之间，但是缓冲基板120和密封基板140经由粘合膜160彼此接合。

此外，如图13所例示，对载体基板的一部分111'进行蚀刻和抛光以提供第一厚度的支撑基板110(s60)。

如以上所指出的，缓冲基板120被设置在载体基板111的第一主面上。因此，在提供支撑基板110之后，薄膜晶体管阵列130被设置在缓冲基板120的第一主面上，同时支撑基板111被设置在缓冲基板120的相反的第二主面上。

就此而言，可以将第一材料选择为在低于阈值的厚度下具有柔软性同时在超过阈值的厚度下具有刚性使得其不会由于其重量而发生变形的材料。此外，可以将第一材料选择为可以经受蚀刻工艺和抛光工艺以减小其厚度的材料。作为示例，第一材料可以是玻璃。

此外，可以考虑到第一材料的柔软性、由对其的预定物理冲击产生的损坏以及维持形状和姿态的刚性来选择支撑基板110的第一厚度。作为示例，第一厚度可以在50μm(含)与100μm(含)之间。特别地，第一厚度可以是大约80μm。

如图14所例示，在支撑基板110的露出的主表面上设置偏振膜180(s70)。

就此而言，偏振膜180被构造为使从有机发光元件阵列150发射并且通过缓冲基板120和支撑基板110透射的光偏振。偏振膜180可以抑制由外部光产生的图像质量的劣化。作为示例，偏振膜180可以具有170μm至650μm的范围内的厚度。

如图15所例示，将卷曲辅助膜170放置在密封基板140的露出的主表面上(s80)。卷曲辅助膜170旨在使得柔性显示装置100能够被变形成卷曲形式。作为示例，如图4所例示，卷曲辅助膜170可以包括至少一个基部171以及设置在基部171上并且间隔开预定距离的多个肋条的图案172。就此而言，肋条图案172可以被设置在一对基部171之间。

此外，如图16所例示，当柔性显示装置100维持伸展的平坦形状时，显示模块dm可以被容纳在与平坦形状对应的底盖190中。

就此而言，显示模块dm可以包括偏振膜180、支撑基板110、缓冲基板120、薄膜晶体管阵列130、有机发光元件阵列150、粘合膜160、密封基板140和卷曲辅助膜170。

另外，尽管在附图中未单独地例示，然而制造根据本公开的另一实施方式的柔性显示装置(图8中的100')的方法还可以包括，在对载体基板的部分111'进行蚀刻和抛光以提供第一厚度的支撑基板110的步骤s60之后，去除支撑基板110的边缘部分以使缓冲基板120的面对支撑基板110的面的边缘区域暴露的另一个步骤；以及使缓冲基板120弯曲使得缓冲基板120的已暴露的边缘部分面对支撑基板110的外侧面的另一个步骤。

以这种方式，根据本公开的一个实施方式的用于制造柔性显示装置的方法不包括使用激光剥离(llo)工艺的去除载体基板111的过程。因此，可以防止由于激光剥离(llo)工艺而导致的缓冲基板120的损坏。也就是说，可以防止缓冲基板120与载体基板111一起剥离或剥起，这另外可能发生在激光由于设置在载体基板111的表面中的异物或裂纹未被均匀地照射的区域中。因此，因为可以减少柔性显示装置100的工艺缺陷，所以可以提高装置的可靠性和产量。

在以上描述中，阐述了许多具体细节以便提供对本公开的透彻理解。可以在没有这些具体细节中的一些或全部的情况下实践本公开。已经在上面例示并描述了各种实施方式的示例。应理解的是，本文描述不旨在将权利要求限于所描述的具体实施方式。相反，它旨在涵盖如可以被包括在如由所附权利要求限定的本公开的精神和范围内的另选方案、修改和等同物。