薄膜晶体管阵列基板制造方法与流程

文档序号:17597538发布日期:2019-05-07 19:42阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明公开一种薄膜晶体管阵列基板制造方法,包括:提供基板,在基板上形成间隔设置的栅极和第一电极;形成第一绝缘层,并在第一绝缘层上依次形成对应栅极而设的半导体层、源极和漏极;形成第二绝缘层,并在第二绝缘层上形成第一接触孔,使漏极的上表面的一部分从第一接触孔露出;对漏极的上表面进行粗糙化处理;形成第二电极,第二电极穿过第一接触孔与漏极电性连接。本发明薄膜晶体管阵列基板制造方法,通过对漏极的上表面进行粗糙化处理,在第二电极与漏极电性连接时,其间的接触面积大大增加,由此降低了第二电极与漏极之间的接触电阻,而又能保证薄膜晶体管阵列基板的高开口率、高分辨率和低成本。

技术研发人员:李家琪;黄舒宁
受保护的技术使用者:昆山龙腾光电有限公司
技术研发日:2018.12.10
技术公布日:2019.05.07
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